專利名稱：薄膜檢查方法及其裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及主要在半導(dǎo)體制造工藝中利用的薄膜檢查方法，特別是涉及通過用光的干涉現(xiàn)象檢查薄膜表面，能夠進行與薄膜種類無關(guān)可靠性高的檢查的薄膜檢查方法及其裝置。
現(xiàn)有技術(shù)薄膜(thin film)檢查在使用以真空鍍膜(deposition)、曝光(exposure)、刻蝕(etching)等為代表的半導(dǎo)體工藝的LCD(Liquid Crystal Display液晶顯示)、PDP(Plasma Display Panel等離子顯示屏)等制品的制造中是極為重要的。在TFT(TFTThin Film Transistor薄膜晶體管)LCD中將具有1000以下厚度的薄膜重疊形成的有/無、缺損/過多或異物的污染對最終制品的質(zhì)量有深刻的影響。因此，必須進行形成的薄膜檢查，隨著半導(dǎo)體工程的開發(fā)已介紹了各種各樣的檢查方法。以下敘述其代表的檢查方法。
如圖1所示，最一般的方法是用區(qū)域CCD(Charge-Coupled Device電荷耦合器件)11和照明12的光學(xué)系統(tǒng)的檢查方法。該方法的優(yōu)點是，由于可以從極其不同的角度將照明12均勻地給予對象物，所以能夠?qū)τ跇O微細的突出和擦痕或者厚度變化鈍感成象。這種方法一般主要在由模型的檢查測定模型的2維尺寸時使用，另外，由于必須均一大面積的照明，所以光源使用LED。
但是，該光學(xué)系統(tǒng)對于要對模型設(shè)定檢查條件，或者要檢測極微細的缺陷是不適合的，而且，由于使用適于區(qū)域CCD照明的緣故，所以要進行用線性CCD的高速檢查是不適合的。
另外，有利用同軸落射照明的檢查方法。如圖2所示，該方法是將同軸落射照明21和傾斜照明22固定在適當(dāng)?shù)慕嵌龋o予檢查對象物20的表面以照明，由CCD23得到圖象的方法。
用該方法檢查的最佳條件與薄膜模型的性質(zhì)有密切的關(guān)系，而調(diào)節(jié)這樣條件的方法是很受限制的。即，因調(diào)節(jié)條件的方法受到調(diào)節(jié)同軸照明和傾斜照明的明亮度的限制，所以在存在不同種模型或模型性質(zhì)改變的場合不能找出檢測的最佳條件。另外，即使所謂同一過程，也必需有根據(jù)過程條件調(diào)節(jié)檢查條件的方法，因此所述方法對此缺少對策。
另外，オルボテツク(Orbotech)公司提出應(yīng)用偏光解析(Ellipsometry)的光學(xué)技術(shù)的薄膜檢查方法，該方法已在美國專利5333052中公開。如圖3所示，該方法使用的裝置由偏光器31、延遲器32和分析器33構(gòu)成，由照明35射出的光一邊通過偏光器(Polarizer)31一邊改變成線偏振光照射到檢查對象30上，由檢查對象30的表面反射的橢圓偏振光一邊通過延遲器(retarder)32一邊再改變成線偏振光，該線偏振光通過分析器(Analyzer)33射入CCD傳感器34得到圖象。結(jié)果，該方法的優(yōu)點是，對于特定形式的膜可以使其靈敏度最大化，通過改變延遲器和分析器的回轉(zhuǎn)角度，可以調(diào)節(jié)想要強調(diào)的膜的明暗。
即，由于改變延遲器32和分析器33的回轉(zhuǎn)角度能夠調(diào)節(jié)亮度(contrast)，所以可以根據(jù)膜的特性改變檢測條件。但是，當(dāng)存在2枚以上特性不同的薄膜時，要決定能完全滿足多種膜特性的檢測條件是不可能的。也就是說，對于一種膜檢測精度高時，對于另一處膜的檢測精度可能就低。
