本發(fā)明涉及蒸鍍裝置。

背景技術(shù)：

從蒸發(fā)源蒸發(fā)并噴出的成膜材料堆積在基板上而形成薄膜的蒸鍍裝置在有機(jī)EL器件的制造中被廣泛應(yīng)用，并且為了滿(mǎn)足制造上的要求進(jìn)行了各種研究。在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中，公開(kāi)了這樣的技術(shù)：為了限制從蒸發(fā)源釋放出的成膜材料的蒸氣的放射范圍，在收納有蒸發(fā)源的蒸發(fā)源收納部的外側(cè)壁設(shè)置限制板。

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2011-68980號(hào)公報(bào)

可是，在上述結(jié)構(gòu)的情況下，每當(dāng)進(jìn)行蒸發(fā)源的清掃或收納在蒸發(fā)源內(nèi)的成膜材料的補(bǔ)充或更換等維護(hù)作業(yè)時(shí)，都需要進(jìn)行卸下和固定限制板的作業(yè)，維護(hù)作業(yè)的效率低下。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明是為了解決上述那樣的問(wèn)題而完成的，目的在于提供一種容易進(jìn)行蒸發(fā)源的維護(hù)作業(yè)的蒸鍍裝置。

參照附圖對(duì)本發(fā)明的主旨進(jìn)行說(shuō)明。

本發(fā)明的第1形態(tài)是蒸鍍裝置，其具備蒸發(fā)源設(shè)置部，所述蒸發(fā)源設(shè)置部用于將對(duì)基板1進(jìn)行蒸鍍的蒸發(fā)源2設(shè)置于蒸鍍室，其特征在于，所述蒸鍍裝置構(gòu)成為，在所述蒸鍍裝置中設(shè)置有包圍所述蒸發(fā)源設(shè)置部40的遮蔽部5，在所述遮蔽部5的上方位置設(shè)置有限制板4，所述限制板4用于限制從設(shè)置于所述蒸發(fā)源設(shè)置部40的蒸發(fā)源2朝向基板1釋放出的成膜材料的蒸發(fā)粒子相對(duì)于基板1的入射角，在所述遮蔽部5中設(shè)置有開(kāi)閉部6。

另外，涉及一種蒸鍍裝置，其特征在于，所述限制板4設(shè)置于在維護(hù)時(shí)也不進(jìn)行開(kāi)閉的固定支承部件上。

另外，涉及一種蒸鍍裝置，其特征在于，所述開(kāi)閉部6在蒸鍍時(shí)閉合，在維護(hù)時(shí)打開(kāi)。

另外，涉及一種蒸鍍裝置，其特征在于，所述固定支承部件7構(gòu)成為框狀，所述框狀具有容許所述開(kāi)閉部6的開(kāi)閉動(dòng)作的開(kāi)口。

另外，涉及一種蒸鍍裝置，其特征在于，所述固定支承部件7設(shè)置在不對(duì)所述開(kāi)閉部6的開(kāi)閉動(dòng)作產(chǎn)生干涉的位置。

另外，涉及一種蒸鍍裝置，其特征在于，在包圍所述蒸發(fā)源2的側(cè)周面的所述遮蔽部5的與所述蒸發(fā)源2的長(zhǎng)度方向的側(cè)面對(duì)置的位置處設(shè)置了所述開(kāi)閉部6。

另外，涉及一種蒸鍍裝置，其特征在于，所述遮蔽部5構(gòu)成為：在將所述開(kāi)閉部6設(shè)置成打開(kāi)狀態(tài)時(shí)，蒸發(fā)源2在其長(zhǎng)度方向全長(zhǎng)上從該開(kāi)閉部6露出。

另外，涉及一種蒸鍍裝置，其特征在于，所述限制板4被設(shè)置成相對(duì)于所述遮蔽部5能夠自由活動(dòng)。

另外，涉及一種蒸鍍裝置，其特征在于，使包圍所述蒸發(fā)源2的四周的所述遮蔽部5的開(kāi)口部10開(kāi)閉的擋板9被設(shè)置成相對(duì)于所述遮蔽部5能夠自由活動(dòng)。

