(TwistedNematic，TN)方式、垂直取向（VerticalAlignment，VA)方式、面內(nèi)切換 (In-Plane-Switching，IPS)方式、邊緣場切換（FringeFieldSwitching，F(xiàn)FS)方式、光學(xué) 補(bǔ)償彎曲（OpticallyCompensatedBend，0CB)方式等。
[0373] 在面板構(gòu)成中，彩色濾光片陣列（ColorFilteronArray，C0A)方式的液晶顯 示裝置中也可使用本發(fā)明的硬化膜，例如可用作日本專利特開2005-284291的有機(jī)絕緣膜 (115)或日本專利特開2005-346054的有機(jī)絕緣膜（212)。另外，本發(fā)明的液晶顯示裝置可 取的液晶取向膜的具體取向方式可舉出摩擦取向法、光取向法等。另外，也可通過日本專利 特開2003-149647號公報(bào)或日本專利特開2011-257734號公報(bào)中記載的聚合物支持取向 (PolymerSustainedAlignment，PSA)技術(shù)來進(jìn)行聚合物取向支持。
[0374] 另外，本發(fā)明的硬化性組合物及本發(fā)明的硬化膜不限定于所述用途，可用于各種 用途。例如除了平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，也可合適地用作彩色濾光片的保護(hù)膜、或液晶 顯示裝置中的用來將液晶層保持于一定厚度的間隔件、或固體攝像元件中設(shè)置在彩色濾光 片上的微透鏡等。
[0375] 圖1為表示有源矩陣方式的液晶顯示裝置10的一例的概念性截面圖。該彩色液 晶顯示裝置10為在背面上具有背光單元12的液晶面板，且液晶面板中配置有TFT16的元 件，該TFT16的元件與在貼附有偏光膜的2片玻璃基板14、玻璃基板15之間配置的所有像 素相對應(yīng)。對于形成在玻璃基板上的各元件，通過形成在硬化膜17中的接觸孔18而進(jìn)行 形成像素電極的IT0透明電極19的配線。在IT0透明電極19上，設(shè)有液晶20的層及配置 有黑色矩陣的紅綠藍(lán)（RedGreenBlue，RGB)彩色濾光片22。
[0376] 背光的光源并無特別限定，可使用眾所周知的光源。例如可舉出：白色LED、藍(lán) 色?紅色?綠色等的多色LED、熒光燈（冷陰極管）、有機(jī)EL等。
[0377] 另外，液晶顯示裝置可制成三維（Threedimension，3D)(立體視）型，也可制成觸 摸屏型。進(jìn)而也可制成柔性型，可用作日本專利特開2011-145686號公報(bào)中記載的第2層 間絕緣膜（48)、或日本專利特開2009-258758號公報(bào)中記載的層間絕緣膜（520)。
[0378] (有機(jī)EL顯示裝置）
[0379] 本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置具有本發(fā)明的硬化膜。
[0380] 本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置除了具有使用本發(fā)明的硬化性組合物所形成的平坦化 膜或?qū)娱g絕緣膜以外，并無特別限制，可舉出采取各種結(jié)構(gòu)的眾所周知的各種有機(jī)EL顯示 裝置或液晶顯示裝置。
[0381] 例如本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置所具備的薄膜晶體管（Thin-FilmTransistor， TFT)的具體例可舉出非晶硅-TFT、低溫多晶硅-TFT、氧化物半導(dǎo)體TFT等。本發(fā)明的硬化 膜由于電特性優(yōu)異，因此可組合到這些TFT中而優(yōu)選地使用。
[0382] 圖2為有機(jī)EL顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖，表示底部發(fā)光型的有機(jī)EL顯示裝 置中的基板的示意性截面圖，具有平坦化膜4。
[0383] 在玻璃基板6上形成底部柵極型的TFT1，以覆蓋該TFT1的狀態(tài)形成包含Si3N4的 絕緣膜3。在絕緣膜3中形成這里省略圖示的接觸孔后，在絕緣膜3上形成經(jīng)過該接觸孔而 連接于TFT1的配線2(高度1. 0ym)。配線2是用來將TFT1間連接、或?qū)⒑罄m(xù)工序中形成 的有機(jī)EL元件與TFT1連接的配線。
[0384] 進(jìn)而，為了使因形成配線2所致的凹凸平坦化，以填埋由配線2所致的凹凸的狀態(tài) 在絕緣膜3上形成平坦化膜4。
[0385] 在平坦化膜4上形成有底部發(fā)光型的有機(jī)EL元件。即，在平坦化膜4上，經(jīng)由接 觸孔7連接于配線2而形成包含IT0的第一電極5。另外，第一電極5相當(dāng)于有機(jī)EL元件 的陽極。