因此，在所述薄膜的檢查方法中，當(dāng)多種薄膜混合存在時設(shè)定檢測條件是困難的，由于在一定的檢測條件下檢測精度有所不同，所以存在所謂檢查結(jié)果不可靠的問題。
總之，現(xiàn)有的薄膜檢查方法，或者使用一個照明，或者同時使用對表面檢查的必要用的多個光源，雖然將偏光解析這樣古典的光學(xué)的機構(gòu)用于檢查，但是存在有使模型相對靈敏度提高的方法受到極大限制，或者對多種模型不能摸索出調(diào)節(jié)對策的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決所述現(xiàn)有技術(shù)的問題進行了研究，其目的是，提供通過用能夠調(diào)節(jié)從不同角度入射的光的波長和強度的兩個以上光源調(diào)節(jié)干涉強度，設(shè)定最合適的檢查條件，即使多種薄膜混合也能夠得到有充分可靠性的檢查結(jié)果的薄膜檢查方法和其裝置。
為達到所述目的，本發(fā)明的薄膜檢查方法由以下階段構(gòu)成使多個光源從不同的角度照射到形成薄膜的平板上的光照射階段、一邊使在所述光照射階段照射的光由薄膜反射一邊由傳感器識別產(chǎn)生干涉的反射光的識別階段和分析在所述識別階段識別的光并判斷薄膜狀態(tài)的判斷階段。
另外，本發(fā)明的薄膜檢查裝置的特征在于由以下各部分構(gòu)成放置具有不同折射率和厚度的模型的平板、可以一邊使光照射角度改變一邊使光照射到所述模型上的照明部、位于所述照明部和所述平板之間調(diào)節(jié)照射到所述模型上的光的入射光調(diào)節(jié)部、識別由所述模型反射的反射光的傳感器部、位于所述平板和所述傳感器部之間調(diào)節(jié)由所述傳感器部識別的所述模型的反射光的反射光調(diào)節(jié)部和控制所述照明部及傳感器部移動的控制部。


圖1是概略表示一般光學(xué)系統(tǒng)的模式圖；圖2是表示現(xiàn)有薄膜檢查中使用的照明系統(tǒng)的示意圖；圖3是表示使用橢圓偏光器的光學(xué)系統(tǒng)的模式圖；圖4是表示本發(fā)明的薄膜檢查裝置的構(gòu)成圖；圖5是本發(fā)明使用技術(shù)的示意圖；圖6是表示本發(fā)明使用的技術(shù)的主要部分的示意圖；圖7是表示本發(fā)明使用的光源的行進路徑的示意圖；圖8(a)是表示光合成原理的曲線圖，(b)是表示光削弱原理的曲線圖；圖9是表示在本發(fā)明光學(xué)系統(tǒng)中由一種條件形成的干涉變化率的曲線圖圖10是表示在本發(fā)明光學(xué)系統(tǒng)中由另一條件形成的干涉變化率的曲線圖；圖11是表示在本發(fā)明光學(xué)系統(tǒng)中由一種條件形成的模擬結(jié)果的曲線圖；圖12是表示在本發(fā)明光學(xué)系統(tǒng)中由其它條件形成的模擬結(jié)果的曲線圖。
具體實施例方式
以下，參照附圖詳細地說明本發(fā)明的實施例。
本發(fā)明的薄膜檢查方法由以下階段構(gòu)成對在平板上形成具有不同厚度或折射率的薄膜的平板使用分別獨立的多個光源從不同的角度把光照射到平板上的光照射階段、一邊使在所述光照射階段照射的光由薄膜反射一邊由傳感器識別產(chǎn)生干涉的反射光的識別階段和分析在所述識別階段識別的光并獲得信息判斷薄膜狀態(tài)的判斷階段。
這里，所述光照射階段的光源可以實時調(diào)節(jié)光的波長和照射方向，通過使所述光源水平移動，可以調(diào)節(jié)光的入射角。
而且，所述識別階段能夠選擇地識別由所述光源的調(diào)節(jié)結(jié)果獲得的反射光的波長并調(diào)節(jié)特定材料的圖象的靈敏度。
