日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置制造方法
【專利摘要】日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，涉及濾光片參數(shù)測試【技術(shù)領(lǐng)域】，解決帶外深度截止濾光片的截止深度無法測試的問題，包括：光源；暗箱，位于所述光源前方，側(cè)面設(shè)置有入光口；孔徑光闌，位于所述入光口和所述光源之間，用來控制進(jìn)入所述入光口的光能量；濾光片盒與衰減片盒，位于所述暗箱內(nèi)部，分別用來盛放濾光片與衰減片，其中所述衰減片盒中按照多片級聯(lián)V形布局的衰減片槽可使每排所述衰減片相互垂直；光電倍增管，位于所述暗箱內(nèi)部并與所述入光口同軸放置，所述光電倍增管與探測裝置共同組成的光電探測器用于探測所述光源通過所述濾光片和所述衰減片的輸出電信號，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單易于操作。
【專利說明】日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及濾光片參數(shù)測試【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及日盲紫外濾光片帶外截止深度的測試裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]日盲紫外濾光片是日盲紫外成像探測中的重要光學(xué)元件，其帶外截止深度指在近紫外、可見及近紅外譜段對入射輻照的抑制能力，準(zhǔn)確測試帶外截止深度對于實(shí)現(xiàn)與探測器的光譜優(yōu)化匹配進(jìn)而提升系統(tǒng)信噪比具有重要意義。現(xiàn)有測試儀器主要有分光光度計(jì)、DF透反儀、聲光調(diào)制檢測系統(tǒng)等對濾光片帶外截止深度可測試范圍最大僅有8-0D，而日盲紫外紫外濾光片的帶外截止深度均在8-0D之上，部分譜段超過10-0D，目前已有的裝置無法準(zhǔn)確測試日盲紫外濾光片帶外截止深度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明為解決帶外深度截止濾光片的截止深度無法測試的問題，提供一種日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置。
[0004]日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，該裝置包括:光源，暗箱，位于所述光源前方，側(cè)面設(shè)置有一個(gè)入光口 ；孔徑光闌，位于所述入光口和光源之間，用于控制進(jìn)入入光口的光能量；濾光片盒與衰減片盒，位于所述暗箱內(nèi)部，分別用于盛載濾光片與衰減片，所述衰減片盒內(nèi)的衰減片相互垂直放置；光電倍增管，位于暗箱內(nèi)部并與入光口同軸，所述光電倍增管與探測裝置共同組成的光電探測器，用于探測所述光源通過所述濾光片和所述衰減片的輸出電信號。
[0005]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，用于測量帶外深度截止的日盲紫外濾光片截止深度，結(jié)構(gòu)簡單易于操作，測試過程全部自動化，快捷高效；本發(fā)明所述的裝置增大了濾光片測量截止深度的動態(tài)范圍。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]圖1為本發(fā)明所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置的俯視圖；
[0007]圖2為本發(fā)明所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置的側(cè)視圖；
[0008]圖3為本發(fā)明所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置中衰減片槽的排布示意圖；
[0009]圖4為本發(fā)明所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置的測試流程圖。【具體實(shí)施方式】
[0010]【具體實(shí)施方式】一、結(jié)合圖1至圖3說明本實(shí)施方式，日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，包括:
[0011]光源1，為一系列窄帶高穩(wěn)定mW級并加有準(zhǔn)直物鏡的LED，沿同一高度按波長順序水平放置；暗箱2，位于所述光源I前方，側(cè)面設(shè)置有一個(gè)入光口，可避免測試受到環(huán)境雜散光的影響；孔徑光闌3，位于所述入光口和所述光源I之間，用來控制進(jìn)入所述入光口的光能量；濾光片盒4與衰減片盒5，位于所述暗箱2內(nèi)部，分別用來盛載濾光片與衰減片；光電倍增管6，位于所述暗箱2內(nèi)部并與所述入光口同軸放置，所述光電倍增管與探測裝置10共同組成的光電探測器11用于探測所述光源I通過所述濾光片和所述衰減片的輸出電信號。
[0012]本實(shí)施方式所述的衰減片為標(biāo)準(zhǔn)反射式中性衰減片，所述衰減片的光譜衰減系數(shù)已知，結(jié)合圖3，提供了所述衰減片槽的具體排布圖，所述衰減片盒5中按照多片級聯(lián)V形布局的衰減片槽7可使每排所述衰減片相互垂直。所述光電倍增管6的光敏面的口徑應(yīng)大于Φ IOmm,優(yōu)選的為Φ 15mm的口徑。
