專利名稱：一種噴霧用多流體噴嘴設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種噴嘴結(jié)構(gòu)，特別涉及一種噴霧用多流體噴嘴結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
噴霧造粒設(shè)備廣泛應(yīng)用于微粒粉體生產(chǎn)中，霧化噴嘴的好壞直接影響到顆粒霧化 效果。隨著粉體技術(shù)的微?；枨?，對噴霧造粒的產(chǎn)品要求也進一步提高，例如打印機、復(fù) 印機等靜電成像設(shè)備用墨粉等在粒徑及粒度分布方面要求很高，分布窄、粒徑小及均勻性 好的微粒需求日益提高。通常，一般的噴霧造粒設(shè)備多是采用壓力噴嘴(一流體噴嘴)和 二流體噴嘴，但是由于傳統(tǒng)的噴霧出口為孔狀結(jié)構(gòu)，現(xiàn)有的二流體噴嘴很難達到大量噴出 幾微米左右的粉體顆粒，因此存在噴霧不均、噴霧量小及粒徑較大的缺陷。針對這個問題，業(yè)界已有研究對二流體噴嘴進行了改進，例如專利文獻 200810094261中將噴霧口設(shè)置成狹縫式，通過加大雙流體混合時的沖擊力的方式來增大噴 霧量，但是由于采用內(nèi)部混合方式，且受本身結(jié)構(gòu)及液體粘度的限制仍然不能完成液體微 粒的均勻噴霧。專利文獻200320118253中特公開了一種氣流式多通道霧化器，采用四流體 噴嘴設(shè)計，兩路氣體和兩路液體各行其道，充分混合后在噴嘴尖端處匯合后噴出，但是由于 采用直線噴霧方式，該設(shè)備在噴霧量及高粘度液體噴霧方面仍然有待改進。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有噴霧噴嘴的不足而提供一種改進的噴霧用 多流體噴嘴，霧化效果好、處理量大而且能夠?qū)崿F(xiàn)高粘度液體的噴霧。本實用新型采用的技術(shù)方案是通過四流體技術(shù)來實現(xiàn)。該噴嘴結(jié)構(gòu)包括噴嘴主體、噴嘴通道及噴嘴口。其中，所述噴嘴主體呈刀刃型位于 中央位置。噴嘴通道包括兩路氣體通道和兩路液體通道，且以噴嘴主體為中心呈對稱分布； 液體通道與噴嘴主體相鄰，氣體通道與液體通道相鄰。該噴嘴可實現(xiàn)兩種液體的混合噴霧， 噴霧粒徑可達到幾個微米。由氣體通道涌出的氣體和液體通道涌出的液體在在噴嘴下端的 液體流動面混合并在噴嘴口的環(huán)狀區(qū)域匯集后，四股流體在噴嘴口外部混合形成一股強大 的沖擊力，這樣不僅可實現(xiàn)圓周噴霧，并能實現(xiàn)1000CP以上的高粘度噴霧。所述的氣、液混合的液體流動面呈狹縫狀并設(shè)置0. 1-0. 3mm的寬度，該寬度可根 據(jù)噴霧量的多少進行調(diào)節(jié)，以達到微?；痛罅繃婌F的不同需求。本實用新型設(shè)計合理，環(huán)狀縫隙式噴嘴一改以往的孔狀結(jié)構(gòu)或者狹窄縫隙結(jié)構(gòu)， 不但使得料液處理量更多，而且環(huán)隙的寬度可以根據(jù)要求調(diào)節(jié)，更加方便。多流體通道可以 提高噴霧量，不會產(chǎn)生附著物堵塞問題，可以長期連續(xù)噴霧。另外，設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，霧化效果 較好。

圖1是本實用新型設(shè)備剖面圖。[0010]圖2是本實用新型設(shè)備外觀圖。如圖，1、噴嘴主體；2、液體通道；3、氣體通道；4、液體混合面。
具體實施方式
參照圖1，該噴嘴結(jié)構(gòu)包括噴嘴主體(1)、液體通道(2)、氣體通道(3)，氣體通道 (3)位于液體通道(2)的外側(cè)，氣體通道(2)和液體通道(3)相匯于液體混合面(4)，噴嘴 口(5)為環(huán)形縫隙狀。
權(quán)利要求一種噴霧用多流體噴嘴，包括噴嘴主體、噴嘴通道及噴嘴口，其特征在于所述噴嘴主體形狀為刀刃型，兩側(cè)通道呈對稱分布；所述噴嘴口為環(huán)狀縫隙式。
專利摘要本實用新型提供一種噴霧用多流體噴嘴設(shè)備。該設(shè)備結(jié)構(gòu)包括噴嘴主體、噴嘴通道及噴嘴口。噴嘴口呈環(huán)狀縫隙結(jié)構(gòu)，噴嘴通道分別由兩路氣體和兩路液體通道組成，氣體通道中噴射出的高速氣體和液體通道中涌出的液體在液體流動面混合，四股流體在環(huán)狀噴嘴口處匯集，經(jīng)沖擊后形成微米級液滴。本實用新型能達到噴霧均勻、微?；痛罅繃婌F的目的。
文檔編號B05B7/00GK201735462SQ20102017141
公開日2011年2月9日 申請日期2010年4月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月27日
發(fā)明者宮寧寧, 袁鵬 申請人:富美科技有限公司