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預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:40614202

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本申請涉及巖土爆破,具體涉及預(yù)留光爆層前后循環(huán)一次起爆的光面爆破方法。背景技術(shù)、當今巖體工程領(lǐng)域中光面爆破技術(shù)應(yīng)用廣泛,光面爆破的定義是沿開挖邊界布置密集炮孔,采取不耦合裝藥或裝填低威力炸藥,在主爆區(qū)之后起爆,以形成平整的輪廓面的爆破作業(yè)。光面爆破的主要特點之一就是分區(qū)分段微差爆破,將每循環(huán)開挖斷面劃分成主爆區(qū)和光爆層,如圖所示,裝入光爆層炮孔的雷管段別及延時時間滯后于主爆區(qū)炮孔,從而在主爆區(qū)之后起爆,獲得必要的爆破補償空間,達到良好的爆破效果。其次,光面爆破炮孔一般采用軸向不耦合裝藥,炸藥...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。

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