本發(fā)明的第2形態(tài)涉及蒸鍍裝置，其具備：蒸發(fā)源設(shè)置部，其用于設(shè)置收納成膜材料的蒸發(fā)源；和遮蔽部，其包圍所述蒸發(fā)源設(shè)置部的四周，其特征在于，所述遮蔽部具有開(kāi)閉結(jié)構(gòu)。

根據(jù)本發(fā)明的蒸鍍裝置，容易進(jìn)行蒸發(fā)源的維護(hù)作業(yè)，因此能夠縮短維護(hù)所需要的時(shí)間。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)施例的概要說(shuō)明立體圖。

圖2是本實(shí)施例的概要說(shuō)明剖視圖。

圖3是本實(shí)施例的概要說(shuō)明剖視圖。

圖4是本實(shí)施例的概要說(shuō)明側(cè)視圖。

標(biāo)號(hào)說(shuō)明

1：基板；

2：蒸發(fā)源；

4：限制板；

5：遮蔽部；

6：開(kāi)閉部；

7：固定支承部件；

9：擋板；

10：開(kāi)口部；

40：蒸發(fā)源設(shè)置部。

具體實(shí)施方式

對(duì)于本發(fā)明的蒸鍍裝置的實(shí)施方式，列舉具體的實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。

圖1和圖2是示出本發(fā)明的蒸鍍裝置的一個(gè)實(shí)施例的圖。圖1是蒸鍍裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的立體圖，這些結(jié)構(gòu)被設(shè)置在未圖示的真空室的內(nèi)部。圖2是圖1的在蒸發(fā)源支承體3的短邊方向上的剖視圖。

首先，對(duì)本發(fā)明的蒸鍍裝置的主要結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明，然后對(duì)其它結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。

在蒸發(fā)源支承體3的上表面設(shè)置有蒸發(fā)源設(shè)置部40，在蒸發(fā)源設(shè)置部40上設(shè)置有蒸發(fā)源2，該蒸發(fā)源2收納有成膜材料。在蒸發(fā)源支承體3的上表面上還設(shè)置有遮蔽部5，該遮蔽部5包圍蒸發(fā)源2的四周。在本說(shuō)明書(shū)中，遮蔽部5存在于除了蒸發(fā)源2的下部(蒸鍍室的設(shè)置有蒸發(fā)源的底面)和上部(蒸發(fā)源的基板側(cè))之外的蒸發(fā)源2的周?chē)?，將該狀態(tài)表述為“包圍四周”。換而言之，遮蔽部5存在于蒸發(fā)源的側(cè)周。遮蔽部5優(yōu)選配置成能夠防止成膜材料向蒸發(fā)源的側(cè)周方向飛散。

蒸發(fā)源2是在一個(gè)方向上較長(zhǎng)的形狀的所謂線(xiàn)源，并且是將并排設(shè)置有多個(gè)材料釋放口11的上蓋(未圖示)裝卸自如地設(shè)置于容器主體上的結(jié)構(gòu)。在蒸發(fā)源2的內(nèi)部具備用于收納成膜材料的材料容器，通過(guò)卸下上蓋，能夠進(jìn)行材料容器內(nèi)的成膜材料的補(bǔ)充或更換。

蒸發(fā)源2以能夠拆卸的方式設(shè)置于蒸發(fā)源設(shè)置部40。蒸發(fā)源設(shè)置部40具有與蒸發(fā)源2的底面大致相同的面積，因此，包圍蒸發(fā)源2的四周進(jìn)行設(shè)置的遮蔽部5包圍蒸發(fā)源設(shè)置部40的四周進(jìn)行設(shè)置。另外，在蒸發(fā)源設(shè)置部40上設(shè)置有用于決定蒸發(fā)源2的設(shè)置位置的未圖示的定位部件。因此，即使臨時(shí)將蒸發(fā)源2卸下，也能夠?qū)⑵湓俅卧O(shè)置于相同的位置。

