專利名稱：一種用于擴(kuò)散工藝的源瓶的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種源瓶，尤其涉及一種用于太陽能電池、半導(dǎo)體制造過程中 液態(tài)源擴(kuò)散工藝中的源瓶。
背景技術(shù)：
在太陽能電池、半導(dǎo)體制造過程中，需要在硅片表面擴(kuò)散形成PN結(jié)。現(xiàn)在大部 分采用液態(tài)源進(jìn)行擴(kuò)散，將氮?dú)馔ㄈ朐匆后w(如三氯氧磷液體)中攜帶源的蒸汽到擴(kuò)散爐管內(nèi)。如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)中用于擴(kuò)散工藝的源瓶包括密閉瓶體11、進(jìn)氣管12和出 氣管13，進(jìn)氣管12和出氣管13相對(duì)應(yīng)地設(shè)置在瓶體頂面的兩側(cè)上，進(jìn)氣管12從瓶體11 的頂面延伸進(jìn)入瓶體11的內(nèi)部。由于進(jìn)氣管12的一端延伸到了液面以下，直至接近瓶 體11的底面，因此氮?dú)饪梢越?jīng)由進(jìn)氣管12吹入瓶體11中的源液體(如三氯氧磷液體) 中，產(chǎn)生源蒸汽，源蒸汽通過出氣管13送入擴(kuò)散爐(圖中未示出)?，F(xiàn)有技術(shù)中的源瓶在使用一段時(shí)間以后，隨著源液體的減少，氮?dú)馀c源液體的 接觸面積就會(huì)逐漸變小，產(chǎn)生的源的蒸汽就逐漸變少，從而使得進(jìn)入擴(kuò)散爐內(nèi)的蒸汽逐 漸變少。在現(xiàn)有技術(shù)中的源瓶中，源的液位降低到20mm左右就得更換新的源，這樣一 瓶400mL的源將有約1/4的源剩余，浪費(fèi)非常嚴(yán)重，非常不經(jīng)濟(jì)。而且由于三氯氧磷為 劇毒物質(zhì)，剩余的源越多，處理的風(fēng)險(xiǎn)越大，對(duì)環(huán)境的污染也越大。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于擴(kuò)散工藝的源瓶，使得瓶內(nèi)液面即使降到 很低時(shí)，仍然能夠保證源蒸汽源源不斷地送入擴(kuò)散爐管內(nèi)，從而保證了源的使用率，同 時(shí)減輕對(duì)于環(huán)境的污染。為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供了一種用于擴(kuò)散工藝的源瓶，包括一密閉 瓶體和設(shè)置于所述瓶體頂面的進(jìn)氣管和出氣管，所述瓶體底面局部向下凹陷形成一集源 槽，所述進(jìn)氣管向瓶體內(nèi)部延伸至接近所述集源槽的底面。優(yōu)選地，所述集源槽位于所述瓶體底面的一側(cè)，所述瓶體底面的另一側(cè)設(shè)置有 用于支撐所述源瓶的支撐腳。優(yōu)選地，所述瓶體底部略成漏斗狀。優(yōu)選地，所述集源槽略成漏斗狀。本實(shí)用新型的有益效果是，通過集源槽的設(shè)置，將剩余的少量源液體集中起 來，使得氮?dú)饽軌虺浞值嘏c源液體接觸產(chǎn)生蒸汽，從而提高源的利用率，同時(shí)減輕對(duì)于 環(huán)境的污染。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的用于擴(kuò)散工藝的源瓶的剖視圖；[0012]圖2為本實(shí)用新型的用于擴(kuò)散工藝的源瓶的俯視圖；圖3為圖2中沿A-A向的剖視圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。如圖2和圖3所示，根據(jù)本實(shí)用新型的用于擴(kuò)散工藝的源瓶，包括瓶體21、進(jìn)氣 管22和出氣管23，進(jìn)氣管22和出氣管23相對(duì)應(yīng)地設(shè)置在瓶體21頂面的兩側(cè)上。瓶體 21的底面局部向下凹陷形成一集源槽25，進(jìn)氣管22從瓶體21的頂面向瓶體21的內(nèi)部延 伸，直至接近集源槽25的底面。