可撓性顯示面板及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種可撓性顯示面板，特別是一種具有優(yōu)異阻水、阻氧能力的可撓性 顯示面板以及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)今的平面顯示技術(shù)除了朝向輕薄的發(fā)展趨勢(shì)外，更逐漸朝向可撓式曲顯示設(shè)備 的方向發(fā)展，如可撓性液晶顯示面板（flexibleliquidcrystaldisplay)、或可撓性有機(jī) 發(fā)光二極管面板（flexibleorganiclight-emittingdiodepanel)等，不但具有重量輕 且厚度薄的優(yōu)點(diǎn)，還具有可撓曲且摔不破的優(yōu)點(diǎn)。而為了達(dá)到可撓曲的特性，各種顯示設(shè)備 以可彎曲的塑料基板取代傳統(tǒng)的玻璃基板，以致被可撓卷收折的可撓曲顯示設(shè)備。
[0003] 然而，若以塑料材料作為可撓性顯示設(shè)備的基板時(shí)，由于對(duì)于水氣或污染物的阻 隔效果較差，需外加阻水層或保護(hù)層以加強(qiáng)其顯示元件的阻水以及阻氧的特性，防止水、氧 滲入造成性質(zhì)的劣化。因此，為了解決以上問題，現(xiàn)有的可撓性顯示設(shè)備以重復(fù)層疊有機(jī)材 料層以及無(wú)機(jī)材料層形成多層堆疊的阻擋層，以隔絕水、氧。
[0004] 然而以上所述的層疊結(jié)構(gòu)厚度高，且其層疊結(jié)構(gòu)的制備過(guò)程繁瑣，又需于工藝中 調(diào)整其應(yīng)力，最終形成的阻擋層由于厚度的影響，其可撓曲性質(zhì)則會(huì)降低，無(wú)法得到具有優(yōu) 異可撓曲性的顯示設(shè)備。
[0005] 此外，一般形成有機(jī)/無(wú)機(jī)層疊結(jié)構(gòu)時(shí)，該無(wú)機(jī)材料層經(jīng)由真空蒸鍍或?yàn)R鍍的方 法而形成，由于其均勻性不佳的問題，常導(dǎo)致該無(wú)機(jī)材料層具有許多孔洞的缺陷，這些孔洞 提供了一水氧通道，當(dāng)與水氧接觸時(shí)，水氧會(huì)透過(guò)這些孔洞而滲入顯示元件中，而大幅降低 該阻擋層的阻水氧能力。
[0006] 因此，目前亟需發(fā)展出一種新穎的可撓性顯示面板以及其制法，其可解決前述問 題并達(dá)到直接于現(xiàn)有機(jī)臺(tái)上進(jìn)行工藝的目的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 本發(fā)明的目的是提供一種可撓性顯示面板，其具有優(yōu)異的阻水氧性質(zhì)。
[0008] 為了達(dá)到上述的目的，本發(fā)明提供了一種可撓性顯示面板，包括：一第一基板，具 有一第一表面以及一第二表面；一第一阻擋層，設(shè)置于該第一基板的該第一表面上，且第一 該阻擋層是由陶瓷材料所組成；一第一修飾層，形成于該第一阻擋層上，該第一修飾層是由 下式（I)所示的化合物所組成：
[0009]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種可撓性顯不面板，包括： 一第一基板，其具有一第一表面以及一第二表面； 一第一阻擋層，其設(shè)置于該基板的該第一表面上，且該第一阻擋層是由陶瓷材料所組 成； 一第一修飾層，其形成于該第一阻擋層上，該第一修飾層是由下式（I)所示的化合物 所組成：
在式⑴中，&、馬及1?3各自獨(dú)立為氫或〇1?(： 2(|的燒基,乂為鹵素、經(jīng)取代基取代或未 取代的Ci ~ 2(|烷基、經(jīng)取代基取代或未取代的C2 ~ 2(|烯基、經(jīng)取代基取代或未取代的Ci ~ 2(|烷 基環(huán)氧乙基、環(huán)氧乙基、或經(jīng)取代基取代或未取代的Cb2(l烷基丙烯酸； 一顯不兀件，形成于該第一修飾層上或該第一基板的第二表面上。
2. 如權(quán)利要求1所述的可撓性顯示面板，其特征在于，該第一基板至少選自由聚對(duì)苯 二甲酸乙二酯（PET)、聚萘二甲酸乙二酯（PEN)、聚碳酸酯（PC)、聚酰亞胺（PI)、以及聚醚砜 (PES)所組成的集合。
3. 如權(quán)利要求1所述的可撓性顯示面板，其特征在于，該第一阻擋層至少選自由金屬 氧化物、金屬氟化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬碳氮化物、金屬氮氧化物、金屬硼化物、 金屬硼氧化物、金屬硅化物、硅氮氧化物、硅氮化物、以及硅氧化物所組成的集合。