遮蔽部5由包圍蒸發(fā)源2的側(cè)周面的部件構(gòu)成，并且遮蔽從蒸發(fā)源2釋放出的成 膜材料的蒸氣。在本實(shí)施例中，將各個(gè)部件呈垂直狀態(tài)豎立設(shè)置在蒸發(fā)源2、即蒸發(fā)源設(shè)置部40的四周，構(gòu)成了俯視時(shí)為矩形狀的遮蔽部5。在蒸發(fā)源支承體3的上表面上還設(shè)置有固定支承部件7，為了限制從蒸發(fā)源2朝向基板1釋放出的成膜材料的蒸鍍粒子相對(duì)于基板1的入射角，在固定支承部件7上設(shè)置有限制板4。限制板4被配置在所述遮蔽部5的上方位置。

如果收納在蒸發(fā)源2中的材料的量由于成膜而變少，則成膜速度變得不穩(wěn)定，從而無(wú)法獲得規(guī)定的膜厚或者導(dǎo)致膜質(zhì)量降低。為了抑制這樣的情況發(fā)生，進(jìn)行蒸發(fā)源2的維護(hù)。在進(jìn)行蒸鍍裝置的維護(hù)時(shí)，將蒸發(fā)源2的上蓋卸下，進(jìn)行內(nèi)部的清掃，向?qū)?nèi)部所具備的材料進(jìn)行收納的容器內(nèi)補(bǔ)充成膜材料。維護(hù)所需要的間隔取決于成膜時(shí)間和成膜速度，因此，在將蒸鍍裝置用作量產(chǎn)設(shè)備的情況下，維護(hù)的頻率升高。

但是，由于蒸發(fā)源2的四周被遮蔽部5包圍，因此，在該狀態(tài)，維護(hù)變得非常困難。在本實(shí)施例的情況下，由于在蒸發(fā)源2的上部還配置有限制板4，因此維護(hù)變得更加困難。在專(zhuān)利文獻(xiàn)1所示的以往的蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)中，每當(dāng)進(jìn)行維護(hù)作業(yè)時(shí)，需要進(jìn)行限制板等包圍著蒸發(fā)源設(shè)置的部件的拆卸和固定作業(yè)，維護(hù)作業(yè)的效率低下。

因此，在本發(fā)明的蒸鍍裝置中，在遮蔽部5上設(shè)置有開(kāi)閉結(jié)構(gòu)，通過(guò)開(kāi)閉結(jié)構(gòu)設(shè)置了維護(hù)用的開(kāi)閉部6，該開(kāi)閉部6能夠變更為使遮蔽部5包圍蒸發(fā)源的狀態(tài)(關(guān)閉狀態(tài))和使蒸發(fā)源露出的狀態(tài)(打開(kāi)狀態(tài))。例如，在蒸鍍時(shí)，預(yù)先使開(kāi)閉部6成為關(guān)閉狀態(tài)，在維護(hù)時(shí)等，能夠利用開(kāi)閉結(jié)構(gòu)使開(kāi)閉部6打開(kāi)。由此，維護(hù)作業(yè)的效率得到提高。

具體來(lái)說(shuō)，遮蔽部5由對(duì)置的一對(duì)固定部件14、和一對(duì)可動(dòng)部件15構(gòu)成，這一對(duì)固定部件14位于蒸發(fā)源2的短邊方向的側(cè)面?zhèn)?，固定于蒸發(fā)源支承體3，這一對(duì)可動(dòng)部件15位于蒸發(fā)源2的長(zhǎng)邊方向的側(cè)面?zhèn)?，并且在一?duì)固定部件14之間能夠相對(duì)于固定部件14移動(dòng)。

可動(dòng)部件15比蒸發(fā)源2的長(zhǎng)度方向上的長(zhǎng)度更長(zhǎng)，一對(duì)可動(dòng)部件15被配置成在一對(duì)固定部件14之間對(duì)置?？蓜?dòng)部件15的兩端部通過(guò)樞軸安裝部17樞軸安裝在固定部件14的內(nèi)表面下部，并且為這樣的結(jié)構(gòu)：通過(guò)樞軸安裝部17使可動(dòng)部件15旋轉(zhuǎn)，從而可動(dòng)部件15能夠從垂直立起設(shè)置狀態(tài)成為向外側(cè)打開(kāi)的狀態(tài)。通過(guò)這樣的開(kāi)閉結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了如下這樣的開(kāi)閉部6：其能夠變更為使蒸發(fā)源2在長(zhǎng)度方向全長(zhǎng)上被遮蔽的狀態(tài)和使蒸發(fā)源2在長(zhǎng)度方向全長(zhǎng)上露出的狀態(tài)。

