使用過的研磨漿料的再生方法、磁盤用玻璃基板的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種使用過的研磨漿料的再生方法，其能夠?qū)⑹褂眠^的研磨漿料通過離心分離而產(chǎn)生的固體成分充分破碎，由此，在研磨處理中能夠抑制在玻璃基板上產(chǎn)生損傷。本發(fā)明的一個(gè)方式為一種使用過的研磨漿料的再生方法，所述使用過的研磨漿料含有在玻璃基板的研磨處理中使用的研磨磨粒，該再生方法具備：向上述使用過的研磨漿料中添加糖類而形成混合物的步驟；對(duì)上述混合物進(jìn)行離心分離從而去除上述混合物所含的玻璃成分的至少一部分的步驟；和對(duì)通過上述離心分離得到的固體成分進(jìn)行破碎的步驟。
【專利說明】
使用過的研磨漿料的再生方法、磁盤用玻璃基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明設(shè)及一種使用過的研磨漿料的再生方法和磁盤用玻璃基板的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 在玻璃基板的研磨處理中，有時(shí)使用例如主要含有氧化姉的姉研磨劑作為研磨磨 粒。眾所公知姉研磨劑昂貴，因此在研磨處理后回收使用過的漿料，進(jìn)行將使用過的研磨漿 料中的玻璃泥渣(玻璃屑)等玻璃成分去除的再生處理。在使用基于離屯、分離的固液分離的 姉研磨劑的再生處理中，對(duì)使用過的研磨漿料進(jìn)行離屯、分離，含有研磨磨粒的固體成分被 回收，含有玻璃成分的液體被廢棄。
[0003] 在現(xiàn)有的使用過的研磨漿料的再生處理中，為了容易進(jìn)行研磨磨粒的回收，已知 有下述方案:在進(jìn)行固液分離前向使用過的研磨漿料中添加儀鹽、或在固液分離前后進(jìn)行 超聲波照射(例如專利文獻(xiàn)1和2)。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005] 專利文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)1:國(guó)際公開第2012/101868號(hào)公報(bào)
[0007] 專利文獻(xiàn)2:日本特開2001-9723號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[000引發(fā)明所要解決的課題
[0009] 已知:在使用利用現(xiàn)有的再生方法進(jìn)行了再生的使用過的研磨漿料進(jìn)行玻璃基板 的研磨處理時(shí)，在玻璃基板的主表面容易產(chǎn)生損傷。關(guān)于運(yùn)點(diǎn)進(jìn)行了研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)在再生 后的使用過的研磨漿料所含有的研磨磨粒中含有顆粒尺寸粗大的研磨磨粒、晶界非常硬的 研磨磨粒，因此在研磨處理中，玻璃基板上產(chǎn)生損傷。對(duì)于晶界非常硬的研磨磨粒，即使顆 粒尺寸不粗大，在研磨處理時(shí)受到負(fù)荷也不會(huì)破碎變小，其結(jié)果有可能在玻璃基板上產(chǎn)生 損傷。
[0010] 本發(fā)明的目的在于提供一種使用過的研磨漿料的再生方法，其能夠?qū)⑹褂眠^的研 磨漿料通過離屯、分離而產(chǎn)生的固體成分充分破碎，由此在研磨處理中，能夠抑制在玻璃基 板上產(chǎn)生損傷。此外，本發(fā)明的目的在于提供一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其能夠抑制 研磨處理中玻璃基板的損傷的產(chǎn)生。
[0011] 用于解決課題的手段
[0012] 本發(fā)明提供下述(1)~(21)。
[0013] (1)本發(fā)明的一個(gè)方式為一種使用過的研磨漿料的再生方法，所述使用過的研磨 漿料含有在玻璃基板的研磨處理中使用的研磨磨粒，該再生方法具備：
[0014] 向上述使用過的研磨漿料中添加糖類而形成混合物的步驟；
[0015] 對(duì)上述混合物進(jìn)行離屯、分離從而去除上述混合物中所含有的玻璃成分的至少一 部分的步驟;和
[0016] 對(duì)通過上述離屯、分離得到的固體成分進(jìn)行破碎的步驟。
[0017] (2)如上述（1)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，在上述進(jìn)行破碎的步 驟中，在添加水之后，對(duì)上述固體成分進(jìn)行破碎。
[0018] (3)如上述（1)或(2)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，上述糖類選自由 纖維素、果膠、原果膠、卡拉膠、半乳糖、黃原膠、刺槐豆膠、瓜爾膠、車前巧膠、羅望子膠、塔 拉膠、殼多糖、瓊脂糖或它們的組合組成的組。
[0019] (4)如上述（1)~(3)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，上述糖 類不溶于水。
[0020] (5)如上述（1)~(4)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，相對(duì)于 上述研磨磨粒的重量，上述糖類的添加量為0.1~5質(zhì)量％。
[0021] (6)如上述（1)~(5)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，上述混 合物的抑為5.5~13。
[0022] (7)如上述（1)~(6)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，在上述 進(jìn)行破碎的步驟中，照射頻率為16~120曲Z的超聲波。
[0023] (8)如上述（1)~(7)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，進(jìn)一步 具備對(duì)上述破碎后的固體成分進(jìn)行干燥的步驟。
[0024] (9)本發(fā)明的另一方式為一種使用過的研磨漿料的再生方法，所述使用過的研磨 漿料含有在玻璃基板的研磨處理中使用的研磨磨粒，該制造方法具備：
[0025] 向上述使用過的研磨漿料中添加糖類而形成混合物的步驟；
