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作為緩蝕劑的唑類化合物的制作方法

文檔序號(hào):8947122閱讀:812來源:國(guó)知局
作為緩蝕劑的唑類化合物的制作方法
【專利說明】作為緩蝕劑的性類化合物
[0001] 相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002] 本申請(qǐng)要求2013年3月16日向美國(guó)專利商標(biāo)局提交的申請(qǐng)?zhí)枮?1/802,613的 美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)W及權(quán)益,其中全部?jī)?nèi)容引入本文作為參考。
【背景技術(shù)】
[0003] 用于航天、工業(yè)、W及民間行業(yè)的金屬的氧化W及降解是嚴(yán)重的W及要花很多錢 才能解決的問題。為防止或者減少用于運(yùn)些應(yīng)用的金屬的氧化W及降解,防護(hù)涂層可W涂 布于金屬表面。運(yùn)些防護(hù)涂層可W是僅有的涂布金屬的涂層,或者其它的涂層可W進(jìn)一步 涂布W保護(hù)金屬表面。當(dāng)涂布金屬表面防止腐蝕時(shí)廠商面對(duì)的一個(gè)問題是為了獲得要求的 效能級(jí)別要提供足夠覆蓋率。運(yùn)是困難的、特別當(dāng)涂布大型的金屬部件、比如在航天應(yīng)用 中,確定是否金屬基材已經(jīng)在全部要求區(qū)域中被充分涂布。
[0004] 防腐涂層是金屬表面處理領(lǐng)域已知的,W及過去的技術(shù)包括銘基涂料,其對(duì)環(huán)境 影響不合要求。其它的防腐涂層也是已知的,包括一些無銘涂料和/或預(yù)處理涂料,其可防 止或者減少金屬氧化W及降解W及有助于耐腐蝕性。需要可W提供耐腐蝕性W及有助于防 止或者減少氧化W及降解的金屬表面涂料。

【發(fā)明內(nèi)容】
陽(yáng)〇化]按照本發(fā)明所述的實(shí)施方案,涂布金屬基材組合物包含挫類化合物、金屬陽(yáng)離子、W及含水載體。
[0006] 按照本發(fā)明所述的其它的實(shí)施方案,涂布基材的組合物包含載體及挫類化合物, 該載體包含環(huán)氧載體、尿燒載體、或者氣化尿燒載體。
[0007] 發(fā)明詳述
[0008] 按照本發(fā)明所述的實(shí)施方案,用于涂布金屬基材的組合物包含含水載體,挫類化 合物、W及金屬陽(yáng)離子緩蝕劑。在一些實(shí)施方案中,例如,金屬陽(yáng)離子緩蝕劑可W包含稀± 陽(yáng)離子(比如,例如Ce,Y,或者Nd),和/或第IA族金屬陽(yáng)離子(比如,例如Li)。在該組 合物中,金屬陽(yáng)離子可W采用金屬鹽的形式提供。例如,在一些實(shí)施方案中,用作陽(yáng)離子源 的金屬鹽可W包含硝酸錠、硝酸姉、氯化姉和/或裡鹽(比如、例如碳酸裡)。
[0009] 在一些實(shí)施方案中,在底漆或者面漆配方中,該挫類化合物可W結(jié)合進(jìn)入環(huán)氧化 物、尿燒、或者氣化尿燒中,帶有可選的附加緩蝕劑,例如,CaS〇4。
[0010] 如本文所用,下列術(shù)語(yǔ)具有W下意思。
[0011] 術(shù)語(yǔ)"鹽",如本文所用,指離子鍵合的無機(jī)化合物和/或溶液中一種或多種無 機(jī)化合物的離子化陰離子W及陽(yáng)離子。
[0012] 術(shù)語(yǔ)"基材Ii,如本文所用,指具有表面的材料。就涂布轉(zhuǎn)化涂層 (conversioncoating)而言,術(shù)語(yǔ)"基材"指金屬基材比如侶、鐵、銅、鋒、儀、儀、和/或運(yùn) 些金屬任一合金,包括而不限于鋼。一些作例證的基材包括侶W及侶合金。額外的作例證 的基材包括高含銅量侶基材(即,包括合金的基材,合金包含侶W及銅二者,其中在該合金 里銅的數(shù)量多,例如銅在該合金里的量是3 - 4% )。
[0013] 術(shù)語(yǔ)"轉(zhuǎn)化涂覆",在本申請(qǐng)中也稱為"轉(zhuǎn)化處理"或者"預(yù)處理",指金屬基 材處理,其引起金屬表面化學(xué)性質(zhì)改變?yōu)椴煌谋砻婊瘜W(xué)性質(zhì)。術(shù)語(yǔ)"轉(zhuǎn)化處理"W及" 轉(zhuǎn)化涂覆"也指涂布或者處理金屬表面,其中金屬基材和具有與在基材內(nèi)所包含金屬不同 的元素金屬的水溶液接觸。另外,術(shù)語(yǔ)"轉(zhuǎn)化涂覆"W及"轉(zhuǎn)化處理"指具有金屬元素的 水溶液與不同元素的金屬基材接觸,其中該基材表面部分溶于該水溶液,從而導(dǎo)致涂料沉 淀在金屬基材上(任選利用外部的驅(qū)動(dòng)力將該涂料沉積在金屬基材上)。
