專利名稱：拋光刷，拋光方法，拋光裝置及磁盤用玻璃基板的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及拋光刷、拋光構件、利用所述拋光刷和拋光構件的拋 光方法及拋光裝置，特別是，涉及適合于在小直徑磁盤用玻璃基板的 內(nèi)周側端面的拋光中使用的拋光刷、拋光構件、拋光方法及拋光裝置， 以及磁盤用玻璃基板及磁盤的制造方法。
技術背景目前，信息記錄技術，特別是磁記錄技術，伴隨著IT業(yè)的迅猛發(fā) 展，要求飛躍性的技術革新。對于裝載在硬盤驅動器(HDD)等信息 記錄裝置上的磁盤，根據(jù)高容量化的需要，要求能夠實現(xiàn) 40Gbit/inch2 ~ 100Gbit/inch2以上的信息記錄密度的4支術。作為磁盤等磁記錄介質用的基板，過去廣泛采用鋁系合金基板， 但是，最近，作為適合于高記錄密度化的磁盤用基板，玻璃基板引起 人們的關注。玻璃基板由于比鋁系合金基板剛性高，所以適合于磁盤 裝置的高速旋轉，另外，由于得到平滑的表面，所以容易使磁頭的上 浮量降低，能夠提高記錄信號的S/N比，所以，玻璃基板是合適的。另外，為了使磁盤高記錄密度化，對于玻璃基板的加工精度要求 也很高，不僅對于玻璃基板的主表面如此，對于端面形狀也具有同樣 的要求。作為這種玻璃基板的端面拋光方法，在下面的專利文獻l中，揭 示了一種拋光方法，所述拋光方法，將在中心部具有圓孔的圓盤狀玻 璃基板浸漬到含有游離磨料的拋光液中，利用上述拋光液，使該玻璃 基板的內(nèi)周端面與拋光刷或拋光墊旋轉接觸，進行拋光。圖10是用于說明這種現(xiàn)有的拋光方法的拋光裝置的一個例子的 剖視圖。在圖10中，60是作為拋光對象的磁盤用玻璃基板，61是容 納多個上述玻璃基板60并將其浸漬于拋光液中的基板盒，65是可自由轉動地固定保持基板盒61的旋轉保持臺，62是插入到多個疊層的 上述玻璃基板60的內(nèi)周側圓孔中的拋光刷，68是容納拋光液69的拋 光液容納部。上述基板盒61在其下部的適當?shù)牟课簧显O置有拋光液流 通孔70，以便盒內(nèi)外部的拋光液能夠流通。上述旋轉保持臺65結合 到旋轉軸66上，可以借助向正反兩個方向旋轉驅動該旋轉軸66的旋 轉驅動裝置67進行旋轉。另外，上述拋光刷62連接到旋轉驅動裝置 64的旋轉軸上，能夠進行正反兩個方向的旋轉。進而，該拋光刷62 借助凸輪機構(圖中未示出)將刷毛63壓到上述玻璃基板60的內(nèi)周 側端面上，同時可以沿著刷的旋轉軸方向往復擺動。過去，利用這種 拋光裝置，例如，在使上述旋轉保持臺65和拋光刷62在彼此相反的 方向上旋轉的狀態(tài)下進行拋光。專利文獻l:特開平11 - 221742號公報 發(fā)明內(nèi)容隨著信息化社會的進展，對于磁盤的高記錄密度化和低價格化的 要求日益增高。對于磁盤的端面形狀，也要求更加平滑化、提高加工 精度以及縮短加工時間，提高輔助材料的壽命。另外，上述硬盤驅動器不僅裝載在現(xiàn)有的個人計算機等上，近年 來，用于便攜式電話、便攜式信息終端(PDA等)、汽車導航系統(tǒng)等 中的所謂的移動式的用途也快速擴展。在考慮到這種移動式的用途的 情況下，不僅要求磁盤的耐沖擊性，而且，由于能夠裝載硬盤驅動器 的空間極為有限，所以要求硬盤驅動器本身的小型化，因此，也要求 裝栽在硬盤驅動器上的磁盤小型化。因此，作為這些適合于移動式用 途的磁盤，作為現(xiàn)有技術的磁盤，提出了與比較小型的與所謂2.5英 寸/P茲盤直徑相比更小的/P茲盤，例如，外徑為48mm、內(nèi)徑為12mm的 1.8英寸磁盤，外徑為27.4mm、內(nèi)徑為7mm的1英寸磁盤，外徑為 22mm、內(nèi)徑為6mm的0.85英寸的磁盤等方案。另外，伴隨著這種磁盤的小直徑化，磁盤基板的厚度也薄型化。 例如，過去，磁盤基板的厚度為0.635mm,在謀求磁盤的小直徑化的 情況下，要求磁盤基板的厚度為0.581mm、 0.381mm，或者更小。對于這種小直徑化、薄膜化的磁盤用玻璃基板，有必要以良好的 尺寸精度將內(nèi)周側端面精加工成規(guī)定的端面形狀，同時將其表面精加 工成平滑的鏡面狀態(tài)。而且，要求以低成本穩(wěn)定地大量提供基板之間 沒有偏差、高品質精加工的》茲盤用玻璃基板。但是，在利用上述專利文獻1揭示的現(xiàn)有技術的拋光方法制造多 個磁盤用玻璃基板的情況下，存在著玻璃基板之間的內(nèi)周側端面形狀、 尺寸精度的偏差，不能高度平滑地精加工內(nèi)周側端面的表面等問題， 并且存在著盡管對可再加工的基板進行再加工，但是，不得不將其它 次品進行廢棄處理，不管那種情況都會提高成本的問題。因此，從滿足小直徑化成為當務之急的磁盤的高記錄密度化和降 低價格的要求的觀點出發(fā)，本發(fā)明的第一個目的是，提供一種以低的 成本高效率地對磁盤用玻璃基板的內(nèi)周側端面的表面狀態(tài)進行高品質 的精加工的拋光刷、拋光構件、拋光方法及拋光裝置。另外，本發(fā)明 的第二個目的是，提供一種磁盤用玻璃基板及磁盤的制造方法，通過 具有應用該拋光方法的拋光工序，可以防止發(fā)生由于基板的內(nèi)周側端 面的表面狀態(tài)引起的障礙，實現(xiàn)高記錄密度化。通過本發(fā)明人的研究發(fā)現(xiàn)在利用現(xiàn)有技犬的拋光方法進行玻璃 基板的內(nèi)周側端面的加工的情況下，在玻璃基板的內(nèi)周側端面中，與 其主表面正交的側壁面以及分別形成在該側壁面與正面和背面的主表 面之間的兩個倒角面(中間面)中的每一個，或者其中的一個，不能 被精加工成良好的形狀，而且很難將其端面進行高度平滑地精加工。 特別是，當將玻璃基板的內(nèi)徑制成小直徑時，這種不恰當?shù)那闆r變得 顯著。另外，當在將多個玻璃基板重疊的狀態(tài)下同時進行拋光加工時， 基板之間的內(nèi)周側端面的表面狀態(tài)的偏差較大。另外，用于前述圖IO所示的現(xiàn)有技術的拋光方法的拋光刷的結構 為，在將多個毛狀材料并列的狀態(tài)下，將中央部分折疊，把將該折疊 部分夾持在長條狀的金屬構件上的稱為槽狀刷的刷毛巻繞熔接到圓棒 (細圓柱)狀的軸心上，因為對于上述軸心，需要使槽狀刷能夠巻繞的 程度的剛性，所以，不能使軸心過細。因此，當玻璃基板的內(nèi)徑成為小直徑時，不得不縮短刷毛的長度，刷毛的彈性力變得不足，高度平滑地對端面進行精加工變得很困難。特別是，當玻璃基板的內(nèi)徑為6~ 7mm左右時，不能應用這種拋光刷。另外，現(xiàn)有的拋光刷，由于軸向 方向的外徑是一樣的，所以，當使拋光刷的外徑尺寸比玻璃基板的內(nèi) 徑大時，相對于內(nèi)徑而言，拋光刷所占據(jù)的體積變大，即使一面使拋 光刷相對于玻璃基板擺動 一面進行拋光加工，也很難穩(wěn)定地向端面部 分供應拋光劑，容易發(fā)生加工品質的波動。