[0026] 對(duì)上述混合物進(jìn)行離屯、分離從而去除上述混合物所含有的玻璃成分的至少一部 分的步驟;和
[0027] 對(duì)通過上述離屯、分離得到的固體成分進(jìn)行破碎的步驟，
[00%]上述使用過的研磨漿料是通過上述（1)~(8)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料 的再生方法進(jìn)行了再生的使用過的研磨漿料。
[0029] (10)本發(fā)明的另一方式為一種使用過的研磨漿料的再生方法，所述使用過的研磨 漿料含有在玻璃基板的研磨處理中使用的研磨磨粒，該再生方法的特征在于，
[0030] 其包括使用含有上述使用過的研磨漿料的處理液進(jìn)行離屯、分離的離屯、分離處理，
[0031] 上述處理液被調(diào)整成包含塊狀物，所述塊狀物具有通過與水接觸而發(fā)生溶脹的表 面部和被上述表面部包圍并隔斷水的侵入的內(nèi)部。
[0032] (11)如上述（10)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，進(jìn)一步包括對(duì)通過 上述離屯、分離處理得到的固體成分進(jìn)行破碎的破碎處理，
[0033] 在上述破碎處理步驟中，在添加水之后，對(duì)上述固體成分進(jìn)行破碎。
[0034] (12)如上述（11)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，在上述破碎處理中， 照射頻率為16~120曲Z的超聲波。
[0035] (13)如上述（11)或（12)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，進(jìn)一步具備 對(duì)上述破碎后的固體成分進(jìn)行干燥的干燥處理。
[0036] (14)如上述（10)~（13)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，上 述處理液是使用選自由纖維素、果膠、原果膠、卡拉膠、半乳糖、黃原膠、刺槐豆膠、瓜爾膠、 車前巧膠、羅望子膠、塔拉膠、殼多糖、瓊脂糖或它們的組合組成的組中的糖類而被調(diào)整成 包含上述塊狀物。
[0037] (15)如上述(14)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，上述糖類不溶于水。
[0038] (16)如上述（14)或（15)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，相對(duì)于上述 研磨磨粒的重量，上述糖類的添加量為0.1~5質(zhì)量％。
[0039] (17)如上述（10)~（16)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，上 述處理液的抑為5.5~13。
[0040] (18)本發(fā)明的另一方式為一種使用過的研磨漿料的再生方法，所述使用過的研磨 漿料含有在玻璃基板的研磨處理中使用的研磨磨粒，其中，
[0041] 該再生方法包括使用含有上述使用過的研磨漿料的處理液進(jìn)行離屯、分離的離屯、 分離處理，
[0042] 上述處理液被調(diào)整成包含塊狀物，所述塊狀物具有通過與水接觸而發(fā)生溶脹的表 面部和被上述表面部包圍并隔斷水的侵入的內(nèi)部，
[0043] 上述使用過的研磨漿料為通過上述（10)~（17)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿 料的再生方法進(jìn)行了再生的使用過的研磨漿料。
[0044] (19)如上述(1)~（18)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，上述 研磨磨粒W氧化姉或氧化錯(cuò)作為主要成分。
[0045] (20)如上述（1)~（19)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中，W 500~3000G進(jìn)行上述離屯、分離。
[0046] (21)本發(fā)明的另一方式為一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其具備使用通過上述 (1)~(20)中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法進(jìn)行了再生的研磨磨粒對(duì)玻璃板 的主表面進(jìn)行研磨的研磨處理。
[0047] 發(fā)明效果
[0048] 根據(jù)本發(fā)明的使用過的研磨漿料的再生方法，能夠?qū)⑹褂眠^的研磨漿料通過離屯、 分離而產(chǎn)生的固體成分充分破碎，由此，在研磨處理中能夠抑制在玻璃基板上產(chǎn)生損傷。此 夕h根據(jù)本發(fā)明的磁盤用玻璃基板的制造方法，能夠抑制研磨處理中玻璃基板的損傷的產(chǎn) 生。
【附圖說明】
[0049] 圖1的（a)為示意性示出使用過的研磨漿料中的含水凝聚物和研磨磨粒的形態(tài)的 圖。圖1的(b)為示意性示出通過離屯、分離而產(chǎn)生的固體成分的圖。
[0050] 圖2為示意性示出水滲透至含水凝聚物后的研磨磨粒顆粒間的形態(tài)的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0051] W下，對(duì)本發(fā)明的使用過的研磨漿料的再生方法和磁盤用玻璃基板的制造方法詳 細(xì)地進(jìn)行說明。
[0052] (使用過的研磨漿料的再生方法）
[0053] 本實(shí)施方式的再生方法為含有在玻璃基板的研磨處理中使用的研磨磨粒(使用過 的研磨磨粒）的使用過的研磨漿料的再生方法，其具備：向使用過的研磨漿料中添加糖類 (例如后述的不溶于水的多糖類)而形成混合物的步驟(形成混合物的步驟）；對(duì)上述混合物 進(jìn)行離屯、分離從而去除上述混合物所含有的玻璃成分的至少一部分的步驟(進(jìn)行去除的步 驟）；和對(duì)通過上述離屯、分離得到的固體成分進(jìn)行破碎的步驟(進(jìn)行破碎的步驟）。形成混合 物的步驟可W換言之是準(zhǔn)備或制備混合物的步驟，進(jìn)一步可W換言之是制備后述的處理液 的步驟。
