本技術主要涉及超聲轉染裝置，具體為一種基于超聲轉染裝置的輻照結構。

背景技術：

1、轉染(transfection)是真核細胞主動或被動導入外源dna片段而獲得新的表型的過程，是目前基因治療疾病以及基因研究中常用的方法，而常規(guī)轉染技術可分為瞬時轉染和穩(wěn)定轉染(永久轉染)兩大類，現有的轉染方法，主要為電轉染、化學轉染、超聲轉染，而電轉染、化學轉染的細胞毒性大，超聲轉染中超聲靶向微泡破壞技術可誘導細胞膜短暫開放從而增加細胞膜通透性，并能將治療物質遞送至疾病部位，成為了一種安全、簡單有效的遞送方式。

2、現有的超聲轉染裝置通常將試驗產品放置在轉染試管內部，然后將轉染試管放置在無菌的箱體內部，通過箱體一側設置的超聲轉染儀對試管內部試驗產品進行超聲轉染，由于超聲轉染儀設置在箱體一側，而轉染試管設置在箱體內部導致與超聲轉染儀之間距離不一，并且處于后方的試管還被前方試管遮擋，導致內部試管超聲波輻照不均勻，這樣會影響到試驗結果。

技術實現思路

1、本實用新型技術方案針對現有技術解決方案過于單一的技術問題，提供了顯著不同于現有技術的解決方案，主要提供了一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，用以解決上述背景技術中提出的超聲轉染儀設置在箱體一側，由于箱體內部試管與超聲轉染儀距離不一，同時處于后方的試管前方還有試管這樣，這樣導致超聲波輻照不均勻，影響到試驗結果的技術問題。

2、本實用新型解決上述技術問題采用的技術方案為：

3、一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，包括底座，所述底座上方設置有超聲轉染儀主體和箱體，所述箱體上方設置有上蓋體，所述上蓋體與箱體之間設置有氣缸，所述箱體內部設置有用于放置轉染試管的下盤體，所述上蓋體下方設置有用于對轉染試管限位的上盤體，所述箱體內部底端設置有電機，所述電機與下盤體和上盤體之間設置有傳動組件。

4、優(yōu)選的，所述傳動組件包括轉動軸，所述轉動軸固定安裝在電機輸出端，所述轉動軸上端與下盤體底部固定連接。

5、優(yōu)選的，所述箱體內部兩側固定安裝有支撐塊，所述支撐塊用于支撐下盤體，且所述支撐塊與下盤體滑動連接。

6、優(yōu)選的，所述上盤體上開設有一圈插接槽，所述轉染試管插接在插接槽內部。

7、優(yōu)選的，所述上蓋體下方固定安裝支撐桿，所述支撐桿下端與上盤體轉動連接。

8、優(yōu)選的，所述上盤體上設置有一圈固定環(huán)，所述固定環(huán)插接在插接槽內部，且所述固定環(huán)對轉染試管底盤相貼合。

9、優(yōu)選的，所述固定環(huán)下方固定安裝有插接桿，所述轉染試管底盤上開設有插接孔，所述插接桿插接在插接孔內部。

10、與現有技術相比，本實用新型的有益效果為：將上蓋體下降蓋在箱體上方，上盤體也下壓在下盤體上方并對下盤體上方轉染試管限制固定，通過超聲轉染儀主體對箱體內部進行超聲波輻照，同時啟動電機，電機通過傳動組件帶動上盤體和下盤體轉動，多個轉染試管不斷進行轉動依次接近遠離超聲轉染儀主體進行超聲波輻照，這樣可以讓每個試管超聲波輻照均勻，降低由于輻照不均勻對試驗結果產生的誤差。

11、以下將結合附圖與具體的實施例對本實用新型進行詳細的解釋說明。

技術特征：

1.一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，包括底座（1），所述底座（1）上方設置有超聲轉染儀主體（2）和箱體（3），所述箱體（3）上方設置有上蓋體（4），所述上蓋體（4）與箱體（3）之間設置有氣缸（15），其特征在于：所述箱體（3）內部設置有用于放置轉染試管（13）的下盤體（5），所述上蓋體（4）下方設置有用于對轉染試管（13）限位的上盤體（9），所述箱體（3）內部底端設置有電機（6），所述電機（6）與下盤體（5）和上盤體（9）之間設置有傳動組件。

2.根據權利要求1所述的一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，其特征在于：所述傳動組件包括轉動軸（7），所述轉動軸（7）固定安裝在電機（6）輸出端，所述轉動軸（7）上端與下盤體（5）底部固定連接。

3.根據權利要求1所述的一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，其特征在于：所述箱體（3）內部兩側固定安裝有支撐塊（8），所述支撐塊（8）用于支撐下盤體（5），且所述支撐塊（8）與下盤體（5）滑動連接。

4.根據權利要求1所述的一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，其特征在于：所述上盤體（9）上開設有一圈插接槽，所述轉染試管（13）插接在插接槽內部。

5.根據權利要求4所述的一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，其特征在于：所述上蓋體（4）下方固定安裝支撐桿（10），所述支撐桿（10）下端與上盤體（9）轉動連接。

6.根據權利要求5所述的一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，其特征在于：所述上盤體（9）上設置有一圈固定環(huán)（11），所述固定環(huán)（11）插接在插接槽內部，且所述固定環(huán)（11）對轉染試管（13）底盤相貼合。

7.根據權利要求6所述的一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，其特征在于：所述固定環(huán)（11）下方固定安裝有插接桿（12），所述轉染試管（13）底盤上開設有插接孔（14），所述插接桿（12）插接在插接孔（14）內部。

技術總結
本技術公開了一種基于超聲轉染裝置的輻照結構，包括底座，底座上方設置有超聲轉染儀主體和箱體，箱體上方設置有上蓋體，上蓋體與箱體之間設置有氣缸，箱體內部設置有用于放置轉染試管的下盤體，上蓋體下方設置有用于對轉染試管限位的上盤體，箱體內部底端設置有電機，電機與下盤體和上盤體之間設置有傳動組件。本技術中，將上蓋體下降蓋在箱體上方，上盤體也下壓在下盤體上方并對下盤體上方轉染試管限制固定，通過超聲轉染儀主體對箱體內部進行超聲波輻照，同時啟動電機，電機通過傳動組件帶動上盤體和下盤體轉動，多個轉染試管不斷進行轉動依次接近遠離超聲轉染儀主體進行超聲波輻照。

技術研發(fā)人員：蔡浚楠,張遠生,陳東嘉,張世添
受保護的技術使用者：深圳市圣祥高科技有限公司
技術研發(fā)日：20240510
技術公布日：2025/1/9