本申請(qǐng)涉及巖土爆破，具體涉及預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法。

背景技術(shù)：

1、當(dāng)今巖體工程領(lǐng)域中光面爆破技術(shù)應(yīng)用廣泛，光面爆破的定義是沿開挖邊界布置密集炮孔，采取不耦合裝藥或裝填低威力炸藥，在主爆區(qū)之后起爆，以形成平整的輪廓面的爆破作業(yè)。光面爆破的主要特點(diǎn)之一就是分區(qū)分段微差爆破，將每循環(huán)開挖斷面劃分成主爆區(qū)和光爆層，如圖1所示，裝入光爆層炮孔的雷管段別及延時(shí)時(shí)間滯后于主爆區(qū)炮孔，從而在主爆區(qū)之后起爆，獲得必要的爆破補(bǔ)償空間，達(dá)到良好的爆破效果。其次，光面爆破炮孔一般采用軸向不耦合裝藥，炸藥藥卷和導(dǎo)爆索制成間隔藥串。因此，光面爆破相比普通爆破消耗更多的雷管和導(dǎo)爆索，成本增加。

2、目前常用的導(dǎo)爆管雷管被數(shù)碼電子雷管取代，數(shù)碼電子雷管價(jià)格昂貴，幾乎是導(dǎo)爆管雷管價(jià)格的三倍，這一情況變化使得光面爆破成本陡增，發(fā)明一種減少雷管使用數(shù)量的光面爆破方法具有重要的技術(shù)經(jīng)濟(jì)價(jià)值。

3、有鑒于此，有必要研究一種能夠顯著降低光面爆破雷管使用數(shù)量用以降低成本且提高爆破效果的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，以解決上述技術(shù)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于背景技術(shù)中存在的技術(shù)問題，為降低光面爆破雷管使用數(shù)量且提高爆破效果，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法。每掘進(jìn)循環(huán)斷面劃分主爆區(qū)和光爆層。主爆區(qū)所有炮孔除掏槽空孔之外裝入數(shù)碼電子雷管，用以控制各炮孔藥卷的起爆時(shí)間，爆破母線起爆數(shù)碼電子雷管，實(shí)現(xiàn)微差爆破。光爆層外輪廓布置的密集炮孔則裝入藥卷和導(dǎo)爆索制成的間隔藥串，用一發(fā)與爆破母線連接的數(shù)碼電子雷管起爆導(dǎo)爆索。

2、掘進(jìn)首循環(huán)斷面時(shí)只起爆主爆區(qū)，預(yù)留光爆層；后續(xù)掘進(jìn)，將前一循環(huán)預(yù)留的光爆層和后一循環(huán)的主爆區(qū)炮孔組成同一起爆網(wǎng)絡(luò)，設(shè)置數(shù)碼電子雷管微差時(shí)間，實(shí)現(xiàn)光爆層炮孔同時(shí)且先于主爆區(qū)起爆。該光面爆破方法只用一發(fā)雷管就起爆了光爆層所有炮孔，并且光爆層起爆時(shí)下方是臨空面，爆破補(bǔ)償空間充足，光面爆破效果更好。

3、基于上述技術(shù)目的，本發(fā)明提供了一種預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，其包括如下步驟：

4、s1，根據(jù)掘進(jìn)走向，劃分出若干個(gè)循環(huán)斷面，并將每掘進(jìn)的循環(huán)斷面劃分為主爆區(qū)和光爆層；

5、s2，掘進(jìn)首個(gè)循環(huán)斷面時(shí)，只起爆主爆區(qū)，預(yù)留光爆層；

6、s3，在預(yù)留光爆層的外輪廓布置密集的光爆孔；

7、s4，進(jìn)行后一循環(huán)斷面的掘進(jìn)，并將步驟s3中前一循環(huán)預(yù)留的光爆層的光爆孔和后續(xù)掘進(jìn)的后一循環(huán)的主爆區(qū)的炮孔組成同一起爆網(wǎng)絡(luò)；

8、s5，后一循環(huán)的主爆區(qū)附屬前一循環(huán)預(yù)留的光爆層實(shí)現(xiàn)一次爆破；

9、s6，循環(huán)進(jìn)行步驟s3至s5，直至將斷面全部爆破。

10、作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，步驟s2中，所述主爆區(qū)采用分段微差爆破方式進(jìn)行起爆。

11、作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，步驟s2的具體過程為：除掏槽空孔之外，主爆區(qū)所有主爆孔都裝入數(shù)碼電子雷管，爆破母線起爆數(shù)碼電子雷管，進(jìn)行分段微差爆破。

12、作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，步驟s3的具體過程為：光爆孔裝入藥卷和導(dǎo)爆索制成的間隔藥串，采用導(dǎo)爆索起爆藥卷并傳爆的方式。

13、作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所有導(dǎo)爆索與一發(fā)數(shù)碼電子雷管連接，且數(shù)碼電子雷管與爆破母線連接，光爆層所有光爆孔為同時(shí)起爆設(shè)置。