[0054] 在本實(shí)施方式中，W對(duì)用于研磨的使用過的研磨漿料進(jìn)行再生的情況為例進(jìn)行說 明，但本實(shí)施方式的再生方法也可W應(yīng)用于對(duì)用于磨削的使用過的研磨漿料(其中含有磨 粒)進(jìn)行再生的情況。
[0055] 研磨處理如下進(jìn)行:例如用一對(duì)研磨墊夾持被載具保持的基板的主表面，一邊向 研磨墊與基板之間供給研磨漿料，一邊通過行星齒輪運(yùn)動(dòng)使基板與研磨墊相對(duì)移動(dòng)從而進(jìn) 行研磨。玻璃基板的研磨處理使用例如后述的雙面研磨裝置進(jìn)行。對(duì)于研磨處理對(duì)象的玻 璃基板的用途沒有特別限定，例如為L(zhǎng)CD裝置等各種顯示裝置用的面板、掩模巧料、皿D裝置 用的磁盤中使用的玻璃基板。
[0056] 使用過的研磨磨粒是指W往在玻璃基板的研磨處理中至少使用一次的研磨磨粒。 作為研磨處理，可W舉出例如在后述的磁盤用玻璃基板的制造方法中進(jìn)行的、第1研磨、第2 研磨。對(duì)于研磨磨粒沒有特別限定，可W使用例如主要含有氧化姉的研磨劑下也簡(jiǎn)稱為 姉研磨劑）、主要含有氧化錯(cuò)的研磨劑。對(duì)于姉研磨劑，除了姉之外，可W含有銅、錯(cuò)、欽等其 它稀±元素的氧化物。研磨劑可W進(jìn)一步含有主要的研磨劑之外的其它研磨劑。研磨磨粒 的平均粒徑例如WD50(基于激光衍射散射式粒度分布測(cè)定法的累積粒徑從微粒側(cè)累積 50%時(shí)所對(duì)應(yīng)的粒徑)計(jì)為0.1~3μπι。
[0057] 漿料是使研磨磨粒分散于水中而得到的，除了研磨磨粒之外，可W適當(dāng)含有分散 劑、后述的不溶于水的多糖類。關(guān)于漿料中所用的水，除了 R0水、去離子水、蒸饋水等純水之 夕h也可W為自來(lái)水等含有雜質(zhì)的水。對(duì)于分散劑沒有特別限定，可W使用例如憐酸系分散 劑。需要說明的是，對(duì)于使用過的研磨漿料而言，可W使用通過本發(fā)明的使用過的研磨漿料 的再生方法進(jìn)行了再生的使用過的研磨漿料。運(yùn)種情況下，通過將使用過的研磨漿料反復(fù) 再生使用，能夠得到降低研磨磨粒的成本的效果。
[005引（a)形成混合物的步驟
[0059] 在形成混合物的步驟中，向使用過的研磨漿料中添加糖類(例如不溶于水的多糖 類)而形成混合物。糖類優(yōu)選具有通過與水接觸而發(fā)生溶脹的性質(zhì)的糖類。通過具有該性 質(zhì)，容易在水中形成塊狀物(所謂的團(tuán)塊）。此外，糖類優(yōu)選在室溫(20°C)相對(duì)于中性水 下也簡(jiǎn)稱為水）的溶解度低，更優(yōu)選是不溶的。通過具有運(yùn)樣的性質(zhì)，團(tuán)塊能夠長(zhǎng)期穩(wěn)定地 存在。從上述觀點(diǎn)出發(fā)，糖類中，優(yōu)選纖維素、殼多糖;半乳糖、刺槐豆膠、塔拉膠;原果膠、卡 拉膠、黃原膠、瓜爾膠、車前巧膠、羅望子膠、塔拉膠、殼多糖、瓊脂糖，更優(yōu)選纖維素、殼多 糖;半乳糖、刺槐豆膠、塔拉膠，最優(yōu)選纖維素、殼多糖。糖類可W組合巧巾W上使用。需要說 明的是，使用纖維素的情況下，更優(yōu)選使用結(jié)晶纖維素。
[0060] 此處，作為不溶于水的糖類的示例，對(duì)不溶于水的多糖類進(jìn)行說明。需要說明的 是，在本說明書中，所謂"不溶于水"或"不溶性"的情況下，除了完全不溶于水的情況之外， 還包括一部分溶解于水的情況。所謂一部分溶解于水具體而言是指在水中的溶解量為添加 量的30重量％ W下、或20重量％ W下、或10重量％ W下。因此，W下說明的"不溶于水的多糖 類"或"不溶性多糖類"可W說成是添加量的一部分的量（30重量％、或20重量％、或10重 量％)^下溶解于水的多糖類。不溶于水的多糖類具有在不溶于水的情況下吸收水分而膨 脹的性質(zhì)，在使用過的研磨漿料中，W含有水的凝聚物(也稱作含水凝聚物或塊狀物）的形 式存在，為此優(yōu)選使用具有吸水性、保水性的多糖類。作為運(yùn)樣的物質(zhì)，可W舉出例如纖維 素、果膠、原果膠、卡拉膠、黃原膠、刺槐豆膠、瓜爾膠、車前巧膠、羅望子膠、塔拉膠、殼多糖、 瓊脂糖等或它們的組合。其中，優(yōu)選使用纖維素、果膠、原果膠、卡拉膠。此外，從上述的在水 中容易形成團(tuán)塊、且團(tuán)塊能夠長(zhǎng)期穩(wěn)定地存在的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選纖維素、殼多糖;刺槐豆膠、 塔拉膠;原果膠、卡拉膠、黃原膠、瓜爾膠、車前巧膠、羅望子膠、塔拉膠、殼多糖、瓊脂糖，更 優(yōu)選纖維素、殼多糖;半乳糖、刺槐豆膠、塔拉膠，最優(yōu)選纖維素、殼多糖。需要說明的是，在 W下的說明中，W不溶于水的多糖類（即添加量的一部分的量W下溶解于水的多糖類)代表 糖類進(jìn)行說明。
[0061] 通過將運(yùn)樣的不溶于水的多糖類添加至使用過的研磨漿料中，在混合物中含有含 水凝聚物，由此通過之后進(jìn)行的離屯、分離而產(chǎn)生的固體成分的破碎變得容易。需要說明的 是，不溶于水的多糖類具有防止通過離屯、分離而產(chǎn)生的該固體成分(也稱為堆積物)變得過 硬的作用。
[0062] 相對(duì)于研磨磨粒的重量（干燥重量），不溶性多糖類的添加量?jī)?yōu)選為0.1~5質(zhì) 量％。在小于0.1質(zhì)量％時(shí)，有時(shí)離屯、分離后所得到的固體成分的破碎花費(fèi)時(shí)間。此外，在添 加多于5質(zhì)量％時(shí)，不溶性多糖類容易進(jìn)入研磨磨粒與被研磨基板之間，有時(shí)再生后研磨速 率降低。
[0063] 不溶性多糖類的種類和添加量適當(dāng)確定W使通過離屯、分離而產(chǎn)生的固體成分中 存在的不溶性多糖類成為能夠進(jìn)一步吸收水分的狀態(tài)，換言之，例如含水凝聚物變成在外 側(cè)部分保持水且在內(nèi)側(cè)部分為干燥的狀態(tài)(所謂的團(tuán)塊狀的狀態(tài)）。此處所說的干燥的狀態(tài) 是指離屯、分離后能夠進(jìn)一步吸水的狀態(tài)或者未充分地吸水的狀態(tài)。因此，團(tuán)塊狀的狀態(tài)的 含水凝聚物在施加外力而破碎時(shí)，干燥狀態(tài)的部分露出。在W下的說明中，除了特別聲明的 情況之外，所謂的含水凝聚物的情況是指在外側(cè)部分保持水且在內(nèi)側(cè)部分為干燥的狀態(tài)的 含水凝聚物，換言之，是指具有通過與水接觸而發(fā)生溶脹的表面部(外側(cè)部分)和被表面部 包圍且隔斷水的侵入的內(nèi)部（內(nèi)側(cè)部分)的塊狀物。
