專利名稱：一種散熱裝置及主板的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于電子設備散熱領域，尤其涉及一種散熱裝置及主板。
背景技術：
隨著社會的發(fā)展進步，越來越多的電子設備進入了人們的生活，人們在對電子設備的功能需求越來越大的同時，也對電子設備的使用壽命提出了更高的要求。電子設備在工作時，其主板上的電子元器件會產(chǎn)生很多的熱量，熱量過多會影響電子元器件的使用壽命，因此在電子設備內(nèi)設有相應的散熱裝置，用來吸收電子元器件上 的熱量，降低電子元器件上的溫度，延長電子元器件的使用壽命。一般的散熱裝置由銅板、鋁板制成；將散熱裝置與電子元器件接觸設置；當電子元器件產(chǎn)生的熱量，不能夠完全及時的被散熱裝置吸收時，電子元器件的溫度會升高，電子元器件會由于高溫而損壞、失效；甚至溫度過高的電子元器件會損壞主板，使主板不能工作，進而導致電子設備不能正常工作，影響電子設備的使用壽命；因此亟需一種可以提高電子元器件散熱效率的散熱裝置。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型所要解決的技術問題是現(xiàn)有的散熱裝置的散熱效率低，從而提供一種可以提高散熱效率的散熱裝置及主板。一種散熱裝置，其包括散熱器，散熱器的表面設有氧化鉻膜。優(yōu)選地，氧化鉻膜的厚度為O. 005mnT0· 006mm。優(yōu)選地，氧化鉻膜為真空鍍膜層。優(yōu)選地，散熱器包括固定在主板上的固定部、及設置在固定部上并與固定部連接的散熱片；氧化鉻膜設于散熱片的表面。優(yōu)選地，散熱裝置還包括將散熱器固定在主板上的固定件。本實用新型的第二個目的是提供一種主板。一種主板，其包括電子元器件、以及與電子元器件相鄰設置的散熱裝置；散熱裝置為本實用新型提供的散熱裝置。優(yōu)選地，散熱裝置與電子元器件分開設置。優(yōu)選地，散熱裝置與電子元器件之間留有間距，散熱裝置與電子元器件的間距為3cm 5cm。本實用新型提供的散熱裝置，在散熱器的表面設有氧化鉻膜，當電子設備在工作時，設置在主板上的散熱器吸收電子元器件上由于工作所產(chǎn)生的熱量；同時，覆蓋在散熱器表面的氧化鉻膜迅速的吸收電子元器件上由于工作所產(chǎn)生的熱量；這樣可以快速的將電子元器件上的熱量轉(zhuǎn)移到散熱裝置上，降低電子元器件的溫度，延長電子元器件的使用壽命，從而提1 主板的使用壽命。
圖I是本實用新型提供的主板示意圖。圖2是本實用新型提供的主板俯視圖。圖3是本實用新型提供的主板的A-A剖面圖。
具體實施方式
為了使本實用新型所解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白，
以下結(jié)合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。如圖1-3所示，一種散熱裝置，其包括散熱器，散熱器的表面設有氧化鉻膜。本實用新型對散熱器21的材質(zhì)不做特殊要求；散熱器21的材質(zhì)可以為銅、鋁等導熱性能好的金屬，優(yōu)選其為鋁。在散熱器21的表面設有氧化鉻膜22，氧化鉻遇熱穩(wěn)定，且吸熱能力強；在散熱器21表面設有氧化鉻膜可以大幅提高散熱裝置2的吸熱及散熱性能；可以完全、快速的吸收電子兀器件3由于工作而產(chǎn)生的熱量。優(yōu)選的，本實用新型采用真空鍍膜的方式將氧化鉻膜22鍍在散熱器21的表面。鍍膜方法為將散熱器21用酒精清洗5 7分鐘，再用去離子水清洗，然后烘干。將清潔后的散熱器21放入到真空鍍膜機中，將真空鍍膜機的真空度調(diào)為10_3Pa，向真空鍍膜機中通入高純度氬氣并充滿；將真空鍍膜機的真空度調(diào)至KT1Pa,以流量為3. 2cm3/min的速度通入高純度氧氣；真空鍍膜機在溫度為200° C，保護氣為高純度氬氣的條件下濺射，將被氧化的鉻均勻的濺射到散熱器21上。優(yōu)選地，氧化鉻膜22的厚度為O. 005mnT0. 006mm ;采用這種厚度，可以使氧化鉻膜22吸收到的熱量達到最大化，散熱效果最明顯。其中，散熱器21包括散熱片、及與散熱片連接并將散熱裝置2固定在主板I上的固定部23;本實用新型對散熱片的個數(shù)不做特殊要求，可以為一個，可以為兩個，本實用新型優(yōu)選地，其至少為一個；這樣可以增加散熱裝置2散熱的效率；快速的降低電子元器件3的溫度，提高電子元器件3的工作效率及使用壽命。散熱片與固定部23可以為一體結(jié)構(gòu)，也可以為分體結(jié)構(gòu)；優(yōu)選地其為一體結(jié)構(gòu)；這樣可以避免散熱器21在長期使用過程中，散熱片和固定部23的連接處失效，影響散熱裝置2使用壽命，從而影響散熱裝置2的散熱能力。