因此，本發(fā)明人基于上述一系列的認識，銳意研究，從而完成肋 本發(fā)明。即，本發(fā)明為了解決前述課題，采用以下的結構。(結構1) 一種拋光刷，所述拋光刷用于一面向中心部具有圓孔的 圓盤狀的玻璃基板的內(nèi)周側端面部分供應拋光液， 一面使拋光刷與前 述玻璃基板的內(nèi)周側端面接觸并旋轉以進行拋光的拋光方法，其特征 在于，前述拋光刷，相對于其軸心在大致垂直的方向上突出地設置毛 狀材料，排列配置兩個外徑不同的部分，同時，其直徑小的部分與直 徑大的部分相比，毛狀材料的硬度大。(結構2)如結構1中所述的拋光刷，其特征在于，利用樹脂將前 述拋光刷中的直徑小的部分的毛狀材料加固。(結構3) —種拋光方法，所述拋光方法對中心部具有圓孔的圓盤 狀的玻璃基板的內(nèi)周側端面進行拋光，其特征在于，準備拋光刷，所述拋光刷配備有在軸心方向上突出設置有相互不 同的外形部分的毛狀材料，且外形部分的小直徑部分比大直徑部分的 毛狀材料的硬度大，一面向前述玻璃基板的內(nèi)周側端面部分供應拋光液， 一面利用前 述拋光刷，將該拋光刷大致垂直地插入到前述圓孔內(nèi)，使前述拋光刷 相對于該圓孔的端面相對移動并且進行接觸旋轉，借此，拋光前述玻 璃基板的內(nèi)周側端面。(結構4)如結構3所述的拋光方法，其特征在于，使多個玻璃基 板重疊進行拋光，以便能夠同時拋光多個玻璃基板的內(nèi)周側端面。(結構5)如結構3或4所述的拋光方法，其特征在于，前述玻璃 基板是中心部的圓孔的內(nèi)徑在12mm以下的玻璃基板。(結構6)—種拋光裝置，其特征在于，所述拋光裝置包括保持 基板盒的基板盒保持機構，所述基板盒以重疊的方式容納多個中心部 具有圓孔的圓盤狀的玻璃基板；拋光液供應機構，所述拋光液供應機 構向多個重疊在前述基板盒內(nèi)的玻璃基板的內(nèi)周側端面部分供應拋光 液；拋光刷，所述拋光刷以可與多個重疊在前述基板盒內(nèi)的玻璃基板 的內(nèi)周側端面接觸旋轉的方式被保持；第一驅動機構，所述第一驅動 機構旋轉驅動該拋光刷；第二驅動機構，所述第二驅動機構使前述拋 光刷相對于多個重疊在前述基板盒內(nèi)的玻璃基板的內(nèi)周側端面相對移 動；并且，前述拋光刷配備有沿著軸心方向突出設置有相互不同的外 形部分的毛狀材料，與外形部分的大直徑部分相比，外形部分的小直 徑部分的毛狀材料的硬度更大。(結構7)—種磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述制 造方法具有利用結構3至5中任何一項所述的拋光方法拋光中心部具 有圓孔的圓盤狀的玻璃基板的內(nèi)周側端面的工序。(結構8) —種磁盤的制造方法，其特征在于，在利用結構7所述少形成磁性層。(結構9)一種磁盤用玻璃基板的制造方法，所述方法包含有對玻 璃基板的側壁面和存在于該玻璃基板的主表面與側壁面之間的中間面 這兩方的面進行拋光的端面拋光工序，其特征在于，所述制造方法利 用具有以前述側壁面為主進行拋光的側壁面用拋光部和以前述中間面 為主進行拋光的中間面用拋光部的拋光構件，向前述側壁面及前述中 間面供應含有拋光磨料的拋光液，進行前述端面的拋光工序。(結構10)如結構9所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征 在于，前述拋光構件具有旋轉軸，同時， 一面使前述側壁面用拋光部 與前述玻璃基板的側壁面接觸，以及/或者 一 面使前述中間面用拋光部 與前述玻璃基板的中間面接觸， 一面通過旋轉進行拋光。(結構11)如結構IO所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述拋光構件從前述旋轉軸到前述側壁面用拋光部的相對于前 述旋轉軸正交的方向上的長度，比從前述旋轉軸到前述中間面用拋光部的相對于前述旋轉軸正交的方向上的長度短。(結構12)如結構9至11中任何一項所述的磁盤用玻璃基板的制 造方法，其特征在于，前述拋光構件具有旋轉軸，同時，在通過該旋 轉軸的平面上的前述拋光構件的截面形狀，與疊層的玻璃基板的端部 形狀相一致。(結構13)如結構9至12中任何一項所述的磁盤用玻璃基板的制 造方法，其特征在于，為了同時拋光多個玻璃基板的內(nèi)周側端面，將 多個玻璃基板重疊，進行端面拋光。(結構14)如結構9至13中任何一項所述的磁盤用玻璃基板的制 造方法，其特征在于，前述拋光構件的前述側壁面用拋光部與前述中 間面用拋光部向著軸向方向交替地配置。(結構15)如結構9至14中任何一項所述的磁盤用玻璃基板的制 造方法，其特征在于，前述中間面用拋光部是拋光刷。(結構16)如結構15所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征 在于，前述側壁面用拋光部是拋光墊。(結構17)如結構9至16中任何一項所述的磁盤用玻璃基板的制 造方法，其特征在于，前述側壁面用拋光部是用樹脂對拋光刷的毛進 行了加固的拋光部。(結構18)如結構9至17中任何一項所述的磁盤用玻璃基板的制 造方法，其特征在于，前述拋光構件具有旋轉軸，通過使該拋光構件 旋轉、以及/或者使之沿著前述旋轉軸方向移動，進行拋光。(結構19)一種拋光構件，所述拋光構件用在磁盤用玻璃基板的 制造方法中，而所述磁盤用玻璃基板的制造方法包含有對玻璃基板的 側壁面和存在于該玻璃基板的主表面和側壁面之間的中間面這兩方的 面進行拋光的端面拋光工序，其特征在于，所述拋光構件具有以前述 側壁面為主進行拋光的側壁面用拋光部，以及以前述中間面為主進行拋光的中間面用拋光部。(結構20) —種拋光裝置，其特征在于，所述拋光裝置包括基 板保持機構，所述基板保持機構保持玻璃基板；拋光液供應機構，所件，所述拋光構件具有帶旋轉軸且以玻璃基板的側壁面為主進行拋光 的側壁面用拋光部、以及以存在于該玻璃基板的主表面與側壁面之間 的中間面為主進行拋光的中間面用拋光部；驅動機構，所述驅動機構 一面使該拋光構件與玻璃基板的內(nèi)周側端面接觸， 一面使之旋轉、以 及/或者使之沿著前述旋轉軸方向移動。(結構21)如結構20所述的拋光裝置，其特征在于，前述拋光構 件一面使前述側壁面用拋光部與前述玻璃基板的側壁面接觸，以及/ 或者一面使前述中間面用拋光部與前述玻璃基板的中間面接觸， 一面 進行旋轉。根據(jù)本發(fā)明的拋光刷(拋光構件)、采用該拋光刷(拋光構件)的 拋光方法及拋光裝置，即使對于例如內(nèi)徑在12mm以下的小直徑基板， 也能夠以良好的尺寸精度將內(nèi)周側端面精加工成規(guī)定的端面形狀，同 時，可以將該端面精加工成超平滑的鏡面狀態(tài)。并且，在將多個玻璃 基板重疊、同時進行內(nèi)周側端面的拋光加工的情況下，可以消除基板 之間的加工偏差，可以低成本穩(wěn)定地大量提供以高品質精加工而成的 》茲盤用玻璃基板。另外，根據(jù)具有應用這種拋光方法的拋光工序的磁盤用玻璃基板 及磁盤的制造方法，即使對于例如內(nèi)徑在12mm以下的小直徑基板， 也可以高品質地對基板的內(nèi)周側端面進行精加工，防止發(fā)生由內(nèi)周側 端面的表面狀態(tài)引起的障礙，可以提供能夠實現(xiàn)高記錄密度化的磁盤 用玻璃基板及》茲盤。