[0013]本實(shí)施方式中還包括:精密位移平臺8，位于所述濾光片盒4與所述衰減片盒5下方，用來控制所述濾光片盒4與所述衰減片盒5的空間位置；暗箱導(dǎo)軌9，位于所述暗箱2下方，用來移動所述暗箱2的位置，使所述入光口依次對準(zhǔn)所述光源；光學(xué)平臺12，用來盛載所述日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置。所述的精密位移平臺8與所述暗箱導(dǎo)軌9均為電控位移臺，可通過計(jì)算機(jī)編程全自動控制其空間位置。
[0014]【具體實(shí)施方式】二、結(jié)合圖4說明本實(shí)施方式，本實(shí)施方式為【具體實(shí)施方式】一所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置的測試方法，包括以下步驟:
[0015]一、提供衰減系數(shù)為k的衰減片。
[0016]二、由所述光電探測器11探測所述光源I通過日盲紫外濾光片的輸出電信號。該步驟具體為:將所述光源I對準(zhǔn)所述光電倍增管6，在所述光源I與所述光電倍增管6之間放置所述日盲紫外濾光片，由 所述光電探測器11探測所述光源I經(jīng)過所述日盲紫外濾光片后的所述輸出電信號。
[0017]三、根據(jù)通過所述日盲紫外濾光片后的所述輸出電信號的量級選擇所述衰減片片數(shù)N并將其疊加使用，由所述光電探測器11探測所述光源I通過所述衰減片的輸出電信號。該步驟具體為:根據(jù)通過所述日盲紫外濾光片后的所述輸出電信號的量級，選擇所述衰減片片數(shù)N并將其疊加使用，使通過所述衰減片的所述輸出電信號與通過所述日盲紫外濾光片后的所述輸出電信號的量級相近。參見圖3，所述光源I入射到所述衰減片上經(jīng)多次反射最終進(jìn)入所述光電倍增管6上。
[0018]將所述光源I對準(zhǔn)所述光電倍增管6，在所述光源I與所述光電倍增管6之間放置所述衰減片，由所述光電探測器11探測所述光源I經(jīng)過所述日盲紫外濾光片后的所述輸出電信號。
[0019]四、采用模擬軟件對步驟二與三中由所述光電探測器11探測的所述輸出電信號與的數(shù)據(jù)多次平均后進(jìn)行記錄。
[0020]五、根據(jù)獲得的上述參數(shù)，計(jì)算濾光片帶外截止深度如下:
[0021]
【權(quán)利要求】
1.日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，其特征是，該裝置包括: 光源(I); 暗箱(2 )，位于所述光源(I)前方，側(cè)面設(shè)置有一個(gè)入光口 ； 孔徑光闌(3 )，位于所述入光口和光源(I)之間，用于控制進(jìn)入入光口的光能量； 濾光片盒(4)與衰減片盒(5 )，位于所述暗箱(2 )內(nèi)部，分別用于盛載濾光片與衰減片，所述衰減片盒(5)內(nèi)的衰減片相互垂直放置； 光電倍增管(6)，位于暗箱(2)內(nèi)部并與入光口同軸，所述光電倍增管(6)與探測裝置(10 )共同組成的光電探測器(11)，用于探測所述光源(I)通過所述濾光片和所述衰減片的輸出電信號。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，其特征在于，所述光源(I)為窄帶高穩(wěn)定mW級并加有準(zhǔn)直物鏡的LED，所述LED沿同一高度按波長順序水平放置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，其特征在于，所述裳減片為標(biāo)準(zhǔn)反射式中性裳減片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，其特征在于，所述衰減片盒(5)中設(shè)置按照多片級聯(lián)V形布局的衰減片槽(7)，使每排所述衰減片相互垂直。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，其特征在于，所述光電倍增管(6)的光敏面的口徑大于ΦΙΟπιπι。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，其特征在于，所述探測裝置(10)為弱電流放大器。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，其特征在于，該裝置還包括: 精密位移平臺(8)，位于所述濾光片盒(4)與衰減片盒(5)的下方，用于控制所述濾光片盒(4)與衰減片盒(5)的位置； 暗箱導(dǎo)軌(9)，位于暗箱(2)的下方，用于移動所述暗箱(2)的位置，使入光口依次對準(zhǔn)光源(I)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的日盲紫外濾光片帶外截止深度測試裝置，其特征在于，所述精密位移平臺(8)與所述暗箱導(dǎo)軌(9)均為電控位移臺。
【文檔編號】G01M11/02GK103616162SQ201310603534
【公開日】2014年3月5日 申請日期:2013年11月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月25日
【發(fā)明者】周躍, 崔穆涵, 陳雪, 章明朝, 閆豐, 隋永新 申請人:中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所