本實(shí)用新型涉及電磁離合器部件技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種離合器線圈骨架。
背景技術(shù):
電磁制動(dòng)、離合器是一種自動(dòng)化執(zhí)行元件,它利用電磁力的作用來傳遞或終止機(jī)械傳動(dòng)中的扭矩。因?yàn)橹苿?dòng)、離合器線圈的特殊使用環(huán)境,額定電壓一般都設(shè)計(jì)成直流24V的,還必須要求有足夠的耐腐蝕性,較長的使用壽命,所以和一般的電磁線圈在封裝上有特殊要求,一般是把用高強(qiáng)度漆包線繞制好的線圈連同磁軛一并用環(huán)氧樹脂澆注,形成一個(gè)整體?,F(xiàn)有的電磁制動(dòng)、離合器的線圈繞線裝置普遍存在以下缺點(diǎn):在線圈繞制完成后,打開繞線模時(shí),線圈易松和變形,然后在接引出線時(shí)還必須要用包扎帶將線圈和引出線焊接部分包扎起來,但是僅僅靠包扎帶固定引出線,引出線容易脫落造成短路或斷路,且包扎時(shí)的工序繁瑣,完成時(shí)間較長,大大降低了線圈制造的生產(chǎn)效率。例如:申請(qǐng)?zhí)?01220148755.2中國實(shí)用新型所述的一種有出線凹槽的電磁制動(dòng)、離合器線圈骨架,包括繞線槽、出線凹槽、兩個(gè)出線口和引出線出口,所述線圈骨架設(shè)計(jì)為圓環(huán)形,所述線圈骨架設(shè)置有一個(gè)繞線槽和有兩個(gè)邊緣,其中一個(gè)邊緣內(nèi)設(shè)置有出線凹槽,在該邊緣背面分別設(shè)置有與垂直中心線成95°和30°的兩個(gè)出線口,在該邊緣的正面下方設(shè)置有引出線出口,其缺點(diǎn)在于該引出線均從同一個(gè)引出線出口引出,兩者之間沒有其他絕緣措施,容易造成短路。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的一個(gè)目的是提供一種離合器線圈骨架,結(jié)構(gòu)簡單、外形美觀,引出線不易發(fā)生短路。
本實(shí)用新型的上述技術(shù)目的是通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的:一種離合器線圈骨架,包括骨架本體和設(shè)置在所述骨架本體兩側(cè)的擋板,相鄰兩個(gè)所述擋板之間形成繞線槽,所述擋板上設(shè)有兩段間隔設(shè)置的出線槽,所述出線槽設(shè)置在所述擋板的外圓處,所述出線槽在遠(yuǎn)離另一出線槽的一端設(shè)有出線口,所述出線槽通過所述出線口與所述繞線槽連通,兩段所述出線槽相鄰的兩端各設(shè)有引出線固定結(jié)構(gòu),兩個(gè)所述引出線固定結(jié)構(gòu)分設(shè)在所述擋板的正反兩面上。
作為優(yōu)選,所述引出線固定結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在所述擋板正面或反面的凹槽,所述凹槽與所述出線槽連通,所述凹槽內(nèi)設(shè)有繞設(shè)部,所述繞設(shè)部在所述凹槽內(nèi)與所述凹槽的側(cè)壁形成繞設(shè)通道。
作為優(yōu)選,所述繞設(shè)部的端部設(shè)有阻擋部,所述阻擋部與所述繞設(shè)部和所述凹槽的槽底形成一個(gè)單向開口的固定槽。
作為優(yōu)選,所述繞設(shè)通道的寬度大于或等于漆包線的直徑。
作為優(yōu)選,所述阻擋部與所述凹槽的側(cè)壁形成的間隙大于或等于漆包線的直徑。
作為優(yōu)選,所述出線口到骨架本體中心的連線,與另一出線口到骨架本體中心的連線,形成120°-180°的夾角。
本實(shí)用新型的有益效果:當(dāng)線圈通過線圈骨架繞制完成后,直接通過兩個(gè)出線口和出線凹槽從兩個(gè)方向?qū)⒁鼍€固定在凹槽內(nèi),引出線在凹槽固定牢固、穩(wěn)定,線圈不易松動(dòng)和變形,而且兩個(gè)凹槽設(shè)置在擋板的正反兩面,防止兩條引出線接觸而發(fā)生短路。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例的正視圖;
圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例中引出線固定結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖中:1-骨架本體,2-擋板,21-出線口,22-出線槽,23-凹槽,24-繞設(shè)部,25-阻擋部。
具體實(shí)施方式
以下具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的解釋,其并不是對(duì)本實(shí)用新型的限制,本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀完本說明書后可以根據(jù)需要對(duì)本實(shí)施例做出沒有創(chuàng)造性貢獻(xiàn)的修改,但只要在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護(hù)。
實(shí)施例:如圖1、圖2和圖3所示,一種離合器線圈骨架,包括骨架本體1和設(shè)置在所述骨架本體1兩側(cè)的擋板2,相鄰兩個(gè)所述擋板2之間形成繞線槽,所述擋板2上設(shè)有兩段間隔設(shè)置的出線槽22,所述出線槽22設(shè)置在所述擋板2的外圓處,所述出線槽22在遠(yuǎn)離另一出線槽22的一端設(shè)有出線口21,所述出線槽22通過所述出線口21與所述繞線槽連通,所述出線口21到骨架本體1中心的連線,與另一出線口21到骨架本體1中心的連線,形成夾角a,夾角a的大小為120°-180°。
兩段所述出線槽22相鄰的兩端各設(shè)有引出線固定結(jié)構(gòu),兩個(gè)所述引出線固定結(jié)構(gòu)分設(shè)在所述擋板2的正反兩面上。所述引出線固定結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在所述擋板2正面或反面的凹槽23,所述凹槽23與所述出線槽22連通,所述凹槽23內(nèi)設(shè)有繞設(shè)部24,所述繞設(shè)部24在所述凹槽23內(nèi)與所述凹槽23的側(cè)壁形成繞設(shè)通道。所述繞設(shè)部24的端部設(shè)有阻擋部25,所述阻擋部25與所述繞設(shè)部24和所述凹槽23的槽底形成一個(gè)單向開口的固定槽。所述繞設(shè)通道的寬度大于或等于漆包線的直徑。所述阻擋部25與所述凹槽23的側(cè)壁形成的間隙大于或等于漆包線的直徑。