圖l是中心部具有圓孔的磁盤用玻璃基板的整體透視圖。圖2是表示上述磁盤用玻璃基板的內(nèi)周側端面的形狀的剖視圖。圖3是表示根據(jù)本發(fā)明的拋光刷的一種實施形式的結構的剖視圖。圖4是使玻璃基板的內(nèi)徑中心相一致、沿軸向方向將多個基板重 疊并容納到基板盒內(nèi)用的夾具的剖視圖。圖5是表示使玻璃基板的內(nèi)徑中心相一致、沿軸向方向將多個基 板重疊并容納到基板盒內(nèi)的狀態(tài)的剖視圖。圖6是表示將重疊地容納有多個玻璃基板的基板盒安裝到拋光裝 置上的狀態(tài)的剖視圖。圖7是表示根據(jù)本發(fā)明的拋光裝置的一種實施形式的結構的側面 剖視圖。圖8是示意地表示根據(jù)本發(fā)明的磁盤的結構的剖視圖。圖9是表示根據(jù)本發(fā)明的拋光刷的另外的實施形式的剖視圖。圖10是用于說明現(xiàn)有的拋光方法的拋光裝置的一個例子的剖視圖。符號說明I 玻璃基板 10 磁盤II 玻璃基板的主表面12 玻璃基板的內(nèi)周側端面20、 25 拋光刷22 毛狀材料34 基板盒40 拋光裝置具體實施方式
下面，對于實施本發(fā)明的最佳形式進行詳細描述。圖l是應用本發(fā)明的磁盤用玻璃基板l的整體透視圖。該玻璃基 板1，在中心部具有圓孔，整體形成盤(圓盤)狀，具有其正面和 背面的主表面11、 11、形成在這些主表面11、 11之間的內(nèi)周側的端面 12、和外周側的端面13。圖2是表示上述磁盤用玻璃基板1的內(nèi)周側端面12的形狀的剖視圖。如圖2所示，玻璃基板1的內(nèi)周側的端面12形成由與其主表面 11正交的側壁面12a、分別形成在該側壁面12a與正面和背面的主表 面11、 ll之間的兩個倒角面(倒過角的面)12b、 12b構成的形狀。 另外，也存在不對存在于上述側壁面12a與正面和背面的主表面11、 11之間的面進行倒角的情況。在本發(fā)明中，將存在于上述側壁面12a 與正面和背面的主表面11、 11之間的面稱為"中間面"，也包括如圖2 所示的形成了倒角面的情況。另外，在小直徑磁盤，例如，1.8英寸磁盤的情況下，將玻璃基板 l精加工成外徑48mm、內(nèi)徑12mm，在l英寸磁盤的情況下，精加工 成外徑27.4mm、內(nèi)徑7mm,在0.85英寸磁盤的情況下，精加工成外 徑22mm、內(nèi)徑6mm。這里，所謂內(nèi)徑是玻璃基板1的中心部的圓孔 的內(nèi)4圣。另外，伴隨著這種磁盤的小直徑化，磁盤基板的板厚也被薄型化， 例如，在現(xiàn)有技術的2.5英寸磁盤的情況下，磁盤基板的板厚為 0.635mm，在謀求磁盤的小直徑化的情況下，板厚為0.581mm、 0.381mm或者以下。另外，將磁盤用玻璃基板1的主表面11、內(nèi)周側端面12、外周側 端面13分別進行拋光(鏡面拋光)精加工，達到規(guī)定的表面粗糙度。 其中，要求將內(nèi)周側端面12精加工成上述那樣的端面形狀，并且將表 面粗糙度例如精加工成Ra在0.10nm以下的超平滑的鏡面狀態(tài)。圖3是表示根據(jù)本發(fā)明的拋光刷的一種實施形式的結構的剖視圖。根據(jù)本發(fā)明的拋光刷，用在一面向中心部具有圓孔的圓盤狀的玻 璃基板的內(nèi)周側端面部分供應拋光液、 一面使拋光刷與前述玻璃基板 的內(nèi)周側端面接觸旋轉以進行拋光的拋光方法中，用于對磁盤用玻璃 基板進行拋光。并且，根據(jù)本發(fā)明的一種實施形式的拋光刷20,其特 征在于，如圖3所示，相對于其軸心21沿著大致正交的方向突出設置 毛狀材料22,在軸向方向上交替地排列配置兩個外徑不同的部分(Dl、 D2)，同時，其中制成小直徑(D2)的部分與制成大直徑(Dl)的部分相比，其毛狀材料的硬度大。通過利用這種拋光刷進行玻璃基板的內(nèi)周側端面的拋光，即使對于例如直徑在12mm以下的小直徑基板， 也能夠將內(nèi)周側端面以良好的尺寸精度精加工成規(guī)定的端面形狀，同 時，能夠精加工成表面粗糙度Ra例如在O.lOnm以下的超平滑的鏡面 狀態(tài)。上述拋光刷20的軸心21，例如，優(yōu)選采用將由線徑為幾個毫米 左右的不銹鋼絲等線材構成的多個芯線捻合并相互纏繞的結構。采用 這種軸心的結構，可以4吏軸心盡可能的細，即4吏對于內(nèi)徑6~7mm的 磁盤基板，也能夠適用，而且可以確保拋光刷的最低限度的剛性。根 據(jù)本發(fā)明的拋光刷，可以通過在將毛狀材料夾在多個芯線之間的狀態(tài) 下將這些芯線捻起來進行制造。在這種情況下，為了制作外徑不同的 部分，可以使用毛的長度不同的毛狀材料，也可以使用相同長度的毛 狀材料，在制作成刷的狀態(tài)之后，適當?shù)厍袛嗝珷畈牧?，對外徑進行 調(diào)整。毛狀材料22的材質，通常優(yōu)選使用尼龍纖維，但是，代替尼龍纖 維，也可以使用聚酯纖維、聚丙烯纖維、聚氯乙稀纖維、豬毛、鋼琴 線、不銹鋼制纖維等。從防止彈性、潮濕狀態(tài)下的機械強度的降低、 以及耐久性的角度出發(fā)，上述尼龍纖維是令人滿意的。在這種尼龍纖 維中，耐水性優(yōu)異的例如66尼龍、610尼龍等是適宜的。另外，毛狀 材料的線徑優(yōu)選在0.05~0.15mm左右的范圍內(nèi)。進而，也可以4吏用 在尼龍纖維中混入拋光劑的加拋光劑尼龍纖維。在這樣將兩個外徑不同的部分交替配列的拋光刷的情況下，可以 在玻璃基板l的內(nèi)周側端面12上，對于其側壁面12a和倒角面12b、 12b中的任何一個都進行良好的拋光。即，制成大直徑的第一外徑D1 的部分，主要發(fā)揮著對上述倒角面12b、 12b以良好的形狀且以超平 滑的鏡面進行精加工成的拋光作用，制成小直徑的第二外徑D2的部 分，主要發(fā)揮著對側壁面12a以良好的形狀且以超平滑的鏡面進行精 加工的拋光作用(起著拋光墊的作用)。這里，由于第一外徑和第二外 徑的大小因盤基板的尺寸而異，所以不能一概而論，但是，優(yōu)選地，第一外徑Dl比玻璃基板1的內(nèi)徑(精加工尺寸)、即比玻璃基板1的 中心部的圓孔的內(nèi)徑大l~5mm左右，第二外徑D2與玻璃基板1的 內(nèi)徑大致相同(外徑D2比玻璃基板的內(nèi)徑大(一些))。換句話說，上述拋光刷的倒角面(中間面)拋光用的部分的外徑 Dl，具有達到靠近玻璃基板的主表面的內(nèi)周側的倒角面的長度，側壁 面拋光用的部分的外徑D2比玻璃基板的內(nèi)徑大，并且比外徑Dl小， 以便能夠可靠地對玻璃基板中的側壁面進行拋光。