即在所述光照射階段以使所述光源水平移動，光的入射軸由光源的中心軸偏離的方式照射的光，在構(gòu)成薄膜的平板的模型上一邊反射或透過一邊折射，折射的光因衍射在模型的周邊形成明暗帶，使得到的材料圖象成為被強調(diào)的形狀。
作為得到這樣被強調(diào)的形狀的方法，可以舉出應(yīng)用斜角照明顯微鏡(bevel illumination microscope)的原理的方法，斜角照明顯微鏡使用為使所觀察對象體的形狀更明確，使光源的傾斜角從顯微鏡的光軸稍微偏離的照光方法。
另一方面，所述薄膜檢查方法使傳感器的位置與所述光源相對向配置，并使由所述光源照射到平板上的入射光的路徑和由所述平板至傳感器的反射光的路徑不重合。
圖4是表示本發(fā)明薄膜檢查裝置的構(gòu)成圖。
為實現(xiàn)所述本發(fā)明的方法，本發(fā)明薄膜檢查裝置，如圖4所示，由以下部分構(gòu)成放置形成薄膜的模型P1、P2的平板60；使光以一定的角度照射到所述平板60和模型P1、P2上并能使光的照射角可變的照明部50；位于所述照明部50和所述平板60之間調(diào)節(jié)照射到所述模型P1、P2上的光的入射光調(diào)節(jié)部70；識別由所述模型P1、P2反射的反射光的傳感器部90；位于所述平板60和所述傳感器部90之間調(diào)節(jié)由所述傳感器部90識別的所述模型P1、P2的反射光的反射光調(diào)節(jié)部80和控制所述照明部50及傳感器部90移動的控制部(未圖示)。
這里，所述照明部50和所述傳感器部90以相對傾斜的方式配設(shè)，因此從所述照明部50照射的光無干涉地傳達到所述傳感器部90。
此外，所述照明部50因相對于光軸可水平移動地設(shè)置，所以通過移動所述照明部的位置，能夠調(diào)節(jié)入射到所述入射光調(diào)節(jié)部光的角度。
所述照明部50包括可調(diào)節(jié)光的波長和強度的至少兩個以上光源51而構(gòu)成，在所述光源51的前方分別配置波長調(diào)制手段52，由所述光源照射的光一邊透過，一邊調(diào)制波長。
這樣，波長被調(diào)制的光入射到視準(zhǔn)透鏡53并垂直地照射到所述入射光調(diào)節(jié)部70，為此，調(diào)整由所述波長調(diào)制手段52照射的光的路徑，配置誘導(dǎo)到所述視準(zhǔn)透鏡53的路徑調(diào)整系統(tǒng)。
所述波長調(diào)制手段52由可回轉(zhuǎn)地設(shè)在各光源51的前方的輪52a和在所述輪52a上環(huán)狀配列的多種色差的濾色片52b構(gòu)成，由所述光源51照射的光一邊通過所述濾色片52b一邊調(diào)制波長。
另一方面，所述路徑調(diào)制系統(tǒng)最好由所述波長調(diào)制手段52的前方和所述視準(zhǔn)透鏡53的后方之間連接設(shè)置的光纖54構(gòu)成，或者由至少一個以上的反射鏡構(gòu)成。
藉此，由光源51照射的光一邊通過光纖54或反射鏡，一邊折射或反射，無損失地傳到所述視準(zhǔn)透鏡53上。
在所述視準(zhǔn)透鏡53的前方配置所述入射光調(diào)節(jié)部70，調(diào)節(jié)照射到模型上的光的波長或強度，所述入射光調(diào)節(jié)部70由將所述照明部50照射的光折射并一條直線地照射到模型P1、P2上的折射透鏡71和配置在所述第1折射透鏡71和平板60之間可以調(diào)節(jié)入射到所述模型P1、P2上的光量的入射濾光片72構(gòu)成。
所述第1折射透鏡71由入射面平坦出射面鼓起的半圓筒形透鏡構(gòu)成，所以入射時光不折射，而出射時光向中心線折射。