[0386] 形成覆蓋第一電極5的邊緣的形狀的絕緣膜8,通過設(shè)置該絕緣膜8,可防止第一 電極5與其后續(xù)工序中形成的第二電極之間的短路。
[0387] 進(jìn)而，圖2中雖未圖示，但隔著所需的圖案掩模依次蒸鍍設(shè)置空穴傳輸層、有機(jī)發(fā) 光層、電子傳輸層，然后在基板上方的整個面上形成包含A1的第二電極，使用密封用玻璃 板及紫外線硬化型環(huán)氧樹脂進(jìn)行貼合，由此進(jìn)行密封，獲得對各有機(jī)EL元件連接用來驅(qū)動 所述各有機(jī)EL元件的TFT1而成的有源矩陣型的有機(jī)EL顯示裝置。
[0388] (觸摸屏及觸摸屏顯示裝置）
[0389] 本發(fā)明的觸摸屏為絕緣層和/或保護(hù)層的全部或一部分包含本發(fā)明的硬化性組 合物的硬化物的觸摸屏。另外，本發(fā)明的觸摸屏優(yōu)選的是至少具有透明基板、電極及絕緣層 和/或保護(hù)層。
[0390] 本發(fā)明的觸摸屏顯示裝置優(yōu)選的是具有本發(fā)明的觸摸屏的觸摸屏顯示裝置。本發(fā) 明的觸摸屏可為電阻膜方式、靜電電容方式、超聲波方式、電磁感應(yīng)方式等眾所周知的方式 的任一種。其中，優(yōu)選靜電電容方式。
[0391] 靜電電容方式的觸摸屏可舉出日本專利特開2010-28115號公報(bào)中公開的觸摸 屏、或國際公開第2012/057165號中公開的觸摸屏。
[0392] [實(shí)施例]
[0393] 以下舉出實(shí)施例對本發(fā)明加以更具體說明。以下的實(shí)施例中所示的材料、使用量、 比例、處理內(nèi)容、處理順序等只要不偏離本發(fā)明的主旨，則可適當(dāng)變更。因此，本發(fā)明的范圍 不限定于以下所示的具體例。此外，只要無特別說明，則"份"％ "為質(zhì)量基準(zhǔn)。
[0394] 〈合成例1>
[0395] 使四正丁氧化鈦34. 0g(0. 10摩爾）溶解在正丁醇12. 0g中后，滴加水2. 7g(0. 15 摩爾）與正丁醇24. 0g的混合液。滴加結(jié)束后，攪拌1小時后，進(jìn)而加熱回流1小時，獲得 鈦氧烷溶液A-4。
[0396] 〈合成例2>
[0397] 使四正丁氧化鈦34. 0g(0. 10摩爾）溶解在正丁醇12. 0g中后，滴加水1. 8g(0. 10 摩爾）與正丁醇24. 0g的混合液。滴加結(jié)束后，攪拌1小時后，進(jìn)而加熱回流1小時，獲得 鈦氧燒溶液A-5。
[0398] 〈合成例3>
[0399] 使四正丁氧化鈦34. 0g(0. 10摩爾）溶解在正丁醇12. 0g中后，滴加水 1. 35g(0. 075摩爾）與正丁醇24. 0g的混合液。滴加結(jié)束后，攪拌1小時后，進(jìn)而加熱回流 1小時，獲得鈦氧烷溶液A-6。
[0400] (實(shí)施例1~實(shí)施例23及比較例1~比較例7)
[0401] 〈硬化性組合物的制備〉
[0402] 將下述表1中記載的各成分調(diào)配?攪拌，利用孔徑0. 3 ym的聚四氟乙烯制過濾器 進(jìn)行過濾，分別獲得實(shí)施例1~實(shí)施例23及比較例1~比較例7的硬化性組合物。此外， 下述表1的各成分的添加量表不該成分的固體成分量，利用同樣記載在表1中的溶劑成分 以組合物中的固體成分成為10質(zhì)量％的濃度的方式制備。另外，單位為質(zhì)量份，是指 不含該成分。
[0403]
[0404] A_1 :欽氧焼 1 (PC-200,松本精化（MatsumotoFineChemical)(股）制造）
[0405] A-2 :鈦氧烷2 (B-4,日本曹達(dá)（股）制造）
[0406] A_3 :四正丁氧化錯（ZA-65,松本精化（MatsumotoFineChemical)(股）制造）
[0407] A-4 :合成例1中制作的鈦氧烷
[0408] A-5 :合成例2中制作的鈦氧烷
[0409] A-6 :合成例3中制作的鈦氧烷
[0410] B-1 :甲基丙烯酸-2-乙酰基乙酰氧基乙酯（日本合成化學(xué)工業(yè)（股）制造）
[0411] B-2 :乙酰乙酸乙酯（日本合成化學(xué)工業(yè)（股）制造）
[0412] B-3 :乙酰丙酮（東京化成工業(yè)（股）制造）
[0413] B-4 :鄰苯二甲酸二烯丙酯（東京化成工業(yè)（股）制造）
[0414] B-5 :A_DPH(二季戊四醇六丙烯酸酯，新中村化學(xué)工業(yè)（股）制造）
[0415] B-6 :A-TMMT(季戊四醇四丙烯酸酯，新中村化學(xué)工業(yè)（股）制造）