[0064] 不溶性多糖類優(yōu)選W預(yù)先制成含水凝聚物的狀態(tài)添加至使用過的研磨漿料中。含 水凝聚物是通過例如在水中添加不溶性多糖類后適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行攬拌和超聲波照射而得到的。 此時(shí)，含水凝聚物的內(nèi)側(cè)部分優(yōu)選為未充分吸水的狀態(tài)。對(duì)于含水凝聚物的尺寸沒有特別 限制，最大長(zhǎng)度例如為1~300μπι。含水凝聚物優(yōu)選具有大于研磨磨粒的粒徑。
[0065] 使用過的研磨漿料在添加不溶性多糖類后進(jìn)行適當(dāng)?shù)財(cái)埌瑁寡心ツチ５念w粒附 著于含水凝聚物的表面，由此能夠形成圖1的（a)所示的狀態(tài)。圖1的(a)為示意性地示出使 用過的研磨漿料中的含水凝聚物和研磨磨粒的形態(tài)的圖。在圖1的(a)中，含水凝聚物1的表 面附著有大量的研磨磨粒的顆粒3。需要說明的是，在圖1中，為了易于理解地進(jìn)行說明，對(duì) 含水凝聚物1和顆粒3的尺寸進(jìn)行調(diào)整。
[0066] 需要說明的是，含有含水凝聚物(塊狀物）的使用過的研磨漿料換言之是在之后說 明的進(jìn)行去除的步驟的離屯、分離處理中被施加離屯、分離的處理液。將研磨磨粒形成混合物 的步驟可W換言之是將離屯、分離處理中使用的處理液調(diào)整成包含塊狀物。
[0067] 向使用過的研磨漿料中添加不溶性多糖類而得到的、不溶性多糖類與使用過的研 磨漿料的混合物的抑優(yōu)選被調(diào)整為5.5 W上，更優(yōu)選為7 W上，進(jìn)一步優(yōu)選為10 W上。抑小于 5.5時(shí)，存在于漿料中的玻璃成分和附著在研磨磨粒上的玻璃成分的去除效果降低，使用再 生后的使用過的研磨漿料進(jìn)行玻璃基板的研磨處理時(shí)的研磨速率有時(shí)無(wú)法充分地恢復(fù)。另 一方面，在抑超過13的強(qiáng)堿性下，有時(shí)玻璃成分的堿±金屬的離子(例如Mg2+Xa2+)、侶離子 (Al3+)形成氨氧化物而析出并混入離屯、分離后的固體成分中，有時(shí)導(dǎo)致研磨速率的降低、玻 璃基板的損傷的產(chǎn)生。因此，抑優(yōu)選為13W下。pH的調(diào)整適當(dāng)使用例如氨氧化鋼、氨氧化鐘 等強(qiáng)堿、硫酸或憐酸等強(qiáng)酸進(jìn)行，對(duì)于使用它們的方法沒有特別限定。
[0068] 需要說明的是，對(duì)于使用過的研磨漿料，優(yōu)選在形成混合物的步驟之前，通過過濾 去除作為異物的粗大顆粒。粗大顆粒例如為因研磨處理而混入使用過的研磨漿料中的、研 磨墊的碎屑、干燥后粗大化的研磨磨粒的顆粒、玻璃碎片等玻璃片等固體成分。通過去除運(yùn) 樣的異物，能夠防止研磨磨粒之外的固體成分混入到通過之后進(jìn)行的"進(jìn)行去除的步驟"而 產(chǎn)生的固體成分中。此處的粗大顆粒是指最大長(zhǎng)度(直徑)為15ymW上的尺寸的顆粒。
[0069] (b)進(jìn)行去除的步驟
[0070] 在進(jìn)行去除的步驟中，對(duì)上述混合物（處理液)進(jìn)行離屯、分離，去除至少一部分該 混合物所含有的玻璃成分(也稱為離屯、分離處理）。離屯、分離使用離屯、分離機(jī)進(jìn)行。離屯、分 離優(yōu)選W500~3000G進(jìn)行。由此，能夠有效地將固體成分和玻璃泥渣成分分離。此外，更優(yōu) 選W600~1800G的條件進(jìn)行。離屯、分離機(jī)的旋轉(zhuǎn)半徑和轉(zhuǎn)速按照滿足運(yùn)樣的離屯、力的范圍 的方式進(jìn)行選擇。此外，離屯、分離的時(shí)間根據(jù)離屯、分離的離屯、力適當(dāng)調(diào)整，例如為15分鐘~ 1小時(shí)。需要說明的是，對(duì)于離屯、分離的離屯、力、離屯、分離處理的時(shí)間、脫水處理的時(shí)間、刮 刀處理的時(shí)間等條件，考慮進(jìn)行離屯、分離處理的漿料濃度和漿料量、玻璃成分的去除量、固 體成分的重量、回收率等進(jìn)行適當(dāng)設(shè)定。從不使玻璃成分的去除量、破碎性變差等理由出 發(fā)，固體成分的水含量?jī)?yōu)選為10~40質(zhì)量％。對(duì)于水含量，考慮進(jìn)行離屯、分離處理的漿料濃 度和漿料量、玻璃成分的去除量、固體成分的重量、回收率等進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整。離屯、分離可W 在進(jìn)行將分離后的液體返回至離屯、分離機(jī)的循環(huán)供給的同時(shí)進(jìn)行。
[0071] 在進(jìn)行去除的步驟中，混合物分離為含有研磨磨粒的固體成分和液體(經(jīng)固液分 離）。此外，固液分離后的液體可W再次進(jìn)行離屯、分離來(lái)回收固體成分直到研磨磨粒的濃度 達(dá)到一定值W下為止。進(jìn)行再次離屯、分離的情況下，可W添加不溶性多糖類。需要說明的 是，該液體最終被廢棄。需要說明的是，液體中存在來(lái)自玻璃泥渣(玻璃屑）的玻璃成分(溶 解的玻璃成分和微粒運(yùn)兩種），因此在進(jìn)行去除的步驟中，玻璃成分(溶解的玻璃成分和微 粒運(yùn)兩種)被去除。
[0072] 此處，對(duì)于分離后的固體成分所含有的不溶性多糖類的作用進(jìn)行說明。
[0073] 固體成分中，如圖1的(b)所示，研磨磨粒的顆粒3如后所述按照夾雜不溶性多糖類 (未圖示)且相互重疊的方式堆積。圖1的(b)為示意性示出通過離屯、分離而產(chǎn)生的固體成分 的圖。需要說明的是，在圖1的(b)中，為了易于理解地進(jìn)行說明，對(duì)研磨磨粒的顆粒3之間的 間隔進(jìn)行省略表示。此外，為了便于說明，均勻地示出研磨磨粒的尺寸。在上述形成混合物 的步驟中，對(duì)于使用過的研磨漿料中存在的含水凝聚物，通過離屯、分離，離屯、力發(fā)揮作用， 由此，附著在表面的研磨磨粒的顆粒進(jìn)入其內(nèi)側(cè)，由此研磨磨粒的顆粒3彼此接近，如圖2所 示，顆粒3彼此之間W夾雜不溶性多糖類5的狀態(tài)堆積。圖2為示意性示出固體成分所含有的 研磨磨粒的顆粒與不溶性多糖類的形態(tài)的圖，為重點(diǎn)示出固體成分的一部分的圖。需要說 明的是，為了易于理解地進(jìn)行說明，對(duì)圖1中的研磨磨粒的顆粒3的間隔和圖2所示的顆粒3 的間隔進(jìn)行調(diào)整。此外，在圖2中，為了易于理解地進(jìn)行說明，對(duì)顆粒3和不溶性多糖類5的尺 寸進(jìn)行調(diào)整。
