專利名稱：一種新型轉印板的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及薄膜場效應晶體管(TFT)-液晶顯示器(IXD)工藝中的聚酰亞胺(PI)液轉印技術，尤其涉及一種新型轉印(APR)板。
背景技術：
在現(xiàn)有TFT-1XD的制作工藝中，為了得到亮度均勻、對比度高、以及響應速度快的產品，必須使液晶盒內的液晶分子沿著某一特定的方向排列，為此必須在氧化銦錫(ITO)玻璃基板上形成一層均勻的PI液，制作工藝中所使用的涂布裝置如圖1所示，工藝流程如下:首先，將PI液通過分液器(Dispenser)3滴加到網紋棍(Anilox Roll) I與刀棍(BladeRoll) 2接觸的位置，刀輥(Blade Roll) 2把網紋輥(Anilox Roll) I上的PI液涂布均勻，網紋輥(Anilox Roll) I與掛有形成圖形的APR板4的版胴7相接觸，將PI液轉印到APR板4上，最后通過APR板4把PI液印刷到玻璃基板5的表面形成取向膜。如圖2所示，所述APR板4由APR層9和基膜10兩部分構成，APR層9較厚的位置為APR板的活性區(qū)域11。在實際生產過程中，APR板與玻璃基板之間的作用力，也就是涂布壓力作用在APR板的末端，使得PI液向玻璃基板的四周擴散，導致APR板邊緣的PI液以過于飽和的狀態(tài)印刷到玻璃基板活性區(qū)域(Active area)的四周，導致PI膜的膜質不均勻，且過厚，產生光暈區(qū)域(Haro area)ο所述玻璃基板的活性區(qū)域(Active area)為圖3中15所示,所述光暈區(qū)域(Haro area)為圖3中14所示,光暈區(qū)域(Haro area) 14的PI膜厚度要大于活性區(qū)域(Active area) 15的PI膜厚度。因光暈區(qū)域(Haro area)的液晶不能正常取向,所以光暈區(qū)域(Haro area)不能出現(xiàn)在玻璃基板的活性區(qū)域(Active Area)內。此外,光暈區(qū)域(Haro area)還會引起液晶盒間隙增加,導致異物進入,影響液晶顯示器的品質。為了解決上述問題，目前工業(yè)上主要通過擴大PI膜的邊緣余量(Edge Margin)來控制光暈區(qū)域(Haro area)對液晶顯示器品質的影響,所述邊緣余量(Edge Margin)如圖3中a所示，即活性區(qū)域(Active area) 15到PI膜邊緣的距離。事實上,光暈區(qū)域(Haroarea)的尺寸并沒有減小,只是遠離了活性區(qū)域(Active area)。這樣,又會引起PI液與密封(Seal)膠的交疊，特別是在生產小尺寸產品的時候該問題尤為突出，嚴重影響液晶的顯不品質。
實用新型內容有鑒于此，本實用新型的主要目的在于提供一種新型APR板，從而解決目前PI膜的光暈區(qū)域(Haro area)明顯、PI膜邊緣與Seal膠交疊所引起的顯示不良的問題。為達到上述目的，本實用新型的技術方案是這樣實現(xiàn)的:—種新型轉印板，包括轉印層(9)和基膜(10);所述轉印板活性區(qū)域(11)的邊緣設置為圓弧形。上述方案中，所述圓弧的終點d位于轉印板活性區(qū)域的邊緣，終點d處的切線與轉印板平面之間成一夾角Φ。[0009]上述方案中，所述夾角Φ設置為:30°彡Φ彡60°。上述方案中，所述圓弧區(qū)域中的網點比非圓弧處理區(qū)域中的網點排列稀疏。本實用新型提供的新型APR板，對APR板活性區(qū)域的邊緣進行圓弧處理，應用這種新型的APR板轉印PI液時，因為APR板末端過于飽和的PI液被吸附在凹槽內，而這些凹槽與玻璃基板的距離比非圓弧處理區(qū)域與玻璃基板的距離大一些，所以APR板末端與玻璃基板之間的涂布壓力就小一些，因此，本實用新型的APR板在轉印PI液時，在玻璃基板上幾乎不會形成光暈區(qū)域(Haro area),也就是說,光暈區(qū)域(Haro area)的尺寸將大幅降低,應用這種新型的APR板在轉印PI液的過程中，即便在APR板的末端有較強的涂布壓力，也能在玻璃基板上形成厚度均勻的取向膜，提高了 PI液的涂覆精度。另外，因本實用新型APR板末端與玻璃基板之間的涂布壓力相對較小，所以本實用新型在玻璃基板上所形成的邊緣余量(Edge Margin)比現(xiàn)有的邊緣余量(Edge Margin)小，可在一定程度上節(jié)省PI液的用量。此外，本實用新型圓弧處理區(qū)中所設置的網點比非圓弧處理區(qū)中的網點稀疏，所以圓弧處理區(qū)可吸附更多的PI液，同樣降低光暈區(qū)域(Haro area)形成的可能性。