而且，所述入射濾光片72使用不具有極性的中性密度(Neutral Density)的一般濾光片，或者使用具有極性的偏光濾光片以改變透過的光的極性。
所述傳感器部90由可以水平移動并識別從所述模型P1、P2反射的反射光的線性傳感器91和把在所述線性傳感器91形成的信號數(shù)字化表示的AD轉(zhuǎn)換器92構(gòu)成。
而且，所述反射光調(diào)節(jié)部80由設(shè)在所述線性傳感器91和平板60間、將反射光集中到所述線性傳感器91側(cè)的第2折射透鏡82和設(shè)在所述第2折射透鏡82和模型P1、P2間、調(diào)節(jié)可測定的光量的檢測濾光片81構(gòu)成。
所述視準(zhǔn)透鏡53和所述線性傳感器91相對傾斜配設(shè)，所述光源51可以用一個方向上長排列的點照明或者光纖形成。所述輪52a可以一邊用馬達或手動回轉(zhuǎn)，一邊容易地改變?nèi)肷洳ㄩL；所述視準(zhǔn)透鏡53和線性傳感器91可以通過控制部(未圖示)動作的驅(qū)動裝置水平移動。
所述第2折射透鏡82由入射面鼓起出射面平坦的半球形凸透鏡的構(gòu)成，因此入射時光向中心折射。
另一方面，所述檢測濾光片81與所述入射濾光片72同樣，使用不具有極性的中性密度的一般濾光片，或者使用具有極性的偏光濾光片以改變透過的光的極性。
按照以上構(gòu)成的本發(fā)明薄膜檢查裝置，當(dāng)檢查多種薄膜混合的平板時，可以通過下述過程適宜調(diào)節(jié)檢查條件。
由光源51照射的光，一邊通過所述波長調(diào)制手段52的濾色片52b一邊改變波長后，經(jīng)過光纖54傳到視準(zhǔn)透鏡53。這時，所述視準(zhǔn)透鏡53使光經(jīng)由第1折射透鏡71和入射濾光片72照射到平板60上的模型P1、P2上，而且，入射到所述第1折射透鏡71的光折射并一條直線地照射到平板上，入射到模型P1、P2上的光量由所述入射濾光片72調(diào)節(jié)。接著，由模型P1、P2反射的反射光經(jīng)檢測濾光片81通過第2折射透鏡82由線性傳感器91檢測，該線性傳感器91的信號由AD轉(zhuǎn)換器92數(shù)字化表示。
此時，所述波長調(diào)制手段52的輪52a一邊回轉(zhuǎn)，一邊使光通過不同的濾色片調(diào)制光的波長。另外，所述視準(zhǔn)透鏡53由電機(未圖示)直線狀地移動，微調(diào)入射到模型P1、P2上的光的入射角。另外，所述線性傳感器91也一邊由線性馬達(未圖示)移動一邊檢測反射光，若考慮由所述視準(zhǔn)透鏡53的位置和濾色片52b所決定的入射光的波長等，就能夠設(shè)定最合適的檢查條件。
以下，基于理論根據(jù)進一步詳細地說明本發(fā)明薄膜檢查方法及其裝置的動作。
圖5是適用本發(fā)明的技術(shù)的示意圖，圖6是表示適用本發(fā)明的技術(shù)的主要部分的示意圖，進而說明通過用能夠調(diào)節(jié)從不同角度入射的光的波長和強度的兩個以上光源調(diào)節(jié)干涉強度，可以設(shè)定最合適的檢查條件。
即，將以一定的厚度置于平板(flat plate)上的薄膜稱為模型(pattern)，圖5的P1和P2是指具有不同折射率和厚度的兩個模型，因各個模型厚度和折射率不同，使干涉(interference)強度不同。L1和L2是光源，使用反射鏡或光纖可以調(diào)整光的照射路徑，各光源具有特定的波長特性，或使用濾光片可以調(diào)整其特性。
而且，LS1為入射面平坦、出射面鼓起的半圓筒形透鏡；LS2為入射面鼓起的、出射面平坦的半球形凸透鏡。