[0074] 圖2示出使用纖維素作為不溶性多糖類的情況。如圖2所示，研磨磨粒的顆粒3與纖 維狀的纖維素接觸，W彼此不接觸的狀態(tài)堆積。含水凝聚物在離屯、分離的過程中從上述的 團(tuán)塊狀的形態(tài)逐漸變小，在研磨磨粒的顆粒3彼此的間隔縮小時(shí)，發(fā)揮緩沖那樣的作用，同 時(shí)具有抑制研磨磨粒的顆粒3彼此接觸的作用。利用運(yùn)樣的不溶性多糖類的作用，即使進(jìn)行 離屯、分離，也產(chǎn)生之后容易破碎的固體成分。
[0075] (C)進(jìn)行破碎的步驟
[0076] 在進(jìn)行破碎的步驟中，對(duì)通過離屯、分離得到的固體成分進(jìn)行破碎(也稱作破碎處 理）。固體成分的破碎優(yōu)選通過例如使用均化器使其產(chǎn)生超聲波的空穴現(xiàn)象來(lái)進(jìn)行，也可W 使用超聲波槽進(jìn)行。使用均化器的情況下，優(yōu)選產(chǎn)生16kHz~120k化的超聲波。利用該范圍 的頻率的超聲波進(jìn)行破碎的時(shí)間為例如1~60分鐘。由此，能夠使研磨磨粒的粒度分布為適 合于再次使用的良好的粒度分布。
[0077] 固體成分的破碎優(yōu)選向固體成分中添加水后進(jìn)行。含水凝聚物存在進(jìn)一步吸收水 的余地，因此通過添加水，水會(huì)滲透至干燥的內(nèi)側(cè)部分，由此更容易進(jìn)行固體成分的破碎， 研磨磨粒的粒度分布更良好。對(duì)于水的添加量沒有特別限制，例如為固體成分的重量為1~ 40重量％那樣的量。水的添加可W通過添加具有水分的物質(zhì)來(lái)進(jìn)行。
[0078] 上述進(jìn)行去除的步驟和上述進(jìn)行破碎的步驟可W重復(fù)例如一次、兩次交替地進(jìn) 行。
[0079] 進(jìn)行破碎的步驟后，可W進(jìn)行一次或兩次W上的異物的去除。作為異物的去除方 法，可W使用例如過濾。此處，要去除的異物為例如未充分進(jìn)行破碎的研磨磨粒。去除的異 物的尺寸為例如15ymW上。此外，進(jìn)行兩次W上的情況下，在進(jìn)行下一次異物的去除前，可 W通過粉碎等進(jìn)行研磨磨粒的粒徑的調(diào)整。
[0080] 對(duì)于再生后的使用過的研磨漿料，為了使研磨磨粒的處理性良好，可W進(jìn)行干燥 (進(jìn)行干燥的步驟或干燥處理）。干燥通過例如噴霧干燥來(lái)進(jìn)行。使用過的研磨漿料中的研 磨磨粒靜置時(shí)，有可能在容器的底部發(fā)生沉淀而凝聚，產(chǎn)生粗大顆粒。為了防止產(chǎn)生運(yùn)樣的 現(xiàn)象，通過進(jìn)行干燥，能夠抑制由于粗大顆粒導(dǎo)致的損傷的產(chǎn)生。
[0081] 根據(jù)本實(shí)施方式的再生方法，通過向回收后的使用過的研磨漿料中添加不溶性多 糖類，能夠防止由于離屯、分離導(dǎo)致的固體成分變硬，能夠得到容易破碎的固體成分。
[0082] 出于防止?jié){料所含有的研磨磨粒的硬塊化的目的，已知有在玻璃基板的研磨處理 前將不溶性多糖類添加至漿料中，但是研磨處理前所添加的不溶性多糖類在研磨處理中在 漿料中進(jìn)行研磨處理時(shí)受到來(lái)自研磨墊、載具、玻璃基板等的負(fù)荷而充分分散，水合至內(nèi) 部，因此不是干燥狀態(tài)。在本實(shí)施方式的再生方法中，為了形成內(nèi)部干燥的狀態(tài)的不溶性多 糖類(含水凝聚物），在進(jìn)行離屯、分離前將不溶性多糖類添加至使用過的研磨漿料中，優(yōu)選 在進(jìn)行破碎的步驟中，使其干燥的部分吸收水分，通過對(duì)此處施加剪切應(yīng)力，固體成分容易 破碎。如此，在本實(shí)施方式的再生方法中，在回收使用過的研磨漿料后，通過重新添加不溶 性多糖類，能夠充分防止固體成分變硬。此外，根據(jù)本實(shí)施方式的再生方法，固體成分容易 破碎，由此，能夠抑制顆粒尺寸粗大化的研磨磨粒、晶界非常硬的研磨磨粒殘留在漿料中， 因此使用再生后的使用過的研磨漿料進(jìn)行研磨處理的情況下，能夠抑制在玻璃基板的主表 面上產(chǎn)生損傷。
[0083] 需要說明的是，對(duì)于本實(shí)施方式的使用過的研磨漿料的再生方法，在調(diào)整研磨磨 粒的至少粒徑的方面，可W換言之是漿料的制造方法。此外，對(duì)于本實(shí)施方式的再生方法， 研磨處理對(duì)象的玻璃基板為用于磁盤的玻璃基板的情況下、且研磨磨粒含有氧化姉(二氧 化姉)的情況下，可W換言之是面向磁盤用玻璃基板的二氧化姉漿料的再生方法。
[0084] (磁盤用玻璃基板的制造方法）
[0085] 接著，對(duì)本實(shí)施方式的磁盤用玻璃基板的制造方法進(jìn)行說明。
[0086] 本制造方法具備:使用通過上述說明的使用過的研磨漿料的再生方法進(jìn)行了再生 的研磨磨粒對(duì)玻璃板的主表面進(jìn)行研磨的研磨處理。
[0087] 在本實(shí)施方式中，W將通過使用過的研磨漿料的再生方法進(jìn)行了再生的使用過的 研磨漿料用于研磨的情況為例進(jìn)行說明，但該使用過的研磨漿料也可W用于磨削。
[0088] 對(duì)本實(shí)施方式的制造方法的概要進(jìn)行說明時(shí)，首先進(jìn)行形成具有一對(duì)主表面的板 狀的玻璃巧料的成型處理。玻璃巧料為磁盤用玻璃基板的原材料。接著，對(duì)該玻璃巧料實(shí)施 粗磨削處理。之后，對(duì)玻璃巧料實(shí)施形狀加工處理而形成玻璃基板，進(jìn)一步實(shí)施端面研磨處 理。之后，對(duì)玻璃基板實(shí)施使用固定磨粒的精磨削處理。之后，對(duì)玻璃基板實(shí)施第1研磨處理 和第如開磨處理。需要說明的是，在本實(shí)施方式中，W上述流程進(jìn)行，對(duì)于上述流程、處理的 種類沒有限制，此外，上述處理可W根據(jù)需要適當(dāng)省略。W下，對(duì)上述的各處理進(jìn)行說明。
[0089] (a)玻璃巧料的成型處理