[0416] C-1 :引發(fā)劑1(下述化合物，參照日本專利特開2009-134289號公報(bào)中記載的特定 化合物1的合成方法來合成）
[0417] C-2 :引發(fā)劑2(艷佳固（IRGACURE)0XE-02,下述化合物，日本巴斯夫（BASFJapan) (股）制造）
[0418] D-l:PGMEA(丙二醇單甲醚乙酸酯，昭和電工（股）制造）
[0419] D-2 :海索布（Hisolve)EPH(乙二醇單苯醚，東邦化學(xué)工業(yè)（股）制造）
[0420] E-l:y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷（KBM-403,信越化學(xué)工業(yè)（股）制造）
[0421] E-2 :3_丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷（KBM-5103,信越化學(xué)工業(yè)（股）制造）
[0422] F-1 :甲基丙烯酸2-乙基己酯（東京化成工業(yè)（股）制造）
[0423] W-1 :含全氟烷基的非離子表面活性劑（F-554,迪愛生（DIC)(股）制造）
[0424] [化 12]
[0425n
[0426] [化 13]
[0427]
[0428] 〈硬化膜的制作〉
[0429] 將表1中記載的硬化性組合物分別旋涂在40cmX30cm的玻璃基板上，在加熱板上 預(yù)烘烤（90°C、120秒鐘）后，使用超高壓水銀燈以300mJ/cm2進(jìn)行全面曝光后，進(jìn)行230°C、 60分鐘的加熱處理。
[0430] 涂布硬化性組合物時的涂布性良好，加熱處理后所得的硬化膜中未確認(rèn)到皺褶或 裂縫的產(chǎn)生。所制作的硬化膜的膜厚分別為lOOnm。
[0431] 〈折射率的評價〉
[0432]對所述獲得的硬化膜利用分光橢偏儀（尤尼賽爾（UVISEL)，崛場制作所（股）制 造）來測定550nm下的硬化膜的折射率，按照以下基準(zhǔn)進(jìn)行評價。
[0433] A: 1.68 以上
[0434] B: 1. 65 以上且小于 1. 68
[0435] C: 1. 62 以上且小于 1. 65
[0436] D: 1. 60 以上且小于 1. 62
[0437] E:小于 1. 60
[0438] 〈裂縫的評價〉
[0439] 對所述獲得的硬化膜利用批次式濺鍍裝置（SV-6040,愛科發(fā)（Ulvac)(股）制造） 在250°C的溫度條件下濺鍍蒸鍍50nm的氧化銦錫（IT0)，遍及基板整個面進(jìn)行目測評價，由 此按以下基準(zhǔn)進(jìn)行評價。
[0440] A:完全無裂縫
[0441] B:裂縫為1個以上且2個以下
[0442] C:裂縫為3個以上且5個以下（迄今為止可實(shí)用的水平）
[0443] D:裂縫為6個以上且10個以下
[0444] E:裂縫多于10個
[0445]將實(shí)施例1~實(shí)施例23及比較例1~比較例7中所得的各硬化膜的評價結(jié)果匯 總示于表2中。所謂"因白濁化而無法評價"，表示硬化時刻的硬化膜總體白濁，無法進(jìn)行折 射率的評價，所謂"因面狀劣化而無法評價"，表示硬化時刻的硬化膜的面狀差，無法進(jìn)行折 射率或裂縫的評價。
[0446] 此外，實(shí)施例1~實(shí)施例6中的各硬化膜的折射率分別如下。
[0447] 實(shí)施例1 :1. 68、實(shí)施例2 :1. 69、實(shí)施例3 :1. 64、實(shí)施例4 :1. 68、實(shí)施例5 :1. 69、 實(shí)施例6 :1. 70。
[0448] [表 2]
[0449]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種硬化性組合物，其特征在于含有： 作為成分A的選自由下述al~a3所組成的組群中的至少一種， al :具有烷氧基的鈦化合物和/或鋯化合物， a2 :具有鹵素基的鈦化合物和/或鋯化合物， a3 :具有至少一個直接鍵結(jié)于鈦原子或鋯原子的烷氧基的鈦氧烷、鋯氧烷和/或鈦氧 烷-鋯氧烷縮合物； 作為成分B的選自由下述bl及b2所組成的組群中的至少一種， bl :具有鈦配位性基和/或鋯配位性基以及兩個以上的乙烯性不飽和基的化合物， b2 :具有鈦配位性基和/或鋯配位性基的化合物以及具有兩個以上的乙烯性不飽和基 的化合物； 作為成分C的聚合引發(fā)劑；以及 作為成分D的溶劑，并且 相對于硬化性組合物的總固體成分，成分A的含量為15質(zhì)量％以上且小于40質(zhì)量％， 相對于硬化性組合物的總固體成分，成分B的含量為40質(zhì)量％以上且小于85質(zhì)量％， 相對于成分A的含量100質(zhì)量份，所述具有鈦鋯配位性基和/或鋯配位性基以及兩個 以上的乙烯性不飽和基的化合物、及所述具有鈦配位性基和/或鋯配位性基的化合物的總 含量為20質(zhì)量份~140質(zhì)量份。