在本實施形式中，兩個外徑不同的部分(Dl、 D2)在遍布軸向方 向交替配列，但是，構成第一外徑D1的部分的長度L1和構成第二外 徑的部分的長度L2，因盤基板的尺寸而異，所以不能一概而論，但是 優(yōu)選地，例如在玻璃基板1的內(nèi)徑為7mm的情況下，Ll、 L2分別為 3mm左右。如上所述，本實施形式的拋光刷是一種拋光構件，所述拋光構件 包括在玻璃基板1的內(nèi)周側端面中主要拋光其側壁面的側壁面用拋 光部(在本實施形式中，制成小直徑的第二外徑D2部分)，以及主要 拋光存在于玻璃基板1的主表面與側壁面之間的中間面的中間面用拋 光部(在本實施形式中，制成大直徑的第一外徑D1部分)兩個部分。 另外，上述側壁面用拋光部用于拋光側壁面，主要對側壁面進行拋光， 但是，除側壁面之外，也可以拋光中間面。另外，上述中間面用拋光 部，用于拋光中間面，主要對中間面進行拋光，但是，除中間面之外， 也可以對側壁面進4于拋光。通過使用這種拋光刷(拋光構件)，對玻璃基板的端面中的側壁面 和中間面的拋光可以一起進行，同時，可以精度良好地對這兩個面進 行拋光。另外，通過利用這種拋光刷，可以對在現(xiàn)有結構中存在困難 的小直徑磁盤用的玻璃基板的端面進行良好的拋光。如前面所述，硬 盤驅動器(HDD)的移動式用途(便攜式用途)迅速擴展，要求HDD 的小型化。因此，對于裝載在HDD上的磁盤，也要求其小型化，作 為適合于移動式用途的磁盤，磁盤的小型化成為當務之急。可是，一 般地，由于和HDD的主軸馬達的金屬加工精度相比，玻璃基板的內(nèi)徑加工精度差，所以，特別是在移動式用途中使用HDD的情況下， 由于在動作當中的沖擊，會引起"芯部偏移"，在對寫入的數(shù)據(jù)進行讀 出時，磁頭有可能偏離到其它磁道，存在發(fā)生錯誤的可能性。從而， 特別是對于移動式用途的HDD中使用的小直徑磁盤來說，伴隨著磁 盤的小直徑化，其內(nèi)徑變成小直徑，提高內(nèi)徑加工精度是極為重要的 課題。通過使用釆用本發(fā)明的拋光刷(拋光構件)的拋光方法，可以 高精度地拋光小直徑磁盤用的玻璃基板的內(nèi)周端面，可以縮小ID公 差，所以，能夠高精度地將玻璃基板夾持在主軸馬達上，可以減少上 述錯誤的發(fā)生。另外，在本實施形式的拋光刷中，制成小直徑(D2)的部分與制 成大直徑(D1)的部分相比，毛狀材料的硬度更大。當制成小直徑(D2) 的部分的硬度不足時，主要不能良好地發(fā)揮對側壁面12a的拋光作用 (作為拋光墊的功能)，存在端面形狀惡化的情況。這樣，為了使拋光刷的制成小直徑(D2)的部分的硬度比制成大 直徑(Dl)的部分的硬度大，優(yōu)選地，例如，可以列舉出滲入適當?shù)?樹脂對拋光刷中的制成小直徑的部分的毛狀材料加固的方法。作為這 種情況下的樹脂，優(yōu)選地，可以列舉出具有耐水性和適當硬度的橡膠 類粘結劑，具體地說，可以列舉出環(huán)氧樹脂，丙烯酸樹脂等?？梢赃m 當?shù)卣{(diào)整制成小直徑(Dl)的部分的硬度，使之具有適當?shù)拇笮?。?外，在本實施形式的拋光刷中，其制成小直徑(D2)的部分與制成大 直徑(D1)的部分相比，毛狀材料的硬度大，但是，由于硬度大，剛 性也大，或者彈性模量也大，所以，在本發(fā)明中，所謂"加大硬度"， 也意味著加大剛性，或者加大彈性模量。另外，為了使拋光刷的制成小直徑的部分與制成大直徑的部分的 硬度(彈性模量)不同，也可以利用毛狀材料的硬度不同的材料構成 拋光刷。另外，在圖3所示的拋光刷的一種實施形式中，兩個外徑不同的 部分(D1、 D2)遍及軸向方向交替地配列，但是，本發(fā)明并不局限于 這樣的實施形式。總之，只要是配列兩個外徑不同的部分即可，例如，也可以采用將制成大直徑(Dl)的部分配列在軸向方向的左半部、將 制成小直徑(D2)的部分配列在右半部的分成各個區(qū)域配列的結構。 另外，也可以釆用沿著拋光刷的圓周方向交替地或者分開區(qū)域配列外 徑不同的部分的機構(即，當從相對于軸向方向的截面上觀察時，在 半徑方向上具有直徑不同的部分的結構)。另外，圖9是表示本發(fā)明的拋光刷的另外的實施形式的剖視圖。 圖9所示的拋光刷25是一種具有側壁面用拋光部24 (在本實施形式 中，是制成小直徑的外徑D2的部分)和中間面用拋光部23 (在本實 施形式中，是制成大直徑Dl的部分)兩者的拋光構件，這一點與前 述圖3所示的情況相同，然而，圖9所示的拋光刷25的特征在于，在 通過該拋光刷的旋轉軸的平面上的上述中間面用拋光部23的截面形 狀為"人字形"。這樣的拋光刷25，在通過該拋光刷的旋轉軸的平面上 的該拋光刷的總體截面形狀(圖9)，是與疊層狀態(tài)的玻璃基板的端面 形狀相一致的形狀，所以，拋光刷沿著疊層的玻璃基板的端面良好地 接觸(或者推壓到該端面上)，能夠進行良好的端面拋光。另外，本發(fā)明的拋光刷，具有側壁面用拋光部和中間面用拋光部 兩者，但是，也可以是上述側壁面用拋光部為拋光墊、上述中間面用 拋光部為拋光刷的將毛狀材料部分和墊的部分組合起來的結構。在這 種情況下，墊的部分，例如可以使用和玻璃基板的主表面的鏡面拋光 中所使用的拋光墊同樣的材質(例如，仿麂皮墊等軟質墊，發(fā)泡氨基 甲酸乙酯樹脂等的硬質墊等)。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的拋光方法，是一種對中心部具有圓孔的 圓盤狀的玻璃基板的內(nèi)周側端面進行拋光的拋光方法，所述方法一面 向前述玻璃基板l的內(nèi)周側端面12的部分供應拋光液，一面利用根據(jù) 上述本發(fā)明的拋光刷，將該拋光刷基本上垂直地插入到前述圓孔內(nèi)， 通過相對于該圓孔的端面使前述拋光刷沿著旋轉軸方向相對移動并且 使之接觸旋轉，對前述玻璃基板的內(nèi)周側端面進行拋光的拋光方法。根據(jù)本發(fā)明的拋光方法，特別適合于將多個玻璃基板重疊進行拋 光、以便同時拋光多個玻璃基板的內(nèi)周側端面的情況。即，即使對于例如內(nèi)徑在12mm以下的小直徑基板，也能夠以良好的尺寸精度將內(nèi) 周側端面精加工成規(guī)定的端面形狀，同時，可以精加工成表面粗糙度 例如為Ra0.10nm以下的超平滑鏡面狀態(tài)，而且可以消除基板之間的 偏差，能夠低成本穩(wěn)定地大量提供精加工成高品質的磁盤用玻璃基板。 另外，根據(jù)本發(fā)明的拋光方法，對于中心部的圓孔的內(nèi)徑在12mm 以下的小直徑的玻璃基板是適用的。即，即使伴隨著磁盤的小直徑化 使玻璃基板的內(nèi)徑小直徑化，也能夠以良好的尺寸精度將其內(nèi)周側端 面精加工成規(guī)定的端面形狀，而且可以精加工成表面粗糙度例如Ra在O.lOnm以下的超平滑的鏡面狀態(tài)。另外，也可以釆用這樣的拋光方法，在所述拋光方法中，代替使 用前述實施形式所述的拋光刷，將外徑不同的兩種拋光刷(在各個拋 光刷中，其外徑一樣)插入到基板內(nèi)徑中一起使用，適當?shù)卣{(diào)整各個 拋光刷的轉速、對于基板內(nèi)徑的推壓力等以進行拋光。