[0090] 在成型處理中，使用例如模壓成型法進(jìn)行成型。利用模壓成型法，能夠得到圓板狀 的玻璃巧料?？蒞使用下拉法、再拉法、烙融法等公知的成型方法代替模壓法制造玻璃巧 料。對(duì)于通過運(yùn)些方法制作的板狀玻璃巧料，適當(dāng)實(shí)施后述的形狀加工處理，由此得到圓板 狀的玻璃基板，其為磁盤用玻璃基板的原料。
[0091] (b)粗磨削處理
[0092] 接著，進(jìn)行粗磨削處理。在粗磨削處理中，在將上述玻璃巧料保持在雙面磨削裝置 的載具(未圖示)上的同時(shí)，進(jìn)行玻璃巧料的兩側(cè)的主表面的磨削。具體而言，將玻璃巧料保 持在設(shè)置于載具上的保持孔上，同時(shí)夾持在上定盤與下定盤之間，向其供給含有磨削劑的 磨削液的同時(shí)，使上定盤或下定盤的任一者或二者移動(dòng)操作，由此使玻璃基板與各定盤相 對(duì)移動(dòng)，從而對(duì)玻璃基板的兩主表面進(jìn)行磨削。作為磨削劑，可W使用例如游離磨粒。在粗 磨削處理中，按照玻璃巧料大致接近目標(biāo)的板厚寸法和主表面的平坦度的方式進(jìn)行磨削。 需要說明的是，粗磨削處理根據(jù)所成型的玻璃巧料的尺寸精度或表面粗糖度進(jìn)行，但可W 適當(dāng)省略。
[0093] (C)形狀加工處理
[0094] 接著，進(jìn)行形狀加工處理。在形狀加工處理中，使用公知的加工方法在玻璃巧料上 形成圓孔，由此得到具有圓孔的圓板狀的玻璃基板。之后，進(jìn)行玻璃基板的端面的倒角。對(duì) 于玻璃基板的內(nèi)周側(cè)和外周側(cè)運(yùn)二者的端面進(jìn)行倒角。通過進(jìn)行倒角，在玻璃基板的端面 形成與主表面正交的側(cè)壁面、連接側(cè)壁面與主表面的倒角面(中間面）。
[00巧](d)端面研磨處理
[0096]接著，進(jìn)行玻璃基板的端面研磨處理。在端面研磨處理中，向研磨刷與玻璃基板的 端面之間供給含有游離磨粒的研磨液，使研磨刷與玻璃基板在玻璃基板的厚度方向上相對(duì) 移動(dòng)，由此進(jìn)行研磨。通過端面研磨處理，玻璃基板的內(nèi)周側(cè)和外周側(cè)的端面經(jīng)研磨，成為 鏡面狀態(tài)。
[0097] (e)精磨削處理
[0098] 接著，對(duì)玻璃基板的主表面實(shí)施精磨削處理。在精磨削處理中，優(yōu)選使用定盤上粘 貼有固定磨粒的雙面磨削裝置，對(duì)玻璃基板的主表面進(jìn)行磨削。具體而言，使用固定磨粒代 替上述游離磨粒進(jìn)行磨削，除此之外，與上述粗磨削處理大致同樣地對(duì)玻璃基板的兩主表 面進(jìn)行磨削。玻璃基板保持在上述實(shí)施方式的載具上，在雙面磨削裝置內(nèi)一邊進(jìn)行行星齒 輪運(yùn)動(dòng)，一邊進(jìn)行磨削。在精磨削處理中，使粘貼有固定磨粒的定盤的磨削面與玻璃基板的 主表面接觸而對(duì)玻璃基板的主表面進(jìn)行磨削，但代替其，可W進(jìn)行使用游離磨粒的磨削。
[0099] (f)第1研磨處理
[0100] 接著，對(duì)玻璃基板的主表面實(shí)施第1研磨處理。第1研磨處理使用公知的雙面研磨 裝置，使玻璃基板保持在載具上，進(jìn)行玻璃基板的兩側(cè)的主表面的研磨。對(duì)于用于進(jìn)行第1 研磨處理的雙面研磨裝置而言，可W使用公知的裝置。該裝置具備：一對(duì)上下的定盤、夾持 在上下定盤之間的內(nèi)曬合齒輪、設(shè)置在下定盤的太陽(yáng)齒輪、扣合內(nèi)曬合齒輪和太陽(yáng)齒輪的2 個(gè)W上的載具。各定盤上粘貼有研磨墊。在該裝置中，將玻璃基板W保持在載具的保持孔上 的狀態(tài)夾持在上下定盤之間，通過使上下定盤旋轉(zhuǎn)，保持玻璃基板的載具進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí) 進(jìn)行公轉(zhuǎn)，從而進(jìn)行行星齒輪運(yùn)動(dòng)。由此，玻璃基板與研磨墊相對(duì)移動(dòng)，玻璃基板的主表面 經(jīng)研磨。特別是在第1研磨處理中，使用游離磨粒，使粘貼在定盤上的研磨墊與玻璃基板的 主表面接觸而進(jìn)行研磨。第1研磨處理期間，含有游離磨粒的漿料從雙面研磨裝置的供給罐 (未圖示)經(jīng)由配管(未圖示)供給至玻璃基板與研磨墊之間。漿料供給至玻璃基板與研磨墊 之間后，進(jìn)行回收，可W在進(jìn)行相同或不同的分批研磨處理期間，再次進(jìn)行向玻璃基板與研 磨墊之間供給的循環(huán)供給。對(duì)于含有游離磨粒的漿料而言，使用通過上述說明的再生方法 進(jìn)行了再生的使用過的研磨漿料。對(duì)于游離磨粒沒有特別限定，可W使用例如氧化姉磨粒 (上述姉研磨劑）、氧化錯(cuò)磨粒或它們的組合等。
[0101] 在第1研磨處理中，例如作為預(yù)處理，進(jìn)行基于固定磨粒的磨削的情況下，進(jìn)行在 主表面殘留的裂紋、應(yīng)變的去除、或在主表面產(chǎn)生的微小表面凹凸（粗糖度、波紋）的去除。 通過適當(dāng)調(diào)整加工余量，能夠防止主表面的端部的形狀過度落入或者突出，同時(shí)能夠降低 主表面的表面粗糖度、例如算術(shù)平均粗糖度Ra。此外，在第1研磨處理中使用的使用過的研 磨漿料所含有的研磨磨粒通過上述說明的再生方法而具有良好的粒度分布，因此能夠抑制 在玻璃基板的主表面上產(chǎn)生損傷。
[0102] 需要說明的是，在第1研磨處理中回收的漿料可W進(jìn)一步通過上述說明的再生方 法進(jìn)行再生，再生后的回收漿料(使用過的研磨漿料)可W進(jìn)一步用于其它玻璃基板的研磨 處理。
[0103] (g)第2研磨(鏡面研磨)處理
[0104] 接著，實(shí)施第2研磨處理。第如開磨處理的目的在于主表面的鏡面研磨。第如開磨處 理可W使用與第1研磨處理中使用的同樣的雙面研磨裝置和研磨方法，但優(yōu)選研磨磨粒的 尺寸小于第1研磨處理中使用的研磨磨粒的尺寸。由此，能夠防止主表面的端部的形狀過度 落入或者突出，同時(shí)能夠降低主表面的粗糖度。第如開磨處理后，將玻璃基板從雙面研磨裝 置取出并清洗。
[0105] 第2研磨處理后，進(jìn)一步在對(duì)玻璃基板進(jìn)行清洗(最終清洗)后，可W進(jìn)行對(duì)玻璃基 板的品質(zhì)進(jìn)行檢査的檢査工序。