散熱裝置2與主板I的固定方式可以為活動連接、也可以是固定連接；優(yōu)選地，散熱裝置2與主板的連接方式為活動連接；散熱裝置2還包括將固定部23固定在主板I上的固定件24 ;本實用新型對固定件24不做特殊要求，只要能將散熱裝置2牢固的固定在主板I上即可；可以為螺栓、可以為鉚釘、還可以為卡扣；優(yōu)選地其為螺栓；采用螺栓連接，當散熱裝置2損壞時，可以方便散熱裝置2的拆除以及更換。其中螺栓為本領域技術人員所公知的零部件，在此不再贅述。更加優(yōu)選地，散熱裝置2與電子元器件3之間的間距為3cnT5Cm ;這樣設置，可以保證散熱裝置2從電子元器件3吸收的熱量不會傳遞回到電子元器件3 ;同時可以達到散熱裝置2吸收熱量的最佳效果；使散熱裝置2能夠快速的、及時的、完全的將電子元器件3上的熱量吸收，降低電子元器件3的溫度，提高電子元器件3的工作效率及使用壽命，進而提聞主板的使用壽命。一般的，散熱裝置由具有一定導熱能力的金屬制成；該金屬可以為銅、鋁等；單獨由金屬制成的散熱裝置，與電子元器件接觸并吸收電子元器件上的熱量達到散熱的效果；這樣的散熱裝置吸收熱量的效率低，導致散熱裝置的散熱效率低，無法及時的將電子元器件上由于工作所產(chǎn)生的熱量吸收，電子元器件的溫度無法降低；電子元器件會在高溫的條件下失效甚至損壞；同時，溫度過高的電子元器件會損壞主板；這樣電子設備就不能正常工作，其使用壽命也會大幅減小。本實用新型提供的散熱裝置2，包括散熱器21，在散熱器21表面設有氧化鉻膜22 ；當電子設備工作時，在主板上的電子元器件3上會產(chǎn)生熱量，產(chǎn)生的熱量一部分被散熱器21吸收，另一部分被氧化鉻膜22吸收；在散熱器21和氧化鉻膜22雙重吸熱的條件下，散熱裝置2的散熱效果大幅增加，電子元器件3上的熱量被轉(zhuǎn)移到了散熱裝置2上，電子元器 件3上的溫度迅速下降；避免電子元器件3由于溫度過高而損壞，提高電子元器件3的使用壽命，進而提聞主板I的使用壽命。本實用新型的第二個目的是提供一種主板。一種主板1，其包括電子元器件3、與電子元器件3相鄰設置的散熱裝置2 ;所述散熱裝置2為本實用新型提供的散熱裝置2。其中，電子元器件3為本領域技術人員所公知的部件，在此不再贅述。本實用新型對散熱裝置2在主板I上的安裝位置不做特殊要求；只要將散熱裝置2與電子元器件3相鄰設置即可，既可以將散熱裝置2與電子元器件3接觸設置，也可以將散熱裝置2與電子元器件3有間距設置；優(yōu)選地，將散熱裝置2與電子元器件3有間距設置，即將散熱裝置2設置在電子元器件3的周邊，并不與電子元器件3接觸；這樣可以防止，散熱裝置2吸收過多的熱量，導致散熱裝置2本身溫度升高，從而將一部分熱量傳遞回電子元器件3，使電子元器件3的溫度升高，降低電子元器件3的工作效率；還可以防止電子元器件3的溫度過高時，使電子元器件3失效、損壞；進而提高電子元器件3的使用壽命。本實用新型對主板I的散熱裝置2的個數(shù)不做特殊要求，可以為一個，也可以為兩個；優(yōu)選地，其至少為一個；這樣可更加迅速、完全的吸收電子元器件3上的熱量，散熱效果更佳。以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種散熱裝置，其特征在于所述散熱裝置包括散熱器，所述散熱器的表面設有氧化鉻膜。
2.如權(quán)利要求I所述的散熱裝置，其特征在于所述氧化鉻膜的厚度為O.005mm^0. 006mm。
3.如權(quán)利要求I或2所述的散熱裝置，其特征在于所述氧化鉻膜為真空鍍膜層。
4.如權(quán)利要求I所述的散熱裝置，其特征在于所述散熱器包括固定在主板上的固定部、及設置在固定部上并與固定部連接的散熱片；所述氧化鉻膜設于散熱片的表面。
5.如權(quán)利要求I或4所述的散熱裝置，其特征在于所述散熱裝置還包括將散熱器固定在主板上的固定件。
6.一種主板，其包括電子元器件、以及與電子元器件相鄰設置的散熱裝置；其特征在于所述散熱裝置為權(quán)利要求I至5任意一項所述的散熱裝置。
7.如權(quán)利要求6所述的主板，其特征在于所述散熱裝置與電子元器件分開設置。
8.如權(quán)利要求7所述的主板，其特征在于所述散熱裝置與所述電子元器件之間留有間距，所述散熱裝置與所述電子元器件的間距為3cnT5Cm。
專利摘要本實用新型提供了一種散熱裝置，其包括散熱器；散熱器包括固定在主板上的固定部、及設置在固定部上并與固定部連接的散熱片；在散熱器的表面設有氧化鉻膜。本實用新型提供的散熱裝置，吸熱散熱的能力大幅提高，可以迅速的、有效的降低電子元器件的溫度，從而延長電子元器件的使用壽命。本實用新型還提供了一種主板，其包括電子元器件、以及與電子元器件相鄰設置的散熱裝置，所采用的散熱裝置為本實用新型提供的散熱裝置。
文檔編號H05K7/20GK202551594SQ201220119610
公開日2012年11月21日 申請日期2012年3月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月27日
發(fā)明者宋以鷹, 陳熾良, 顏杰 申請人:比亞迪股份有限公司