在這種拋光方 法中，通過制成大直徑的拋光刷，主要發(fā)揮以良好的形狀并且以超平 滑的鏡面對內(nèi)徑的倒角面進行精加工的拋光作用，制成小直徑的拋光 刷主要發(fā)揮對內(nèi)徑的側壁面以良好的形狀并且以超平滑鏡面進行精加 工的拋光作用(作為拋光墊的功能)，借此，在玻璃基板的內(nèi)周側端面 中，可以對其側壁面和倒角面任何面都進行良好的拋光。下面說明根據(jù)本發(fā)明的拋光裝置。圖4是用于使玻璃基板的內(nèi)徑中心相一致、沿軸向方向將多個玻 璃基板重疊容納到基板盒內(nèi)的夾具的剖視圖，圖5是表示使玻璃基板 的內(nèi)徑中心相一致、沿軸向方向將多個基板重疊容納到基板盒內(nèi)的狀 態(tài)的剖視圖，圖6是表示將多個玻璃基板重疊地容納起來的基板盒安 裝到拋光裝置中的狀態(tài)的剖視圖，圖7是表示根據(jù)本發(fā)明的拋光裝置 的一種實施形式的結構的側面剖視圖。在圖4中，蓋31用于將多個重疊地容納在基板盒34內(nèi)的玻璃基 板固定。在蓋31的中心部開設圓孔31a，在安裝到拋光裝置上時，將 拋光刷插入到該圓孔31a內(nèi)。間隔件32和33用于保護多個重疊地容 納在基板盒34內(nèi)的玻璃基板，其整體形成圓盤狀。在這些間隔件32和33的中心部也分別開設圓孔32a、 33a，在安裝到拋光裝置上時， 將拋光刷插入這些圓孔32a、 33a內(nèi)。另外，基板盒34整體形成圓筒 狀，其上部開設有開口部34a，用于裝填盤狀的玻璃基板，下部開設 有圓孔34b，在容納基板時，基板安裝夾具36的芯棒35插入該圓孔 34b內(nèi)，在安裝到拋光裝置上時，拋光刷插入到該圓孔34b內(nèi)。進而， 基板安裝夾具36，在其中央豎立設置插入到玻璃基板中心部的圓孔內(nèi) 的芯纟奉35。在這種結構中，與基板安裝夾具36的芯棒35相一致，從上方安 裝基板盒34,首先將間隔件33放入基板盒34內(nèi)。然后，例如，以將 100個玻璃基板重疊的狀態(tài)的重疊的基板30裝填到基板盒34內(nèi)。當 然，也可以每次裝填一個或者多個玻璃基板。從裝填到基板盒34內(nèi)的 玻璃基板之上安裝間隔件32，進而，將蓋31安裝到其上。這樣，完 成玻璃基板向基板盒內(nèi)的容納作業(yè)(參照圖5)。通過利用這種基板盒 34及基板安裝夾具36，誰都能夠簡單地在短時間內(nèi)與玻璃基板的內(nèi)徑 中心相一致地沿著軸向方向將多個玻璃基板重疊容納到基板盒內(nèi)。進 而，利用拋光裝置的推桿47、 48將容納有玻璃基板的基板盒的兩端固 定(參照圖6)，可以將基板盒照樣安裝到拋光裝置上。即，不會打亂 處于內(nèi)徑中心相一致地將多個基板沿軸向方向重疊容納在基板盒內(nèi)的 狀態(tài)下的玻璃基板，可以保持原樣地對其進行拋光加工，所以，可以 縮小圓度及圓筒度在每一批之內(nèi)或者每一批之間的偏差。下面，說明圖7所示的拋光裝置。這種拋光裝置，可以原封不動地安裝容納有作為拋光對象的多個 磁盤用玻璃基板l的基板盒34。如上所述，基板盒34，例如，可以一 次容納50個左右、100個左右或者200個左右的玻璃基板。通過從軸 向方向將推桿(推壓栓)47、 48鎖定，將該基板盒34固定到拋光裝 置上。該基板盒34經(jīng)由殼體44、 45可繞軸自由旋轉地保持在拋光裝置 40的旋轉保持臺41上。并且，借助圖中未示出的驅動用馬達，以規(guī) 定的旋轉速度繞軸旋轉操作該基板盒34。另外，殼體44、 45被直線運動導向件支承，如圖7中的箭頭A所示，可以沿著基板盒34的軸 向方向往復移動。圖中，標號46表示軸承。并且，借助驅動用馬達 42及凸輪機構43，沿著基板盒34的軸向方向以一定的周期往復移動 操作該基板盒34。并且，在被基板盒34保持的多個玻璃基板30的中心部的各個圓 孔內(nèi)，在將根據(jù)本發(fā)明的拋光刷20插入的狀態(tài)下，保持該拋光刷20， 可以借助圖中未示出的驅動用馬達，經(jīng)由刷軸旋轉驅動用馬達軸49 旋轉操作。在該拋光裝置40中，拋光刷20的旋轉方向可以是任意方 向，另外，該拋光刷20的-走轉速度可以從{氐速(4000rpm左右)到 高速(7000rpm以上)變化。由于伴隨著玻璃基板的內(nèi)徑的小直徑化， 有必要使用拋光刷20的外徑小的拋光刷，所以，在兩端設置刷把持部， 以便保持刷的兩端，縮小刷的剛性降低造成的影響。另外，除由兩端 保持拋光刷20之外，進而還設置利用氣缸50將刷把持部推壓到與刷 軸平行的外側、防止在加工過程中刷軸的振擺用的機構。另外，該拋 光裝置40可以分別獨立地改變拋光刷的轉速、基板盒的轉速、基板盒 的擺動速度及距離，將拋光刷向基板內(nèi)周側端面推壓的拋光刷推壓力 等。優(yōu)選地，在拋光加工過程中，向多個重疊的玻璃基板1的內(nèi)周側 端面部分供應拋光液。作為拋光液供應機構，在圖7中，表示出了從 拋光液供應部(圖中未示出)通過漿液管51或53供應拋光液的形式。 對于拋光液的供應，利用切換螺線管52或54，進行使流動方向為來 自于刷的上方還是來自于刷的下方的切換。為了防止拋光劑的流動隨 著使用時間而變化，可以使之具有在拋光液流路中流過自來水、利用 水清洗拋光加工后的拋光液流路的功能。作為拋光劑，可以使用氧化鈰、氧化鐵、氧化鎂、氧化鋯、氧化 錳等拋光劑，特別優(yōu)選地是，使用與玻璃基板1硬度接近的氧化鈰。 當拋光劑過分硬時，會傷害玻璃基板端面，當拋光劑過分軟時，不能 將基板端面加工成鏡面。拋光液的溫度優(yōu)選為25。C 4(TC左右。根據(jù)使用上面說明的本發(fā)明的拋光刷的拋光裝置，即使對于例如內(nèi)徑12mm以下的小直徑基板，也能夠以良好的尺寸精度將內(nèi)周側端 面精加工成規(guī)定的端面形狀，同時，可以精加工成表面粗糙度例如Ra 為O.lOnm以下的超平滑鏡面狀態(tài)，而且消除基板之間的偏差，能夠 以低成本穩(wěn)定地大量提供精加工成高品質的磁盤用玻璃基板。另外， 根據(jù)本發(fā)明的拋光刷，由于具有外徑不同的部分，所以，即使長的外 徑比基板的內(nèi)徑大，也能夠充分向基板的內(nèi)周側端面部分供應拋光液。另外，根據(jù)本發(fā)明的拋光裝置，由于可以原封不動地將基板盒安 裝到拋光裝置上，所以，不會打亂處于內(nèi)徑中心相一致地將多個基板 沿軸向方向重疊容納在基板盒內(nèi)的狀態(tài)下的玻璃基板，可以保持原樣 地對其進行拋光加工，所以，可以縮小圓度及圓柱度在每一批之內(nèi)或 者每一批之間的偏差。另外，根據(jù)本發(fā)明的拋光裝置，與現(xiàn)有技術中的一面將玻璃基板 浸漬在拋光液中一面進行拋光加工的情況相比，使用的拋光液少，因 此，可以縮小貯存拋光液的容器，所以，可以縮小了拋光裝置的設置 空間。另外，當拋光液的使用量少時，可以減少環(huán)境方面的負擔，所 以是優(yōu)選的。