[0106] (實(shí)施例）
[0107] 為了確認(rèn)本發(fā)明的效果，進(jìn)行下述實(shí)驗(yàn)。具體而言，如表1~3所示，使進(jìn)行離屯、分 離時(shí)的使用過的研磨漿料的條件各不相同（樣品1~15)，按照下述過程對(duì)使用過的研磨漿 料進(jìn)行再生，對(duì)再生后的各使用過的研磨漿料中的玻璃成分的去除量、研磨速率進(jìn)行測(cè)定， 同時(shí)使用再生后的漿料(再生漿料)對(duì)玻璃基板進(jìn)行研磨，對(duì)此時(shí)產(chǎn)生的損傷的產(chǎn)生程度進(jìn) 行評(píng)價(jià)。
[0108] 使用過的研磨漿料通過依次進(jìn)行下述工序1~7而進(jìn)行再生。對(duì)于使用過的研磨漿 料而言，使用下述漿料:使用未使用的含有姉研磨劑的漿料，進(jìn)行1次上述實(shí)施方式的第1研 磨處理并進(jìn)行回收的漿料。第1研磨處理使用雙面研磨裝置，W與后述的第1研磨處理同樣 的研磨條件進(jìn)行。需要說明的是，第1研磨處理W外的處理W上述實(shí)施方式的內(nèi)容實(shí)施。
[0109] 工序1:異物去除工序
[0110] 通過過濾，去除玻璃碎片等異物。去除的異物等尺寸為15ymW上。
[0111] 工序2:固液分離工序
[0112] 按照表1~3,向使用過的研磨漿料中添加糖類，進(jìn)行抑調(diào)整后，使用離屯、分離機(jī)進(jìn) 行固液分離，廢棄液體，回收固體成分。離屯、分離W1000G進(jìn)行60分鐘。
[0113] 需要說明的是，表1~3的"添加的糖類的種類和添加量"一欄中，糖類的種類和添 加量并列顯示。此外，糖類的添加量W相對(duì)于未使用的研磨磨粒的重量(干燥重量）的質(zhì)量 比表示。
[0114] 工序3:破碎工序
[0115] 按照固體成分的濃度為10~30重量％的方式添加水，使用均化器，使其產(chǎn)生頻率 20曲Z的超聲波空穴現(xiàn)象，進(jìn)行30分鐘固體成分的破碎。
[0116] 工序4:異物去除工序
[0117] 通過過濾從通過工序3所得到的漿料中去除異物。去除的異物的尺寸為15皿W上。 [011引工序5:粒徑調(diào)整工序
[0119] 使用濕式旋風(fēng)分離器作為分級(jí)機(jī)，對(duì)工序4中得到的漿料所含有的姉研磨劑的粒 徑進(jìn)行調(diào)整。需要說明的是，該工序是為了去除粒徑過小、對(duì)研磨幾乎沒有貢獻(xiàn)的磨粒而進(jìn) 行的。因此，即使不實(shí)施也沒有大的影響。不實(shí)施的情況下，研磨速率為稍微降低的程度。
[0120] 工序6:異物去除工序
[0121] 通過過濾從工序5中得到的漿料去除異物。去除的異物的尺寸為15ymW上。
[0122] 工序7:干燥工序
[0123] 對(duì)漿料進(jìn)行噴霧干燥。
[0124] (玻璃成分的去除量的評(píng)價(jià)）
[0125] 利用巧光X射線分析對(duì)通過工序7所得到的各樣品的姉研磨劑所含有的玻璃成分 的含量進(jìn)行分析。玻璃成分的含量W Si化的重量相對(duì)于姉研磨劑的重量之比（Si〇2/姉研磨 劑比）的方式進(jìn)行評(píng)價(jià)。Si〇2/姉研磨劑比是表示玻璃成分的去除量的參數(shù)，是相對(duì)于再生 后的使用過的研磨漿料所含有的姉研磨劑的重量的附著于姉研磨劑的Si化的重量。Si〇2/研 磨磨粒比的值越小，表示玻璃成分的去除效果越高。將Si化相對(duì)于姉研磨劑的重量比列于 表2。
[0126] (研磨速率、損傷的產(chǎn)生程度的評(píng)價(jià)）
[0127] 使用各樣品的含有姉研磨劑的漿料（使用過的研磨漿料），使用日本特開2012- 133882號(hào)公報(bào)所記載的第1研磨處理中所用的裝置400作為具備行星齒輪機(jī)構(gòu)的雙面研磨 裝置，W下述研磨條件對(duì)玻璃基板進(jìn)行上述實(shí)施方式的第1研磨處理。需要說明的是，對(duì)上 下定盤表面粘貼發(fā)泡聚氨醋制的仿鹿皮型的研磨墊。
[012引 ?研磨磨粒濃度：10重量％
[0129] ?基于上定盤與下定盤對(duì)玻璃基板的負(fù)荷：100g/cm2
[0130] ?研磨時(shí)間：60分鐘
[0131] 對(duì)于玻璃基板而言，使用公稱2.5英寸尺寸的下述組成的無(wú)定形侶娃酸鹽玻璃。 良P，使用含有58重量％ ^上68重量下的Si〇2、5重量％^上20重量％ W下的Al2〇3、0重 量％^上10重量下的Li2〇、4重量％^上12重量下的化2〇、0重量％^上6重量 下的Κ2〇、1重量％^上10重量下的Zr化作為主要成分的玻璃。
[0132] 進(jìn)行上述第1研磨處理后，對(duì)玻璃板進(jìn)行清洗、干燥后，由研磨前后的玻璃基板的 重量差計(jì)算出研磨速率。此外，在暗室中對(duì)清洗、干燥后的玻璃基板照射聚光燈的光，目視 計(jì)數(shù)玻璃基板的主表面(雙面）的刮痕和凹坑的數(shù)量，將損傷產(chǎn)生程度小于20個(gè)/單面的情 況評(píng)價(jià)為水平A，將20W上且小于100個(gè)/單面的情況評(píng)價(jià)為水平B，將100個(gè)/單面W上的情 況評(píng)價(jià)為水平C。若為水平A和B，則能夠抑制損傷的產(chǎn)生，在實(shí)用上沒有問題。對(duì)于研磨速 率，W樣品2為100 %，W相對(duì)值表示。相對(duì)值為90 % W上時(shí)，在實(shí)用上優(yōu)選。將結(jié)果列于表1、 表3。
[0133] [表 1]
[0134]
[0135] [表 2]
[0136]
[0139] 如表1所示可知，在離屯、分離時(shí)，向使用過的研磨漿料中添加糖類的情況下，能夠 抑制玻璃基板的損傷的產(chǎn)生。尤其可知，在將使用過的研磨漿料形成混合物的步驟中，與將 P的周整為小于5.5的情況(樣品11、12)相比，將抑調(diào)整為5.5W上進(jìn)行制作的情況(樣品2~ 6、8、9)下，能夠進(jìn)一步抑制損傷的產(chǎn)生。據(jù)認(rèn)為運(yùn)是因?yàn)?，通過將抑調(diào)整為5.5W上，從研磨 磨粒的表面充分去除阻礙研磨的玻璃成分，成為研磨磨粒原本的表面。