4. 如權(quán)利要求1所述的可撓性顯示面板，其特征在于，該第一阻擋層至少選自由Si02、 Si4N 3、Ti02、A1203、Zr02、A1N 所組成的集合。
5. 如權(quán)利要求1所述的可撓性顯示面板，其特征在于，該第一阻擋層的厚度為10nm至 500nm〇
6. 如權(quán)利要求1所述的可撓性顯示面板，其特征在于，該第一修飾層選自 由十六焼基三甲氧基娃焼（hexadecyltrimethoxysilane)、（3-環(huán)氧丙氧基丙 基）三甲氧基娃焼（（3-glycidoxypropyl)trimethoxysilane)、3_ 氯丙基三乙 氧基娃焼（3_chloropropyltriethoxysilane)、3-氯丙基三甲氧基娃焼（3-chlo ropropyltrimethoxysilane)、3_ 疏基丙基三乙氧基娃焼(3-mercaptopropyltr iethoxysilane)、3_ 疏基丙基三甲氧基娃焼(3-mercaptopropyltrimethoxysil ane)、氯甲基三乙氧基娃焼（chloromethyltriethoxysilane)、氯甲基三甲氧基 娃焼（chloromethyltrimethoxysilane)、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基娃焼（m ethacryloxypropyltrimethoxysilane) ^ 三氟丙基三甲氧基娃焼(trifluoropr opyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基娃焼（vinyltriethoxysilane)、乙烯 基三甲氧基娃焼（vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三（2-甲氧基乙氧基）娃焼 (vinyltris (2-methoxyethoxy) silane)、及乙烯基三丁酮月虧基娃焼（vinyltris (methyleth ylketoximino) silane)所組成的集合。
7. 如權(quán)利要求1所述的可撓性顯示面板，其特征在于，該第一修飾層的厚度為lnm至 50nm〇
8. 如權(quán)利要求1所述的可撓性顯示面板，其特征在于，該顯示元件設(shè)于該第一基板的 第二表面上時(shí)，在該顯不兀件上還具有依序?qū)盈B的一第二基板、一第二阻擋層、以及一第二 修飾層，其中，該顯示元件介于該第一基板與該第二基板之間，且該第二基板與該第一基板 相同；該第二阻擋層與該第一阻擋層相同；以及該第二修飾層與該第一修飾層相同。
9. 如權(quán)利要求1所述的可撓性顯示面板，其特征在于，該顯示元件設(shè)于該第一修飾層 上時(shí)，在顯示元件上還具有依序?qū)盈B的第二修飾層、第二阻擋層、以及第二基板，其中，該顯 不兀件介于該第一修飾層與該第二修飾層之間，且該第二基板與該第一基板相同；該第二 阻擋層與該第一阻擋層相同；以及該第二修飾層與該第一修飾層相同。
10. -種可撓性顯示面板的制造方法，包括： (A) 提供一第一基板，具有一第一表面以及一第二表面，并于該第一表面上設(shè)置有一第 一阻擋層； (B) 于該第一阻擋層上形成一第一修飾層，其中，該第一修飾層是由以下式（I)所式的 化合物所組成：
在式⑴中，&、馬及1?3各自獨(dú)立為氫或〇1?(： 2(|的燒基,乂為鹵素、經(jīng)取代基取代或未 取代的Q ~ 2(|烷基、經(jīng)取代基取代或未取代的C2 ~ 2(|烯基、經(jīng)取代基取代或未取代的Q ~ 2(|烷 基-環(huán)氧乙基、環(huán)氧乙基，或經(jīng)取代基取代或未取代的Q~2(|烷基丙烯酸；以及 (C) 將一顯不兀件設(shè)置于該第一修飾層上，或設(shè)置于該第一基板的該第二表面上。
11. 如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，該第一基板至少選自由聚對(duì)苯二甲酸乙 二酯（PET)、聚萘二甲酸乙二酯（PEN)、聚碳酸酯（PC)、聚酰亞胺（PI)、以及聚醚砜（PES)所 組成的集合。
12. 如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，該第一阻擋層至少選自由金屬氧化物、金 屬氟化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬碳氮化物、金屬氮氧化物、金屬硼化物、金屬硼氧 化物、金屬硅化物、硅氮氧化物、硅氮化物、以及硅氧化物所組成的集合。