根據(jù)本發(fā)明的磁盤用玻璃基板的制造方法，包括利用上述本發(fā)明 的拋光方法對玻璃基板的內(nèi)周側端面進行拋光的工序。磁盤用玻璃基板，通常，對于形成盤狀的玻璃基板，依次施行磨 削、拋光、化學強化等工序，根據(jù)情況，進而，施行用于對磁性層賦 予磁各向異性的結構加工。拋光工序，包括上述玻璃基板端面的拋光 工序和玻璃基板的主表面的拋光工序。作為用于磁盤用玻璃基板的玻璃的種類，沒有特定的限制，但是， 作為玻璃基板的材質，例如，可以列舉出硅酸鋁玻璃，鈉鈣玻璃， 硅酸鋁鈉(乂 -夕'7V^《乂 '〉 'J少-卜)玻璃，硼硅酸鋁玻璃，硼硅 酸鹽玻璃，石英玻璃，鏈狀硅酸鹽玻璃，或者結晶化玻璃等玻璃陶瓷 等。另外，由于其耐沖擊性和耐振性能優(yōu)異，所以，硅酸鋁玻璃是特 別優(yōu)選的。作為硅酸鋁玻璃，優(yōu)選為含有以下的主成分Si02: 62 ~ 75wt%， A1203: 5~15wt%， Li20: 4~10wt%, Na20: 4~12wt%，Zr02:5.5~ 15wt%，同時，Na20/Zr02的重量比為0.5 ~ 2.0， Al203/Zr02 的重量比為0.4~2.5的化學強化用玻璃等。另外，為了消除由于Zr02 的未溶解物產(chǎn)生的玻璃基板表面的突起，優(yōu)選地，使用以摩爾％表示， 含有57 ~ 74%的Si02， 0 ~ 2.8%的Zn02， 3 ~ 15%的A1203, 7 ~ 16% 的Li02， 4~ 14%的Na20的玻璃等。這種硅酸鋁玻璃，通過化學強化，可以在玻璃基板表面上設置壓 縮應力層，抗彎強度、剛性、耐沖擊性、耐振動性、耐熱性優(yōu)異，即 使在高溫環(huán)境下，Na也不會析出，同時，保持其平坦性，努氏(Knoop ) 硬度優(yōu)異。作為化學強化方法，只要是過去公知的化學強化法即可， 沒有特定的限制。玻璃基板的化學強化，將玻璃基板浸漬到加熱的化 學強化熔融鹽中，用化學強化熔融鹽中的離子對玻璃基板表層的離子 進行離子交換。另外，在作為玻璃基板使用上述化學強化基板的情況下，優(yōu)選地， 結構加工在化學強化之后進行。在化學強化中，在離子交換過程中， 有時玻璃基板主表面形狀會發(fā)生紊亂。對于玻璃基板的直徑尺寸，沒有特定的限制，但是，本發(fā)明在實 際應用當中，對于作為移動式用途的HDD使用的大多數(shù)的1.8英寸以 下的小型磁盤，能夠提供耐沖擊性高、可以高信息記錄密度化的磁盤 用玻璃基板，可用性很高，是適宜的。另外，玻璃基板的厚度優(yōu)選為0.1mm 1.0mm左右。特別是，在 利用0.6mm以下程度的薄型基板構成的磁盤的情況下，特別是，當內(nèi) 周側端面的表面粗糙度大時，在安裝到磁盤裝置上使用的情況下，由 于與主軸的接觸，在內(nèi)徑上容易發(fā)生裂紋，成為產(chǎn)生灰塵的原因，所 以，為了提高薄型基板的耐沖擊性，有必要將內(nèi)周側端面精加工成鏡 面，可以提供將內(nèi)周側端面精加工成超平滑的鏡面、耐沖擊性高的磁 盤用玻璃基板的本發(fā)明，具有很高的可用性。通過在利用本發(fā)明獲得的磁盤用玻璃基板上至少形成磁性層，獲 得磁盤。通常，優(yōu)選地，制成在玻璃基板上設置有籽晶(少-卜'，seed) 層、基底層、磁性層、保護層、潤滑層的磁盤。作為籽晶層，例如，通過使用A1系合金、Cr系合金、NiAl系合 金、NiAlB系合金、AlRu系合金、AlRuB系合金、AlCo系合金、FeAl 系合金等的bcc或者B2結晶結構型的合金等，可以謀求磁性粒子的 微細化。作為基底層，可以設置Cr系合金、CrMo系合金、CrV系合金、 CrW系合金、CrTi系合金、Ti系合金等調(diào)整磁性層的取向性的層。作為磁性層，例如，可以列舉出Co系的具有hep結晶結構的合 金等。作為保護層，例如，可以列舉出碳系保護層等。另外，作為形成 在保護層上的潤滑層的潤滑劑，可以列舉出PFPE(全氟聚醚)化合 物。關于在玻璃基板上成膜上述各個層的方法，可以采用公知的濺射 法等。實施例下面列舉實施例，更具體的說明本發(fā)明的實施形式。另外，本發(fā) 明并不局限于下面所述的實施例。 (實施例1)下面是經(jīng)過(1)粗研磨工序(粗磨削工序)，(2)形狀加工工序， (3)精研磨工序(精磨削工序)，(4)端面拋光工序，(5)主表面第一 拋光工序，(6)主表面第二拋光工序，(7)化學強化工序，制造本實 施例的磁力用玻璃基板。(1)粗研磨工序首先，通過上模、下模、圓筒模直接加壓，由熔融玻璃獲得直徑 50mm(l)、厚度l.Omm的圓盤狀的由硅酸鋁玻璃構成的玻璃基板。另夕卜， 在這種情況下，除直接加壓之外，也可以由利用下拉法或浮法形成的 片狀玻璃利用砂輪切割，獲得圓盤狀的玻璃基板。作為這種硅酸鋁玻 璃，使用含有SK)2: 58~75重量％， A1203: 5~23重量％， Li20: 3~ 10重量％， Na20: 4 ~ 13重量％的化學強化玻璃。其次，為了提高尺 寸精度及形狀精度，對玻璃基板進行研磨工序。這種研磨工序，利用 雙面研磨裝置，用粒度#400的磨料進行。具體地說，開始，利用粒度#400的氧化鋁磨料，將負荷設定在100kg左右，通過使上述研磨 裝置的太陽齒輪及內(nèi)齒輪旋轉，對容納在托架內(nèi)的玻璃基板的兩面進 4亍面精度0-liLim、表面粗糙度(Rmax) 6|im左右的研磨。(2) 形狀加工工序其次，利用圓筒狀砂輪，在玻璃基板的中央部分開設孔，同時， 進行外周端面的研磨，將其直徑加工成48mm(l)之后，在外周端面及內(nèi) 周端面施行規(guī)定的倒角加工。這時的玻璃基板端面的表面粗糙度 Rmax為4nm左右。另外， 一般地，在1.8英寸型的HDD (硬盤驅動 器)中，使用外徑48mm的磁盤。(3) 精研磨工序其次，將磨料的粒度變?yōu)? 1000，通過研磨玻璃基板表面，將表 面粗糙度加工成Rmax為2nm左右，Ra為0.2|um左右。將完成上述 研磨工序的玻璃基板依次浸漬到中性洗滌劑、水的各個清洗槽(施加 超聲波)中，進行超聲波清洗。(4) 端面拋光工序其次，利用現(xiàn)有的拋光刷、拋光裝置，進行玻璃基板的外周側端 面的拋光。在這種情況下的拋光刷的刷毛的材質^f吏用6-6尼龍。該拋 光刷的轉速為1400rpm，另外，疊層的多個玻璃基板的轉速，沿著與 拋光刷相反方向，為60rpm。另外，拋光劑使用氧化鈰，在拋光過程 中，供應這種含有氧化鈰的約30。C的拋光液。拋光時間約30分鐘。其次，利用圖7所示的拋光裝置，進行玻璃基板的內(nèi)周側端面的 拋光。這種情況下的拋光刷，使用圖3所示的結構，其外徑Dl為14mm, D2為12mm, Ll、 L2各為3mm。毛狀材料的材質為6 - 6尼龍。另 外，構成小直徑D2的部分的毛狀材料使用由環(huán)氧樹脂加固的材料。 