光源L1和L2在與檢查對象表面垂直的線的θ0方向上視準(zhǔn)并照射光，通過半圓筒形透鏡LS1并以同一條直線照射，θ0可以隨著對象物調(diào)節(jié)使用。此時，通過使傳感器和照明傾斜并相對配設(shè)，使入射的入射光路徑和反射光的路徑不重合。
另外，調(diào)整加到模型表面的光的照射角度時，可以調(diào)整內(nèi)部反射光(internal reflection light；Ix)和外部反射光(external reflection light；Iy)的干涉程度。
另一方面，圖6表示通過光源L1和L2的水平移動，入射角隨著視準(zhǔn)位置改變的原理。與光軸平行的方向入射的光通過透鏡的焦點，而加到透鏡邊緣的光形成大的折射角入射到對象物表面，加到透鏡中央的光沒有折射地入射到表面。
圖7是表示本發(fā)明使用的光源行進路徑的示意圖，圖8(a)是表示光的合成原理的的曲線圖，圖8(b)是表示光的削弱原理的曲線圖。
即，使光照射到模型表面時，如圖7所示，外部反射光和內(nèi)部反射光沿不同的路徑行進，由入射光的角度可以改變兩反射光的干涉程度。此時，由這兩反射光的相位使干涉的結(jié)果不同，如圖8所示因干涉有時顯現(xiàn)較明亮，有時顯現(xiàn)較暗。
例如，當(dāng)由模型表面反射的內(nèi)部反射光Ix和外部反射光Iy以同一波長反射時，如圖8(a)所示根據(jù)光的重疊原理合成光Ia的強度增強，相反，當(dāng)內(nèi)部反射光Ix和外部反射光Iy以互相相反的波長反射時，如圖8(b)所示根據(jù)光的削弱原理合成光Ib的強度削弱。
入射到模型上的光量可以通過調(diào)節(jié)光源的亮度或者使用濾光片進行調(diào)節(jié)。F1和F2是濾色片，可以分別調(diào)節(jié)入射到模型表面的光量和可以測定的光量。
光源L1和L2可以分別在x1和x2方向移動，因隨著光源移動距離δ1和δ2改變，所以可以高精度地調(diào)節(jié)入射角。
本發(fā)明涉及當(dāng)具有不同厚度的薄膜均勻地置于平坦的材料上作為模型存在時有利于測定、檢查、監(jiān)視模型的有/無和缺損/過多及厚度的變化的光學(xué)系統(tǒng)，有利于檢測的條件是(a)為強調(diào)模型的有/無和缺損/過多，使模型和背景亮度的差別充分大。
(b)為區(qū)分模型的各區(qū)域，要使不同模型間亮度的差別充分大。
(c)要使由薄膜的厚度/折射率形成的檢測光量的變化量充分大。
在由一定的方向?qū)σ砸欢ǖ暮穸染煌坎荚诓牧媳砻嫔系碾娊橘|(zhì)薄膜進行照明時，可檢測光的平均強度和由厚度形成的變化率用下述數(shù)學(xué)式1表示。
數(shù)學(xué)式1I=Ix+Iy+2IxIycos(4πnTTcosθT/λ+π)]]>δI/δ(T)=8(IxIy)π/λ·nT·cosθTx·sin(4π·nTT·cosθTx/λ)]]>式中，λ為入射波長，θT為折射角，Ix為內(nèi)部反射，Iy為外部反射，這些變量可以外部調(diào)節(jié)。另外，T為薄膜厚度，nT為薄膜折射率，這些變量是檢查對象的變量。
以下是將所述(a)、(b)及(c)條件稱為“檢測條件”。而且，為便于分析，規(guī)定Ix/Iy＝1，按照下述數(shù)學(xué)式2分配變量τ并取等效厚度(equivalentthickness)。
數(shù)學(xué)式2τ＝nTT另外，檢測條件(a)(b)及(c)用數(shù)學(xué)式表示時，是如下述數(shù)學(xué)式。