[0014] 術(shù)語(yǔ)"稀±元素",如本文所用,指元素周期表IIIB族元素(或者銅系)或者錠。 被稱為稀上元素的元素族包括,例如元素57 - 71 (即,La,Ce,Pr,Nd,化,Sm,Eu,Gd,化, Dy,化,Er,Tm,孔化及Lu)化及錠。在一些實(shí)施方案中,然而,如下記載,術(shù)語(yǔ)稀±元素可W 指La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,孔,LuW及Y。在一些實(shí)施方案中,該組合 物基本上無銘。如本文所用,術(shù)語(yǔ)"基本上"作為近似化術(shù)語(yǔ)使用而不作為程度術(shù)語(yǔ)使用。 另外,術(shù)語(yǔ)"基本上無銘"作為近似化術(shù)語(yǔ)使用W表示在該組合物中銘的數(shù)量可W忽略不 計(jì),W至于如果銘在組合物中真的存在的話,則它是附帶的雜質(zhì)。
[0015] 術(shù)語(yǔ)"IA族金屬離子"或者"1族金屬離子"如本文所用,指該周期表第一列元 素的離子或者多個(gè)離子化除外)。通過IA族或者1族確定的元素組(除氨外)又名堿金 屬,并且包括,例如,Li,化,K,化,Cs,W及化。
[0016] 術(shù)語(yǔ)"IIA族金屬離子"或者"2族金屬離子"如本文所用,指來自周期表第二 列元素的離子或者多個(gè)離子。標(biāo)識(shí)為IIA族或2族的元素族或者又名堿±金屬,W及包括, 例如,Be,Mg,Ca,Sr,BaW及Ra。
[0017] 如本說明書所用,術(shù)語(yǔ)"包含"W及術(shù)語(yǔ)變體,比如"包含"W及"包含"不是 要把其它的添加劑、組分、整體成分(integersingredients)或者步驟排除。
[0018] 本申請(qǐng)公開的全部數(shù)量是按在25°CW及一個(gè)大氣壓壓力下占該組合物總重量的 重量百分?jǐn)?shù)給出,除非另有說明。
[0019] 按照一些實(shí)施方案,用于涂布金屬基材的組合物包含緩蝕劑W及金屬陽(yáng)離子,該 緩蝕劑包含挫類化合物。該挫類化合物可W包括諸如化咯之類的具有1個(gè)氮原子的環(huán)狀化 合物、諸如化挫、咪挫、立挫、四挫W及五挫之類的具有兩個(gè)或更多個(gè)氮原子的環(huán)狀化合物、 諸如嗯挫W及異嗯挫之類的具有1個(gè)氮原子W及1個(gè)氧原子的環(huán)狀化合物、W及諸如嚷挫 W及異嚷挫之類的具有1個(gè)氮原子和1個(gè)硫原子的環(huán)狀化合物。適合的挫類化合物的非限 制性實(shí)例包括2, 5 -二琉基一1,3,4 -嚷二挫(CAS:1072 - 71 - 5),IH-苯并S挫(CAS: 95 _ 14 _ 7),化 _ 1,2,3 -S挫(CAS:288 _ 36 _ 8),2 _氨基_ 5 _琉基_ 1,3,4 _ 嚷二挫(CAS:2349 - 67 - 9),也稱為5 -氨基一1,3,4 -嚷二挫一2 -硫醇,W及2 -氨 基一1,3,4 -嚷二挫(CAS:4005 - 51 - 0)。在一些實(shí)施方案中,例如,該挫類化合物包含 2,5 -二琉基一1,3,4 -嚷二挫。
[0020] 該挫類化合物在組合物中存在濃度為0. 0005g/L組合物至3g/L組合物。例如,在 一些實(shí)施方案中,在該組合物中該挫類化合物含量可W為0. 004g/L組合物至0.Ig/L組合 物。
[0021] 該金屬陽(yáng)離子可W包含一個(gè)或多個(gè)不同的具有緩蝕特性的金屬陽(yáng)離子。例如,在 一些實(shí)施方案中,該金屬陽(yáng)離子可W包含稀±元素、比如,舉例來說,La,Ce,Pr,Nd,化,Sm, 化,Gd,化,Dy,Ho,Er,Tm,孔,Lu。在一些實(shí)施方案中,該稀±元素包含La,Ce,Pr,Nd,Sm, 化,Gd,化,Dy,化,Er,Tm,孔,Lu和/或Y。例如,在一些實(shí)施方案中,該稀±元素包含Ce, Y,Pr和/或Nd。其它的合適的金屬陽(yáng)離子包括IA族或者IIA族金屬陽(yáng)離子(即,堿金屬 W及堿±金屬)。例如,在一些實(shí)施方案中,該金屬陽(yáng)離子可W包含堿金屬、比如,舉例來說, Li,化,K,化,Cs和/或化,和/或堿±金屬,比如,舉例來說,Be,Mg,Ca,Sr,Ba和/或Ra。 在一些實(shí)施方案中,例如,該金屬陽(yáng)離子可W包含堿金屬、比如,舉例來說,Li,化,K,化和/ 或Cs,和/或堿±金屬、比如,舉例來說、Be,Mg,Ca,Sr和/或Ba。在一些實(shí)施方案中,金屬 陽(yáng)離子包含裡、鋼、鐘、和/或儀。例如,在一些實(shí)施方案中,金屬陽(yáng)離子包含Ce,Y,Nd和/ 或Lio
[0022] 該金屬陽(yáng)離子在組合物中的濃度可W為0. 05g每升組合物至25g每升組合物。例 如,在一些實(shí)施方案中,該金屬陽(yáng)離子在組合物中的濃度可W為0. 05g每升組合物至16g每 升組合物。在一些實(shí)施方案中,例如,該金屬陽(yáng)離子在組合物中的濃度可W為0.Ig每升組 合物至IOg每升組合物。例如,在一些實(shí)施方案中,該金屬陽(yáng)離子在組合物中的濃度可W為 Ig每升組合物至5g每升組合物。例如,如果金屬陽(yáng)離子包括稀±陽(yáng)離子,則該稀±陽(yáng)離子 存在濃度可W是0.
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