[0140] 如表2所示可知，在離屯、分離時(shí)，在將使用過的研磨漿料形成混合物的步驟中，將 P的周整為5.5W上進(jìn)行制作的情況下，進(jìn)一步從再生后的使用過的研磨漿料的研磨磨粒中 充分去除玻璃成分。該情況下，能夠得到高的研磨速率。
[0141] 如表3所示可知，糖類的添加量為5.0質(zhì)量％ W下的情況下，研磨速率高。
[0142] 除了上述實(shí)驗(yàn)之外，在工序3中不進(jìn)行水的添加，使用振動(dòng)干燥機(jī)進(jìn)行破碎處理， 除此之外，與樣品2同樣地進(jìn)行，得到再生漿料(樣品16)。對(duì)于該漿料，W與上述同樣的方法 對(duì)損傷的產(chǎn)生程度進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果為水平B。其它特性與樣品2同等。
[0143] 此外，不進(jìn)行工序5,除此之外，與樣品2同樣地進(jìn)行，得到再生漿料(樣品17)。對(duì)于 該漿料W與上述同樣的方法計(jì)算出研磨速率，結(jié)果W樣品2為100時(shí)的相對(duì)值計(jì)，為96。其它 特性與樣品2同等。
[0144] (成品率的評(píng)價(jià)）
[0145] 如表4所示，使添加至使用過的研磨漿料中的糖各不相同（樣品18~30)，通過依次 進(jìn)行上述工序1~7,制作再生漿料，使用制作的再生漿料，對(duì)與上述同樣的尺寸、組成的玻 璃基板進(jìn)行第1研磨處理，同時(shí)W與上述實(shí)施方式同樣的要領(lǐng)實(shí)施第1研磨處理W外的處理 直到最終清洗為止。通過該方法，對(duì)各樣品制作1000張玻璃基板。使用激光器式的表面缺陷 檢査裝置，進(jìn)行制作的各玻璃基板的成品率評(píng)價(jià)。對(duì)于任一樣品，均使糖類的添加量為0.5 重量％，均將進(jìn)行離屯、分離時(shí)的使用過的研磨漿料調(diào)整為pH=7。表4中列出成品率。
[0146] 在該評(píng)價(jià)中，能夠檢測(cè)并排除損傷殘留在表面的基板，能夠比較大地表示各樣品 的損傷的產(chǎn)生程度的差異。所述損傷由于第1研磨處理形成，在第2研磨處理未去除完，目視 觀察不到。即，認(rèn)為在第1研磨處理中形成的損傷中，比較深的損傷的數(shù)量反應(yīng)至成品率上。
[0147][表 4]
[014 引
~W上對(duì)本發(fā)明的使用過的研磨漿料的再生方法和磁盤用玻璃基板的制造方法進(jìn) 行了詳細(xì)的說明，但本發(fā)明不限于上述實(shí)施方式，當(dāng)然可W在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍， 進(jìn)行各種改良、變更。
[0150] 符號(hào)說明
[0151] 1含水凝聚物(塊狀物）
[0152] 3研磨磨粒的顆粒
[0153] 5不溶性多糖類(添加量的一部分的量W下溶解的多糖類）
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種使用過的研磨漿料的再生方法，所述使用過的研磨漿料含有在玻璃基板的研磨 處理中使用的研磨磨粒，該再生方法具備： 向所述使用過的研磨漿料中添加糖類而形成混合物的步驟； 對(duì)所述混合物進(jìn)行離心分離從而去除所述混合物中所含有的玻璃成分的至少一部分 的步驟;和 對(duì)通過所述離心分離得到的固體成分進(jìn)行破碎的步驟。2. 如權(quán)利要求1所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中， 在所述進(jìn)行破碎的步驟中，在添加水之后，對(duì)所述固體成分進(jìn)行破碎。3. 權(quán)利要求1或2所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中， 所述糖類選自由纖維素、果膠、原果膠、卡拉膠、半乳糖、黃原膠、刺槐豆膠、瓜爾膠、車 前籽膠、羅望子膠、塔拉膠、殼多糖、瓊脂糖或它們的組合組成的組。4. 如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中， 所述糖類不溶于水。5. 如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中， 相對(duì)于所述研磨磨粒的重量，所述糖類的添加量為〇. 1質(zhì)量％~5質(zhì)量％。6. 如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中， 所述混合物的pH為5.5~13。7. -種使用過的研磨漿料的再生方法，所述使用過的研磨漿料含有在玻璃基板的研磨 處理中使用的研磨磨粒，該再生方法具備： 向所述使用過的研磨漿料中添加糖類而形成混合物的步驟； 對(duì)所述混合物進(jìn)行離心分離從而去除所述混合物所含有的玻璃成分的至少一部分的 步驟;和 對(duì)通過所述離心分離得到的固體成分進(jìn)行破碎的步驟， 所述使用過的研磨漿料是通過權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再 生方法進(jìn)行了再生的使用過的研磨漿料。8. -種使用過的研磨漿料的再生方法，所述使用過的研磨漿料含有在玻璃基板的研磨 處理中使用的研磨磨粒，該再生方法的特征在于， 其包括使用含有所述使用過的研磨漿料的處理液進(jìn)行離心分離的離心分離處理， 所述處理液被調(diào)整成包含塊狀物，所述塊狀物具有通過與水接觸而發(fā)生溶脹的表面部 和被所述表面部包圍并隔斷水的侵入的內(nèi)部。9. 如權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的使用過的研磨漿料的再生方法，其中， 所述研磨磨粒以氧化鈰或氧化鋯作為主要成分。10. -種磁盤用玻璃基板的制造方法，其具備使用通過權(quán)利要求1~9中任一項(xiàng)所述的 使用過的研磨漿料的再生方法進(jìn)行了再生的研磨磨粒對(duì)玻璃板的主表面進(jìn)行研磨的研磨 處理。
【文檔編號(hào)】B24B57/02GK105939817SQ201580006187
【公開日】2016年9月14日
【申請(qǐng)日】2015年2月2日
【發(fā)明人】飯泉京介, 玉置將德
【申請(qǐng)人】Hoya株式會(huì)社