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬化性組合物，其特征在于：所述鈦配位性基和/或鋯配位 性基為可通過氧原子而配位在鈦原子和/或鋯原子上的基團(tuán)。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬化性組合物，其特征在于：所述鈦配位性基和/或鋯 配位性基為具有選自由以下結(jié)構(gòu)所組成的組群中的至少一個結(jié)構(gòu)的基團(tuán)：1，2_二酮結(jié)構(gòu)、 1，3-二酮結(jié)構(gòu)、1，4-二酮結(jié)構(gòu)、a-羥基酮結(jié)構(gòu)、a-羥基酯結(jié)構(gòu)、a-酮基酯結(jié)構(gòu)、(6-酮 基酯結(jié)構(gòu)、丙二酸二酯結(jié)構(gòu)、富馬酸二酯結(jié)構(gòu)及鄰苯二甲酸二酯結(jié)構(gòu)。4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬化性組合物，其特征在于：成分C包含光聚合引發(fā)劑。5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬化性組合物，其特征在于：成分C包含肟酯化合物。6. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬化性組合物，其特征在于：所述a3為通過0. 5倍~ 1. 9倍摩爾量的水使選自所述al的化合物組群中的至少一種進(jìn)行水解縮合所得的鈦氧烷、 鋯氧烷和/或鈦氧烷-鋯氧烷縮合物。7. -種硬化物的制造方法，其特征在于：至少依次包括工序1~工序3， 工序1 :涂布工序，將根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬化性組合物涂布在基板上； 工序2 :溶劑除去工序，從所涂布的硬化性組合物中除去溶劑； 工序3 :硬化工序，通過光和/或熱使除去了溶劑的硬化性組合物硬化。8. -種硬化物，其是通過根據(jù)權(quán)利要求7所述的硬化物的制造方法而獲得。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的硬化物，其特征在于：波長550nm下的折射率為1. 60~1. 80。10. -種硬化膜，其是使根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬化性組合物硬化而成。11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的硬化膜，其為折射率調(diào)整膜、層間絕緣膜或保護(hù)膜。12. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的硬化膜，其特征在于：波長550nm下的折射率為1. 60~ 1. 80〇13. -種液晶顯示裝置，具有根據(jù)權(quán)利要求10所述的硬化膜。14. 一種有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置，具有根據(jù)權(quán)利要求10所述的硬化膜。15. -種觸摸屏顯示裝置，具有根據(jù)權(quán)利要求10所述的硬化膜。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種硬化性組合物、硬化物的制造方法、硬化物、硬化膜及顯示裝置。本發(fā)明的硬化性組合物含有：成分A：水解縮合性鈦和/或鋯化合物、成分B：可為與鈦配位性成分和/或鋯配位性成分以及所述配位性成分相同的化合物的多官能聚合性成分、成分C：聚合引發(fā)劑、以及成分D：溶劑，且相對于硬化性組合物的總固體成分，成分A的含量為15質(zhì)量％以上且小于40質(zhì)量％，相對于硬化性組合物的總固體成分，成分B的含量為40質(zhì)量％以上且小于85質(zhì)量％，相對于成分A的含量100質(zhì)量份，鈦配位性成分和/或鋯配位性成分的含量為20質(zhì)量份～140質(zhì)量份。本發(fā)明可兼具所得的硬化物的折射率與硬化后的抗裂縫性。
【IPC分類】G03F7/027, G03F7/004, G02B1/14, G02F1/1333
【公開號】CN105022227
【申請?zhí)枴緾N201510214243
【發(fā)明人】柏木大助, 鈴木成一, 伊藤寛晃, 安藤豪, 河邉保雅
【申請人】富士膠片株式會社
【公開日】2015年11月4日
【申請日】2015年4月29日