13. 如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，該第一阻擋層至少選自由Si02、Si4N3、 Ti0 2、A1203、Zr02、A1N 所組成的集合。 14?如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，該第一阻擋層的厚度為lOnm至500nm。
15.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，該第一修飾層選自由十六燒 基三甲氧基娃燒（hexadecyltrimethoxysilane)、（3_環(huán)氧丙氧基丙基）三甲 氧基娃燒（（3-glycidoxypropyl)trimethoxysilane)、3-氯丙基三乙氧基娃 燒（3_chloropropyltriethoxysilane)、3-氯丙基三甲氧基娃燒（3-chloropro pyltrimethoxysilane)、3_ 疏基丙基三乙氧基娃燒(3-mercaptopropyltrieth oxysilane)、3_ 疏基丙基三甲氧基娃燒(3-mercaptopropyltrimethoxysilane )、氯甲基三乙氧基娃燒（chloromethyltriethoxysilane)、氯甲基三甲氧基娃 燒（chloromethyltrimethoxysilane)、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基娃燒（met hacryloxypropyltrimethoxysilane)> 三氟丙基三甲氧基娃燒(trifluoroprop yltrimethoxysilane)> 乙烯基三乙氧基娃燒(vinyltriethoxysilane)> 乙烯基 三甲氧基娃燒（vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三（2-甲氧基乙氧基）娃燒 (vinyltris (2-methoxyethoxy) silane)、及乙烯基三丁酮廂基娃燒（vinyltris (methyleth ylketoximino) silane)所組成的集合。
16. 如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，該第一修飾層的厚度為lnm至50nm。
17. 如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，還包括： (D)將該顯示元件設(shè)置于該第一基板的第二表面上，且在該顯示元件上依序?qū)盈B一第 二基板、一第二阻擋層、以及一第二修飾層，其中，該顯不兀件介于該第一基板與該第二基 板之間，且該第二基板與該第一基板相同；該第二阻擋層與該第一阻擋層相同；以及該第 二修飾層與該第一修飾層相同。
18. 如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，還包括： (D)將顯示元件設(shè)置于該第一基板的該第一修飾層上，且在該顯示元件上依序?qū)盈B一 第二修飾層、一第二阻擋層、以及一第二基板，其中，該顯不兀件介于該第一修飾層與該第 二修飾層之間，且該第二基板與該第一基板相同；該第二阻擋層與該第一阻擋層相同；以 及該第二修飾層與該第一修飾層相同。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種可撓性顯示面板，包括一第一基板，其具有一第一表面以及一第二表面；一第一阻擋層，其設(shè)置于該第一基板的該第一表面上，且該第一阻擋層由陶瓷材料所組成；一第一修飾層，其形成于該第一阻擋層上；以及一顯示元件，其形成于該第一修飾層上或該第一基板的第二表面上。
【IPC分類】H01L27-32, C04B41-84, H01L51-56
【公開號(hào)】CN104576680
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201310487649
【發(fā)明人】蔡奇哲, 吳威諺, 陳鈺堯, 曾俊儒
【申請(qǐng)人】群創(chuàng)光電股份有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2013年10月17日