這種拋光刷的轉速為1800~2700rpm (優(yōu)選地，2200 ~ 2400rpm ),另 外，容納疊層的多個玻璃基板的基板盒的轉速，沿著與拋光刷相反的 方向，為60rpm。適當?shù)卣{(diào)整基板盒的擺動速度及距離、以及向基板 內(nèi)周側端面施加的拋光刷的推壓力。另外，拋光劑使用氧化鈰，在拋 光加工過程中，供應這種含有氧化鈰的約30。C的拋光液。拋光時間約8分鐘 16分鐘。這樣，100個疊層起來的完成拋光加工的玻璃基板的外周側端面 的表面粗糙度的平均值，Ra為O.lnm左右。另外，上述玻璃基板的 內(nèi)周側端面的表面粗糙度，其平均值Ra為0.05inm左右，內(nèi)徑的尺寸 偏差在10jam以內(nèi)。并且，用水清洗完成上述端面拋光加工的玻璃基 板的表面。另外，利用形狀測定器(3》卜k -廿-)測定拋光后的玻璃基 板的內(nèi)周側端面形狀，如圖2所示，將其精加工成端面12由兩個倒角 面12b和其間的側壁面12a形成的形狀。對于外周側端面，也加工成 基本上相同的形狀。(5) 主表面第一拋光工序其次，利用雙面拋光裝置進行第一拋光工序，用于除去在上述研 磨工序中殘留下來的瑕疵或變形。在雙面拋光裝置中，使利用托架保 持的玻璃基板與貼上了拋光墊的上下平臺之間貼緊，使該托架與太陽 齒輪和內(nèi)齒輪嚙合，利用上下平臺夾持上述玻璃基板。之后，通過向 拋光墊與玻璃基板的拋光面之間供應拋光液并進行旋轉，玻璃基板在 平臺上一面自轉一面公轉，同時拋光加工兩面。具體地說，作為拋光 機，使用硬質拋光機(硬質發(fā)泡氨基酸乙酯)，施行拋光工序。拋光條 件為，作為拋光液，使用以氧化鈰(平均粒徑為1.3nm)作為拋光劑 分散的RO水，負荷100g/cm2，拋光時間15分鐘。將完成上述第 一拋光工序的玻璃基板，依次浸漬到中性洗滌劑、純水、純水、IPA (異丙醇)、IPA(蒸氣千燥)的各個清洗槽中，進行超聲波清洗，干 燥。(6) 主表面第二拋光工序其次，利用和在第一拋光工序中使用的相同類型的雙面拋光裝置， 將拋光機改變成軟質拋光機(仿麂皮)，實施第二拋光工序。該第二拋 光工序的目的是，在保持在上述第一拋光工序中獲得的平坦的表面的 同時，例如，將表面粗糙度Ra降低到1.0 0.3nm程度以下。拋光條 件為，作為拋光液，為分散有氧化鈰(平均粒徑0.8pm)的RO水，負荷100g/cm2，拋光時間5分鐘。將完成上述第二拋光工序的玻 璃基板依次浸漬到中性洗滌劑、純水、純水、IPA、 IPA(蒸氣干燥) 的各個清洗槽內(nèi)，進行超聲波清洗，干燥。 (7)化學強化工序其次，對完成上述清洗的玻璃基板施行化學強化?；瘜W強化，準 備硝酸鉀和硝酸鈉的混合化學強化液，將該化學強化溶液加熱到 380°C，將上述清洗、干燥完畢的玻璃基板浸漬約4小時進行化學強化 處理。依次將完成化學強化的玻璃基板浸漬到硫酸、中性洗滌劑、純 水、純水、IPA、 IPA(蒸氣干燥)的各個清洗槽內(nèi)，進行超聲波清洗、 干燥。其次，對完成了上述清洗的玻璃基板表面實施目視檢查及利用光 的反射、散射、透射的精密檢查。其結果是，未發(fā)現(xiàn)由玻璃基板表面 上的附著物引起的突起、瑕瘋等缺陷。另外，利用原子力顯微鏡 (AFM),測定經(jīng)過上述工序獲得的玻璃基板的主表面的表面粗糙度， 獲得Ra = 0.20nm的具有超平滑表面的磁盤用玻璃基板。另外，將玻 璃基板的外徑精加工成48mm、內(nèi)徑12mm、板厚0.581mm。如上所述，制造約1萬個磁盤用玻璃基板，進行長期運轉試驗。 其結果是，通過第一次端面拋光，規(guī)定的端面形狀、尺寸精度、表面 粗糙度合格的成品率平均在90%以上，對于成為次品的基板，通過再 次拋光，幾乎都可以成為正品。使用上面獲得的磁盤用玻璃基板，按以下方式，在其主表面上形 成由籽晶層2a和基底層2b構成的非磁性金屬層2、磁性層3、碳系保 護層4及潤滑層5，制造圖8所示的磁盤10。即，在上述玻璃基板的主表面上，利用DC磁控濺射裝置依次成 膜由AlRu合金構成的籽晶層2a、由CrMo合金構成的基底層2b、由 CoCrPtB合金構成的磁性層3、以及碳系保護層4。進而，在碳系保 護層4上，利用浸漬法成膜出酒精變性的全氟聚醚潤滑層5。這樣， 獲得磁盤10。將獲得的磁盤搭載到裝載—卸載(LUL )式的HDD(硬盤驅動器)上。磁頭使用利用GMR元件的磁頭，磁頭的上浮量為10nm。這樣， 反復進行裝載-卸載動作，進行LUL耐久試驗，本實施例的磁盤，在 100萬次的LUL動作中，不發(fā)生故障。 (比較例)本比較例與前述實施例的不同之處在于，使用前述專利文獻1揭 示的現(xiàn)有技術的拋光方法進行玻璃基板的內(nèi)周側端面的拋光。即，對 于拋光刷，使用在金屬制的軸心上巻繞前述槽狀刷的結構，刷的外徑 同樣為14mm，刷毛的材質使用6-6尼龍。將100個和實施例l相同 形狀、大小的玻璃基板，在疊層的狀態(tài)下，浸漬到拋光液中，進行內(nèi) 周側端面的拋光。拋光劑和實施例l一祥，4吏用氧化鈰，對于其它的 拋光條件，進行適當?shù)恼{(diào)整。這樣，100個疊層的完成拋光加工的玻璃基板的外周側端面的表 面粗糙度，其平均值Ra為0.1|Lim左右。另外，上述玻璃基板的內(nèi)周 側端面的表面粗糙度，其平均值Ra為0.2(Him左右，內(nèi)徑的尺寸差偏 差增大到20pm左右。利用形狀測定器(3 卜k -廿-)測定端面拋光后的玻璃基板 的內(nèi)周側端面形狀，盡管大致形成端面由圖2所示的兩個倒角面及其 間的側壁面構成的形狀，但是，特別是在側壁面上，產(chǎn)生可以認為是 由于拋光刷的推壓力不穩(wěn)定造成的凹部或凹坑。并且，在本比較例中，制造約1萬個上迷1.8英寸磁盤用玻璃基 板，進行長期運轉試驗，通過第一次的端面拋光加工，規(guī)定的端面形 狀、尺寸精度、表面粗糙度合格的成品率平均在70%以下。對于次品 的基板，能夠再次拋光，但是，被過分磨削不能再次拋光不得不廢棄 的基板的比例高達50%左右。另外，基板之間的偏差增大。另外，在圖IO所示的現(xiàn)有技術的端面拋光裝置中，也可以代替現(xiàn) 有技術的拋光刷62，釆用本發(fā)明的拋光刷(拋光構件)。通過在現(xiàn)有 技術的端面拋光裝置中采用本發(fā)明的拋光刷(拋光構件)，可以獲得能 夠高精度地拋光特別是小直徑的磁盤用玻璃基板的端面的效果。
權利要求
1.一種拋光刷，所述拋光刷用于一面向中心部具有圓孔的圓盤狀的玻璃基板的內(nèi)周側端面部分供應拋光液，一面使拋光刷與前述玻璃基板的內(nèi)周側端面接觸并旋轉以進行拋光的拋光方法，其特征在于，前述拋光刷，相對于其軸心在大致垂直的方向上突出地設置毛狀材料，排列配置兩個外徑不同的部分，同時，其形成直徑小的部分與形成直徑大的部分相比，毛狀材料的硬度大。
2. 如權利要求1所述的拋光刷，其特征在于，利用樹脂將前述拋 光刷中的形成小直徑的部分的毛狀材料加固。