當(dāng)剩余的源液體量較少時(shí)，就會(huì)集中在集源槽25中，經(jīng)由進(jìn)氣管22送入的氮?dú)?就能夠充分地與更多的源液體接觸，從而能夠帶出更多的源蒸汽。在保證源液體被充分 集中的同時(shí)，又保證了氮?dú)饽軌蚺c源液體充分地接觸。瓶體21的底部可以略成漏斗狀， 集源槽25也可以略成漏斗狀，這樣可以使得源液體集中的效果更好。此外，與現(xiàn)有技術(shù)中的源瓶相比，瓶體21的高度(不包括集源槽的高度)減小 了。當(dāng)產(chǎn)生的源蒸汽一定時(shí)，由于瓶體21體積的減小，相對(duì)地增大了蒸汽壓，使得本實(shí) 用新型的源瓶即使在液面降低到很低時(shí)，也能將相對(duì)較多的源蒸汽經(jīng)由出氣管23送入擴(kuò) 散爐管內(nèi)。本實(shí)用新型的集源槽25作用在于匯聚收集剩余源液體并加以利用，理論上其設(shè) 置于所述瓶體21底面上局部的任意一處均可。但通常地，所述集源槽25位于瓶體21底 面的一側(cè)，瓶體21底面的另一側(cè)設(shè)置有支撐腳26，支撐腳26用于支撐集源瓶。如圖2 所示，在本實(shí)施例中，所述支撐腳26設(shè)置有兩個(gè)，可以想象，支撐腳26的數(shù)量并不重 要，能達(dá)到穩(wěn)定支撐所述瓶體21即可。根據(jù)本實(shí)用新型的用于擴(kuò)散工藝的源瓶，將原來浪費(fèi)的源再利用，降低了生產(chǎn) 成本，同時(shí)減少了劇毒物質(zhì)的排放，減輕了對(duì)于環(huán)境的污染，符合國家節(jié)能減排的要 求。本實(shí)用新型不局限于上述特定實(shí)施例，在不背離本實(shí)用新型精神及其實(shí)質(zhì)情況 下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本實(shí)用新型作出各種相應(yīng)改變和變形，但這些相應(yīng)改 變和變形都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種用于擴(kuò)散工藝的源瓶，包括一密閉瓶體和設(shè)置于所述瓶體頂面的進(jìn)氣管和出 氣管，其特征是所述瓶體底面局部向下凹陷形成一集源槽，所述進(jìn)氣管向瓶體內(nèi)部延伸 至接近所述集源槽的底面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于擴(kuò)散工藝的源瓶，其特征是所述集源槽位于所述瓶體底 面的一側(cè)，所述瓶體底面的另一側(cè)設(shè)置有用于支撐所述源瓶的支撐腳。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于擴(kuò)散工藝的源瓶，其特征是所述瓶體底部略成漏斗狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于擴(kuò)散工藝的源瓶，其特征是所述集源槽略成漏斗狀。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種用于擴(kuò)散工藝的源瓶，包括一密閉瓶體和設(shè)置于所述瓶體頂面的進(jìn)氣管和出氣管，所述瓶體底面局部向下凹陷形成一集源槽，所述進(jìn)氣管向瓶體內(nèi)部延伸至接近所述集源槽的底面。本實(shí)用新型的源瓶提高了源利用率，降低了生產(chǎn)成本，并且減少了有毒物質(zhì)的排放，減輕了對(duì)于環(huán)境的污染。
文檔編號(hào)H01L31/18GK201804844SQ20102026217
公開日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2010年7月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月13日
發(fā)明者楊斌, 魯科 申請(qǐng)人:無錫尚德太陽能電力有限公司