14、作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，步驟s4中，光爆層的數(shù)碼電子雷管起爆時(shí)間不大于主爆區(qū)掏槽孔的起爆時(shí)間。

15、作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，步驟s5中，采用分段微差爆破方式實(shí)現(xiàn)一次爆破。

16、作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，步驟s5中，爆破母線傳遞電脈沖信號(hào)，設(shè)置數(shù)碼電子雷管微差時(shí)間，數(shù)碼電子雷管起爆，后一循環(huán)的主爆區(qū)附屬前一循環(huán)預(yù)留的光爆層一次爆破，實(shí)現(xiàn)光爆層炮孔同時(shí)且先于主爆區(qū)起爆。

17、本發(fā)明的有益效果如下：

18、1、本發(fā)明提供的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，將每掘進(jìn)循環(huán)斷面劃分為主爆區(qū)和光爆層，掘進(jìn)首循環(huán)只起爆主爆區(qū)，預(yù)留光爆層，前一循環(huán)預(yù)留的光爆層和后續(xù)掘進(jìn)的后一循環(huán)的主爆區(qū)炮孔組成同一起爆網(wǎng)絡(luò)一次起爆。在光爆層爆破時(shí)，下方為臨空面，爆破補(bǔ)償空間充足，光爆層爆破效果更好，有效克服了現(xiàn)有方法中光爆層附屬主爆區(qū)起爆，光爆層爆破補(bǔ)償空間不足進(jìn)而影響光爆層爆破效果的技術(shù)缺陷。

19、2、本發(fā)明提供的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，光爆層炮孔用原本的導(dǎo)爆索起爆藥卷，且同時(shí)起爆，用一發(fā)雷管擊發(fā)光爆層所有導(dǎo)爆索，大大減少了光面爆破雷管使用量，有效克服了現(xiàn)有光面爆破方法中，光爆層所有炮孔均需裝入數(shù)碼電子雷管，導(dǎo)致光面爆破相比普通爆破消耗更多的雷管和導(dǎo)爆索，成本大幅度增加的技術(shù)缺陷。

20、上述說明僅是本申請(qǐng)技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本申請(qǐng)的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本申請(qǐng)的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉本申請(qǐng)的具體實(shí)施方式。

技術(shù)特征：

1.一種預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，其特征在于，包括如下步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，其特征在于，步驟s2中，所述主爆區(qū)采用分段微差爆破方式進(jìn)行起爆。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，其特征在于，步驟s2的具體過程為：除掏槽空孔之外，主爆區(qū)所有主爆孔都裝入數(shù)碼電子雷管，爆破母線起爆數(shù)碼電子雷管，進(jìn)行分段微差爆破。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，其特征在于，步驟s3的具體過程為：光爆孔裝入藥卷和導(dǎo)爆索制成的間隔藥串，采用導(dǎo)爆索起爆藥卷并傳爆的方式。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，其特征在于，所有導(dǎo)爆索與一發(fā)數(shù)碼電子雷管連接，且數(shù)碼電子雷管與爆破母線連接，光爆層所有光爆孔為同時(shí)起爆設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，其特征在于，步驟s4中，光爆層的數(shù)碼電子雷管起爆時(shí)間不大于主爆區(qū)掏槽孔的起爆時(shí)間。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，其特征在于，步驟s5中，采用分段微差爆破方式實(shí)現(xiàn)一次爆破。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，其特征在于，步驟s5中，爆破母線傳遞電脈沖信號(hào)，設(shè)置數(shù)碼電子雷管微差時(shí)間，數(shù)碼電子雷管起爆，后一循環(huán)的主爆區(qū)附屬前一循環(huán)預(yù)留的光爆層一次爆破，實(shí)現(xiàn)光爆層炮孔同時(shí)且先于主爆區(qū)起爆。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法，涉及巖土爆破技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明將每掘進(jìn)循環(huán)斷面劃分為主爆區(qū)和光爆層，掘進(jìn)首循環(huán)斷面只起爆主爆區(qū)，預(yù)留光爆層；后續(xù)掘進(jìn)，將前一循環(huán)預(yù)留的光爆層和后一循環(huán)的主爆區(qū)炮孔組成同一起爆網(wǎng)絡(luò)一次起爆，光爆層只用一發(fā)數(shù)碼電子雷管起爆，大大減少了光面爆破雷管使用量，有效克服了現(xiàn)有光面爆破方法，光爆層所有炮孔均需裝入數(shù)碼電子雷管，導(dǎo)致光面爆破相比普通爆破消耗更多的雷管，成本大幅度增加的技術(shù)缺陷。并且，有效克服了現(xiàn)有方法中光爆層附屬主爆區(qū)起爆，光爆層爆破補(bǔ)償空間不足進(jìn)而影響光爆層爆破效果的技術(shù)缺陷。

技術(shù)研發(fā)人員：張為星,張華濤,劉東銳,竇志明,張海云,王英豪,趙俊德,王衛(wèi)東,黃銳梁
受保護(hù)的技術(shù)使用者：長(zhǎng)沙礦山研究院有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6