數(shù)學(xué)式3Im(θTX′λ)τ＝τ1＞I1Im(θTX′λ)τ＝τ2＞I2δI/δτ(θTX′λ)τ＝τ1＞Q1δI/δτ(θTX′λ)τ＝τ2＞Q2|I1-I0|＞δ1|I2-I0|＞δ2|I3-I0|＞δ3式中，I0是背景光量，常數(shù)I1和I2是區(qū)分各個模型的必要的最小光量。δi(i＝1、2、3)是為得到相對靈敏度(contrast)而規(guī)定充分值的常數(shù)。另外，常數(shù)Q1和Q2是為識別厚度的變化所必要的最小光量變化率，按情況必須能夠調(diào)整到敏感或者不敏感。以上常數(shù)在不發(fā)生誤判(false defect)的范圍內(nèi)必須決定為充分大的值。
在現(xiàn)有的方法中或使用一個照明，或同時使用對表面檢查所必要的多種光源，或者將偏光解析這樣古典的光學(xué)的機構(gòu)用于檢查，但用這些方法時，提高模型相對靈敏度的方法受到極大限制，或者不能摸索出對多個模型的調(diào)節(jié)方法。另外，兩種以上的模型在材料上形成膜時，各個模型有不同的最適宜檢查條件。因而，使用兩個變量(θTX、λ)可選定滿足數(shù)學(xué)式3的條件的I1、I2、Q1及Q2的范圍變窄，也有不能進一步選定所希望條件的情況。
圖9至圖12所示的模擬結(jié)果表示用一個照明不能設(shè)定希望的檢測條件的情況。
圖9表示λ＝550nm、T＝1700時因折射角而變化的干涉光強度及其變化率，圖10是相同波長T＝2800時的結(jié)果。在該模擬中為了分析方便，折射率n固定為常數(shù)，觀察由T變化產(chǎn)生的結(jié)果。
如圖9所示，滿足T＝1700的模型的檢測條件是θT＜38°。但是，如圖10所示，在T＝2800的模型中，由Im＞I2的條件，θT＜41°。
根據(jù)所述模擬結(jié)果可以認為，改變波長或在更寬的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)θT是能克服的，但是實際上是有界限的。
數(shù)學(xué)式4θT＜θ0λmin＜λ＜λmax在所述數(shù)學(xué)式4中，折射角太大時，由材料表面發(fā)生全反射，達到結(jié)構(gòu)的界限。另外，若研究通常使用的光檢測傳感器的波長區(qū)別特性，λmin大約是400nm、λmax大約是600nm的水平。
圖11和圖12是因(θT、λ)而變化的光強度和變化率的模擬結(jié)果?？梢钥闯鋈珙A(yù)測的那樣不能夠由模擬結(jié)果決定滿足所述檢測條件的一個(θT、λ)。即在使用一個照明時，只能設(shè)定強調(diào)一個膜那樣的條件。
因而，在本發(fā)明中提出使至少兩個以上的獨立光源從不同的角度同時入射的方法。當(dāng)兩個不同的照明Ix和Iy照到檢查對象上時，不相互干涉、可測定的光的強度用下述數(shù)學(xué)式5表示。
數(shù)學(xué)式5Im＝Ix+Iy-Ix cos(4π·τ·cosθTX/λ2)-Iy cos(4π·τ·cosθTY/λ1)＝2·Ix sin2(2π·τ·cosθTX/λ1)+2·Iy sin2(2π·τ·cosθTY/λ2)另外，對τ變化的Im的變化率用下述數(shù)學(xué)式6表示。
數(shù)學(xué)式6δI/δ(τ)＝4π[Ix/λ·cosθTX·sin(4π·τ·cosTX/λ1)+Iy/λ2·cosθTy·sin(4π·τ·cosTy/λ2)]如所述數(shù)學(xué)式5和數(shù)學(xué)式6表示那樣，對于一個薄膜檢測條件選定良好的條件，對其余的1個用同樣的方法選定檢測條件時，對于不同的兩個模型可以滿足檢測條件。
由圖11和圖12模擬結(jié)果可知，對于T＝1700和T＝2800的模型，分別由θT＝38°和θT＝45°的方向入射L1和L2光源，由同一傳感器識別時，能夠得到滿足檢測水準(zhǔn)的亮度和變化率。另外，使用不同的波長、調(diào)節(jié)入射角度，也可以提高兩個模型的亮度，降低變化率。