在本實(shí)施例中，遮蔽部5除了遮蔽從蒸發(fā)源2釋放出的成膜材料的蒸氣這一功能之外，還具有遮蔽從蒸發(fā)源2發(fā)出的熱這一功能。因此，固定部件14和可動(dòng)部件15成為在內(nèi)部設(shè)有供水等冷卻介質(zhì)流通的冷卻介質(zhì)流通通道13的冷卻板，在可動(dòng)部件15的內(nèi)側(cè)面設(shè)有將冷卻介質(zhì)流通通道13堵住的閉塞板16。

固定支承部件7構(gòu)成為具有容許開(kāi)閉部6的開(kāi)閉動(dòng)作的開(kāi)口的框狀。具體來(lái)說(shuō)，固定支承部件7構(gòu)成為：具有設(shè)置在不與開(kāi)閉部6的開(kāi)閉動(dòng)作發(fā)生干涉的位置處的4個(gè)腿部18，并且在該腿部18的上端架設(shè)有水平件。

4個(gè)腿部18相對(duì)于蒸發(fā)源2立起設(shè)置在比各固定部件14的用于開(kāi)閉的樞軸安裝部17靠外側(cè)的位置。即，腿部18在蒸發(fā)源的長(zhǎng)度方向上的間隔比可動(dòng)部件在蒸發(fā)源的長(zhǎng)度方向上的長(zhǎng)度長(zhǎng)。

水平件具有：與固定部件14平行的一對(duì)短尺寸水平件19；和與可動(dòng)部件15平行的一對(duì)長(zhǎng)尺寸水平件20。并且，各腿部18的高度被設(shè)置成使水平件(19、20)設(shè)置在比可動(dòng)部件15的上端高的位置。

因此，蒸發(fā)源2配置在由框狀的固定支承部件7包圍的區(qū)域中，所述固定支承部件7由4個(gè)腿部18和水平件構(gòu)成。在本實(shí)施例中，固定支承部件7由在剖視圖中為L(zhǎng)字狀的角材構(gòu)成。

在固定支承部件7的上表面、即長(zhǎng)尺寸水平件20上，設(shè)置有一對(duì)限制板4。

通過(guò)設(shè)置限制板4，成膜材料的蒸鍍粒子向基板1入射的角度被限制，在使用掩模的成膜中，能夠遮蔽以欲侵入掩模與基板之間的角度向基板入射的蒸鍍粒子。

限制板4能夠通過(guò)分別設(shè)置在長(zhǎng)尺寸水平件20上的滑動(dòng)引導(dǎo)部件水平移動(dòng)從而自由地接近或遠(yuǎn)離，從而能夠固定在所希望的位置。限制板4具有與長(zhǎng)尺寸水平件20大致相同的長(zhǎng)度，通過(guò)調(diào)整一對(duì)限制板4彼此之間的間隔，能夠容易地進(jìn)行入射角的調(diào)整。

在圖3和圖4中示出了通過(guò)可動(dòng)部件15的打開(kāi)轉(zhuǎn)動(dòng)使蒸發(fā)源2在其長(zhǎng)度方向全長(zhǎng)上露出的狀態(tài)。圖3是從蒸發(fā)源2的長(zhǎng)度方向觀(guān)察的圖，圖4是從蒸發(fā)源2的短邊方向觀(guān)察的圖。這樣，通過(guò)使蒸發(fā)源2在長(zhǎng)度方向全長(zhǎng)上露出，能夠容易地進(jìn)行將蒸發(fā)源2的上蓋卸下等的作業(yè)。即，通過(guò)設(shè)置開(kāi)閉部6，設(shè)置在蒸發(fā)源2的周?chē)牟考牟鹦逗凸潭ㄗ鳂I(yè)變得不需要，因此能夠提高維護(hù)的作業(yè)性。并且，在圖中，位于長(zhǎng)度方向的側(cè)面?zhèn)鹊囊粚?duì)可動(dòng)部件15構(gòu)成為能夠開(kāi)閉，但是，只要能夠進(jìn)行維護(hù)作業(yè)， 也可以?xún)H在長(zhǎng)度方向的側(cè)面?zhèn)鹊囊环皆O(shè)置可動(dòng)部件15，并將另一方設(shè)置成固定部件。