3. —種拋光方法，所述拋光方法對中心部具有圓孔的圓盤狀的玻 璃基板的內(nèi)周側端面進行拋光，其特征在于，準備拋光刷，所述拋光刷配備有在軸心方向突出設置相互不同的 外形部分的毛狀材料，且外形部分的小直徑部分與大直徑部分相比， 毛狀材料的硬度更大，一面向前述玻璃基板的內(nèi)周側端面部分供應拋光液， 一面利用前 述拋光刷，將該拋光刷大致垂直地插入到前述圓孔內(nèi)，使前述拋光刷 相對于該圓孔的端面相對移動并且使之進行接觸并旋轉，拋光前述玻 璃基板的內(nèi)周側端面。
4. 如權利要求3所述的拋光方法，其特征在于，使多個玻璃基板 重疊進行拋光，以便能夠同時拋光多個玻璃基板的內(nèi)周側端面。
5. 如權利要求3所述的拋光方法，其特征在于，前述玻璃基板是 中心部的圓孔的內(nèi)徑在12mm以下的玻璃基板。
6. —種拋光裝置，其特征在于，所述拋光裝置包括保持基板盒 的基板盒保持機構，所述基板盒重疊地容納多個中心部具有圓孔的圓 盤狀的玻璃基板；拋光液供應機構，所述拋光液供應機構向重疊在前 述基板盒內(nèi)的多個玻璃基板的內(nèi)周側端面部分供應拋光液；拋光刷， 所述拋光刷被以可與多個重疊在前述基板盒內(nèi)的玻璃基板的內(nèi)周側端 面接觸并旋轉的方式保持；第一驅動機構，所述第一驅動機構旋轉驅動該拋光刷；第二驅動機構，所述第二驅動機構使前述拋光刷相對于 所述基板盒內(nèi)的多個重疊的玻璃基板的內(nèi)周側端面相對移動；其中， 前迷拋光刷配備有沿著軸心方向突出設置有相互不同的外形部分的毛 狀材料，外形部分的小直徑部分與大直徑部分相比，毛狀材料的硬度 更大。
7. —種磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法 具有利用權利要求3所述的拋光方法拋光中心部具有圓孔的圓盤狀的 玻璃基板的內(nèi)周側端面的工序。
8. —種磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在利用權利要^上至少形成磁性層。土 、 ， 、 '、 、 、 ， 土 、
9. 一種磁盤用玻璃基板的制造方法，包括對玻璃基板的側壁面和 存在于該玻璃基板的主表面與側壁面之間的中間面這兩方的面進行拋 光的端面拋光工序，其特征在于，所述制造方法利用具有以前述側壁面為主進行拋光的側壁面用拋 光部和以前述中間面為主進行拋光的中間面用拋光部的拋光構件，向 前述側壁面及前述中間面供應含有磨料的拋光液，進行前述端面的拋 光工序。
10. 如權利要求9所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在 于，前述拋光構件具有旋轉軸，同時， 一面使前述側壁面用拋光部與 前述玻璃基板的側壁面接觸，以及/或者一面使前述中間面用拋光部與 前述玻璃基板的中間面接觸， 一面通過旋轉進行拋光。
11. 如權利要求IO所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在 于，前述拋光構件，從前述旋轉軸到前述側壁面用拋光部的相對于前 述旋轉軸正交的方向上的長度，比從前述旋轉軸到前述中間面用拋光 部的相對于前述旋轉軸正交的方向上的長度短。
12. 如權利要求9所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在 于，前述拋光構件具有旋轉軸，同時，在通過該旋轉軸的平面上的前 述拋光構件的截面形狀與疊層的玻璃基板的端部形狀相一致。
13. 如權利要求9所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在 于，為了同時拋光多個玻璃基板的內(nèi)周側端面，將多個玻璃基板重疊 進^f亍端面拋光。
14. 如權利要求9所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在 于，前述拋光構件的前述側壁面用拋光部與前述中間面用拋光部朝著 軸向方向交替地配置。
15. 如權利要求9所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在 于，前述中間面用拋光部是拋光刷。
16. 如權利要求15所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在 于，前述側壁面用拋光部是拋光刷。
17. 如權利要求9所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在 于，前述側壁面用拋光部是用樹脂加固了拋光刷的毛的拋光部。
18. 如權利要求9所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在 于，前述拋光構件具有旋轉軸，通過使該拋光構件旋轉、以及/或者使 之沿著前述旋轉軸方向移動，進行拋光。
19. 一種拋光構件，所述拋光構件在包含有對玻璃基板的側壁面 和存在于該玻璃基板的主表面和側壁面之間的中間面這兩方的面進行 拋光的端面拋光工序的磁盤用玻璃基板的制造方法中使用，其特征在 于，所述拋光構件具有以前述側壁面為主進行拋光的側壁面用拋光 部、以及以前述中間面為主進行拋光的中間面用拋光部。
20. —種拋光裝置，其特征在于，所述拋光裝置包括 基板保持機構，所述基板保持機構保持玻璃基板； 拋光液供應機構，所述拋光液供應機構向玻璃基板的內(nèi)周側端面部分供應拋光液；拋光構件，所述拋光構件具有旋轉軸，同時，具有以玻璃基板的 側壁面為主進行拋光的側壁面用拋光部，以及以存在于該玻璃基板的 主表面與側壁面之間的中間面為主進行拋光的中間面用拋光部；以及驅動4幾構，所述驅動4幾構 一 面4吏該拋光構件與玻璃基板的內(nèi)周側端面接觸， 一面使之旋轉、以及/或者使之沿著前述旋轉軸方向移 動。
21.如權利要求20所述的拋光裝置，其特征在于，前述拋光構件 一面使前述側壁面用拋光部與前述玻璃基板的側壁面接觸，以及/或者 一面使前述中間面用拋光部與前述玻璃基板的中間面接觸， 一面進行 旋轉。
全文摘要
一種拋光刷，所述拋光刷用于一面向中心部具有圓孔的圓盤狀的玻璃基板的內(nèi)周側端面部分上供應拋光液，一面使拋光刷與前述玻璃基板的內(nèi)周側端面接觸旋轉進行拋光的拋光方法。該拋光刷(20)，相對于其軸心(21)大致正交的方向上突出設置毛狀材料(22)，兩個外徑D1、D2不同的部分在軸向方向上交替地排列配置，同時，構成其小直徑D2的部分的毛狀材料的硬度比構成大直徑D1的部分的毛狀材料的硬度大。為此，用樹脂加固構成拋光刷(20)中的小直徑D2的部分的毛狀材料。
文檔編號G11B5/84GK101277790SQ200680036280
公開日2008年10月1日 申請日期2006年9月28日 優(yōu)先權日2005年9月29日
發(fā)明者植田政明, 重田文彥, 鹿島隆一 申請人:Hoya株式會社