以上參照具體的實施例和

了本發(fā)明的薄膜檢查方法及其裝置，但本發(fā)明不限定于這些，無須說，在本發(fā)明的技術(shù)思想范圍內(nèi)，本專業(yè)的人員可以進行各種變型。
按以上這樣構(gòu)成的本發(fā)明的薄膜檢查方法及裝置，能夠使用可以調(diào)節(jié)從不同角度入射的光的波長和強度的兩個以上光源調(diào)節(jié)干涉強度，因此即使多種薄膜混合也能夠設(shè)定最適宜的檢查條件，得到有充分可靠性的檢查結(jié)果。
權(quán)利要求
1.一種薄膜檢查方法，其特征在于，由以下階段構(gòu)成使多個光源從不同的角度照射到形成薄膜的平板上的光照射階段；一邊使在所述光照射階段照射的光由薄膜反射，一邊由傳感器識別產(chǎn)生干涉的反射光的識別階段；和分析在所述識別階段識別的光并判斷薄膜狀態(tài)的判斷階段。
2.如權(quán)利要求1所述的薄膜檢查方法，其特征在于，在所述光照射階段中，實時調(diào)節(jié)光的波長和照射方向。
3.如權(quán)利要求1或2所述的薄膜檢查方法，其特征在于，在所述光照射階段，水平移動所述光源調(diào)節(jié)光的入射角。
4.如權(quán)利要求1或2所述的薄膜檢查方法，其特征在于，在所述識別階段，能夠選擇地識別由所述光源的調(diào)節(jié)結(jié)果獲得的反射光的波長，并調(diào)節(jié)特定材料的圖象靈敏度。
5.如權(quán)利要求1所述的薄膜檢查方法，其特征在于，使所述光源和傳感器相對向配置，并使由所述光源至平板的入射光的路徑和由所述平板至傳感器的反射光的路徑不重合。
6.一種薄膜檢查裝置，其特征在于，由以下各部分構(gòu)成放置具有不同折射率和厚度的模型的平板；可以一邊使光照射角度改變一邊使光照射到所述模型上的照明部；位于所述照明部和所述平板之間調(diào)節(jié)照射到所述模型上的光的入射光調(diào)節(jié)部；識別由所述模型反射的反射光的傳感器部；位于所述平板和所述傳感器部之間調(diào)節(jié)由所述傳感器部識別的所述模型的反射光的反射光調(diào)節(jié)部；和控制所述照明部及傳感器部移動的控制部。
7.如權(quán)利要求6所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述照明部和所述傳感器部相對傾斜配置。
8.如權(quán)利要求6所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述照明部以相對于光軸可水平移動地設(shè)置并能夠調(diào)節(jié)入射到所述入射光調(diào)節(jié)部的光的角度。
9.如權(quán)利要求6所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述照明部包括可調(diào)節(jié)光的波長和強度的至少兩個以上的光源；在所述光源的前方分別配置并改變透過光的波長的波長調(diào)制手段；使透過所述波長調(diào)制手段的光垂直地入射到所述入射光調(diào)節(jié)部的視準(zhǔn)透鏡；配置在所述視準(zhǔn)透鏡和波長調(diào)制手段之間并可以調(diào)整照射的光的路徑的路徑調(diào)整系統(tǒng)。
10.如權(quán)利要求9所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述波長調(diào)制手段由可回轉(zhuǎn)地設(shè)在各光源前方的輪和在所述輪上環(huán)狀配列的多種色差的濾色片構(gòu)成。