圖1為現(xiàn)有TFT-1XD制作工藝中所使用的涂布裝置結構示意圖；圖2為現(xiàn)有APR板的剖視圖和平面圖；圖3為現(xiàn)有APR板轉印PI液時的剖視圖和玻璃基板的平面圖；圖4為本實用新型APR板的剖視圖和平面圖；圖5為本實用新型APR板轉印PI液時的剖視圖和玻璃基板的平面圖。附圖標記說明:I 網紋棍(Anilox Roll) ;2 刀棍(Blade Roll) ;3 分液器(Dispenser) ;4APR 板；5玻璃基板；6基臺；7版胴；8PI液；9APR層；10基膜；11活性區(qū)域；12假想線；13圓弧處理區(qū)；點c為圓弧的起點；點d為圓弧的終點；Φ為點d的切線與基膜的夾角；14光暈區(qū)域(Haro area) ； 15 活性區(qū)域(Active area) ；16 凹槽;a、b 為邊緣余量(Edge Margin)。
具體實施方式
本實用新型的基本思想是:將APR板活性區(qū)域的邊緣設置為圓弧形，使得在轉印PI液時，能在玻璃基板上形成均勻的PI液涂層。
以下結合附圖及具體實施例對本實用新型作進一步詳細說明。圖4為本實用新型APR板的剖視圖和平面圖，對APR板活性區(qū)域的邊緣做圓弧處理，如圖4所示，在假想線12以外的區(qū)域做圓弧處理，在剖視圖中，點c為圓弧處理的起點，位于所述假想線12上，點c處的切線，即圖4中的點劃線與APR板平面平行。點d為圓弧處理的終點與取向膜末端的交界處，位于APR板活性區(qū)域的邊緣，點d處的切線，SP圖4中的點劃線與APR板平面的夾角為Φ，根據APR板不同的尺寸，Φ的大小可設置為30° ≤ Φ ≤ 60°。APR板的尺寸越大,所設置的Φ則越小；APR板的尺寸越小,所設置的Φ則越大，原因為:如果APR板的尺寸較大,其邊緣余量(edge margin)也相應較大，因此APR板活性區(qū)域的圓弧設置得比較平滑，所以Φ較?。蝗绻鸄PR板的尺寸較小，其邊緣余量(edge margin)也相應較小，因此APR板活性區(qū)域的圓弧設置得比較陡，所以Φ較大。圖5為本實用新型APR板轉印PI液時的剖視圖和玻璃基板的平面圖，結合圖4和圖5可以看出，本實用新型的APR板在轉印PI液時，擠壓到APR板邊緣位置的，即擠壓到APR板圓弧處理區(qū)的，過飽和的PI液被吸附在APR板的凹槽16內，而這些凹槽與玻璃基板的距離較現(xiàn)有技術來說較大，所以APR板末端與玻璃基板之間的涂布壓力較現(xiàn)有技術來說較小，過飽和的PI液基本不會涂覆到玻璃基板上，而是停留在APR板的圓弧處理區(qū)。因此，本實用新型的APR板在轉印PI液時，在玻璃基板上幾乎不會形成光暈區(qū)域(Haro area)，所以，不管在玻璃基板活性區(qū)域(Active area)的內側還是外側，PI膜的厚度都是均勻一致的，如圖5所示。進一步地，本實用新型還對APR板圓弧處理區(qū)中的網點排列進行如下設置:如圖4所示，與APR板假想線12內側的網點相比，所述圓弧處理區(qū)中的網點排列相對稀疏些，這樣，圓弧處理區(qū)中的凹槽16與假想線12內側的凹槽相比，容積更大一些，可吸附更多的PI液，同樣可降低光暈區(qū)域(Haro area)形成的可能性。此外，因APR板末端與玻璃基板之間的涂布壓力變小，所以APR板轉印時，在玻璃基板上所形成的邊緣余量(Edge Margin)比現(xiàn)有的邊緣余量(Edge Margin)小，即圖5中所示的b小于圖3中所示的a,也就是說,在玻璃基板上涂覆的PI液相對現(xiàn)有技術有所減少,因此本實用新型可在一定程度上節(jié)省PI液的用量。以上所述，僅為本實用新型的較佳實施例而已，并非用于限定本實用新型的保護范圍。
權利要求1.一種新型轉印板，包括轉印層(9)和基膜(10);其特征在于，所述轉印板活性區(qū)域(11)的邊緣設置為圓弧形。
2.根據權利要求1所述的新型轉印板，其特征在于，所述圓弧的終點d位于轉印板活性區(qū)域的邊緣，終點d處的切線與轉印板平面之間成一夾角Φ。
3.根據權利要求2所述的新型轉印板，其特征在于，所述夾角Φ設置為:30?！?Φ≤ 60°。
4.根據權利要求1、2或3所述的新型轉印板，其特征在于，所述圓弧區(qū)域中的網點比非圓弧處理區(qū)域中的網點排列稀疏。
專利摘要本實用新型公開了一種新型轉印板，包括轉印層(9)和基膜(10)；所述轉印板活性區(qū)域(11)的邊緣設置為圓弧形。本實用新型可解決目前PI膜的光暈區(qū)域(Haro area)明顯、PI膜邊緣與Seal膠交疊所引起的顯示不良的問題。
文檔編號G02F1/1337GK203012303SQ20122038034
公開日2013年6月19日 申請日期2012年8月1日 優(yōu)先權日2012年8月1日
發(fā)明者邵勇 申請人:北京京東方光電科技有限公司