1.一種表面處理方法，其特征在于，包括：
(1)對工件進行清潔處理；
(2)對步驟(1)得到的工件進行預(yù)熱處理；
(3)對步驟(2)得到的工件表面進行離子束清潔；
(4)通過真空蒸鍍法在步驟(3)得到的工件表面形成耐磨層；
(5)通過真空蒸鍍法在步驟(4)得到的工件表面形成防指紋層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(1)中，所述工件為陶瓷工件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(1)中，所述清潔處理是通過超聲波清洗或擦拭進行的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(2)中，所述預(yù)熱處理的溫度為80-120攝氏度，時間為5-15分鐘。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(3)中，所述離子束清洗是在真空設(shè)備中、惰性氣體氣氛下進行的，其中，離子源電壓為100V，電流為9-10A。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(3)中，所述離子束清洗進行的時間為5-15分鐘。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(4)中，所述真空蒸鍍法在真空度為5×10-3至2×10-3Pa的條件下進行，蒸發(fā)速度為1-10埃/秒，鍍膜時間為3-8分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(4)中，所述真空蒸鍍法的電子槍電壓為4-8KV，電流為150-200mA。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(4)中，所述耐磨層為二氧化硅層，所述耐磨層的厚度為10-15納米。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(5)中，所述真空蒸鍍法在真空度為5×10-3至2×10-3Pa的條件下進行，蒸發(fā)速度為1-10埃/秒，鍍膜時間為5-10分鐘。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(5)中，所述真空蒸鍍法的電子槍電壓為380V，電流為120-180A。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(5)中，所述防指紋層由全氟聚醚形成，所述防指紋層的厚度為15-25納米。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，步驟(3)至(5)各自獨立地在80-120攝氏度下進行。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，所述耐磨層與所述防指紋層之間形成化學鍵合。