11.如權(quán)利要求9所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述路徑調(diào)制系統(tǒng)由所述波長調(diào)制手段的前方和視準(zhǔn)透鏡之間連接設(shè)置的光纖構(gòu)成。
12.如權(quán)利要求9所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述路徑調(diào)制系統(tǒng)由至少一個以上的反射鏡構(gòu)成。
13.如權(quán)利要求6所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述入射光調(diào)節(jié)部由以下部分構(gòu)成使由所述照明部照射的光以一條直線地照射的方式使光折射的第1折射透鏡；配置在第1折射透鏡與平板間并可以調(diào)節(jié)入射到所述模型上的光量的入射濾光片。
14.如權(quán)利要求13所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述第1折射透鏡由入射面平坦出射面鼓起的半筒形透鏡構(gòu)成。
15.如權(quán)利要求13所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述入射濾光片由偏光濾光片構(gòu)成。
16.如權(quán)利要求6所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述傳感器部由可以水平移動并識別所述模型反射的反射光的線性傳感器和將在所述線性傳感器形成的信號數(shù)字化表示的AD轉(zhuǎn)換器構(gòu)成。
17.如權(quán)利要求6所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述反射光調(diào)節(jié)部由配設(shè)在所述線性傳感器和平板之間、將反射光集中到所述線性傳感器一側(cè)的第2折射透鏡和配設(shè)在所述第2折射透鏡和模型之間、調(diào)節(jié)可測定光量的檢測濾光片構(gòu)成。
18.如權(quán)利要求17所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述第2折射透鏡由入射面鼓起、出射面平坦的半球形凸透鏡構(gòu)成。
19.如權(quán)利要求17所述薄膜檢查裝置，其特征在于，所述檢測濾光片由偏光濾光片構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明提供薄膜檢查方法及其裝置，該裝置通過使用能夠調(diào)節(jié)從不同角度入射的光的波長和強度的兩個以上光源調(diào)節(jié)干涉強度，即使多種薄膜混合也能夠設(shè)定最合適的檢查條件而得到有充分可靠性的檢查結(jié)果。其解決手段是，利用有以下構(gòu)成的光學(xué)系統(tǒng)放置具有不同折射率和厚度的模型的平板；使光照射到所述模型上并可改變光的照射角的照明部；位于所述照明部和所述平板之間并調(diào)節(jié)入射到所述模型上的光的入射光調(diào)節(jié)部；識別由所述模型反射的反射光的傳感器部；位于所述平板和所述傳感器部之間并調(diào)節(jié)由所述傳感器部識別的所述模型的反射光的反射光調(diào)節(jié)部和控制所述照明部及傳感器部移動的控制部。
文檔編號G01B11/06GK1414377SQ0215751
公開日2003年4月30日 申請日期2002年10月18日 優(yōu)先權(quán)日2001年10月18日
發(fā)明者鄭富溶, 林大鐵, 金敬玖 申請人:Lg電子株式會社