特別是，關(guān)于限制板4，用于限制成膜材料的蒸鍍粒子朝向基板1入射的角度的位置很重要，因此，一旦卸下限制板4，重現(xiàn)卸下之前的狀態(tài)需要相當(dāng)?shù)臅r(shí)間?？墒牵捎诒景l(fā)明的蒸鍍裝置具有維護(hù)用的開(kāi)閉部6，因此，通過(guò)將在蒸鍍時(shí)閉合的狀態(tài)的可動(dòng)部件15在維護(hù)時(shí)設(shè)置成打開(kāi)的狀態(tài)，能夠簡(jiǎn)單地進(jìn)行維護(hù)。這樣，在維護(hù)時(shí)也無(wú)需卸下限制板4，因此，能夠在維持著限制板4的位置的狀態(tài)下進(jìn)行維護(hù)，維護(hù)的作業(yè)性顯著提高。如果在維護(hù)完成后再次閉合可動(dòng)部件15，則能夠容易地恢復(fù)為可蒸鍍狀態(tài)。

接下來(lái)，基于圖1、2，對(duì)本實(shí)施例的蒸鍍裝置的其他具體結(jié)構(gòu)詳細(xì)地進(jìn)行說(shuō)明。

在本實(shí)施例中，能夠自由活動(dòng)地設(shè)置有擋板9，所述擋板9對(duì)包圍蒸發(fā)源2的遮蔽部5的開(kāi)口部10進(jìn)行開(kāi)閉。擋板9設(shè)置有一對(duì)，并且比可動(dòng)部件15稍長(zhǎng)，并且配置成能夠?qū)⒄诒尾?的開(kāi)口部10堵塞。具體來(lái)說(shuō)，各擋板9的兩端部分別經(jīng)由滑動(dòng)引導(dǎo)部件21設(shè)置在固定部件14上。并且，通過(guò)使各擋板9在該固定部件14上接近或遠(yuǎn)離地移動(dòng)，來(lái)開(kāi)閉所述開(kāi)口部10。

另外，擋板9構(gòu)成為具有：水平板部22，其堵塞遮蔽部5的開(kāi)口部10；和垂直板部23，其堵塞固定支承部件7的長(zhǎng)尺寸水平件20與可動(dòng)部件15之間的間隙。垂直板部23是在水平板部22的上表面上設(shè)置比水平板部22稍短的在剖視圖中為L(zhǎng)字狀的角材而形成的。

并且，在閉合擋板9的狀態(tài)下，以水平板部22的對(duì)置部重合的方式構(gòu)成各水平板部22等，在蒸鍍時(shí)打開(kāi)擋板9的狀態(tài)下，水平板部22構(gòu)成為將長(zhǎng)尺寸水平件20與可動(dòng)部件15之間的間隙(的大部分)堵塞(參照?qǐng)D1、2)。

具體來(lái)說(shuō)，關(guān)于遮蔽部5，構(gòu)成為：在固定部件14的內(nèi)側(cè)含有矩形狀的封閉用板體8，所述封閉用板體8的寬度比所述一對(duì)可動(dòng)部件15的對(duì)置間隔稍小，并且所述封閉用板體8的高度比固定部件14高。

關(guān)于該封閉用板體8，構(gòu)成為：在設(shè)置成使該擋板9和可動(dòng)部件15閉合的狀態(tài)時(shí)，分別設(shè)置在擋板9的長(zhǎng)度方向兩端部和寬度方向外側(cè)端部的折返部25、26、和設(shè)置在閉塞板16的兩端部的折返部27重合，其中，所述閉塞板16設(shè)置于可動(dòng)部件15的內(nèi)表面?zhèn)?。因此，由上述的擋?堵塞的遮蔽部5的開(kāi)口部10具體來(lái)說(shuō)是由封閉用板體8和可動(dòng)部件15包圍的空間的開(kāi)口部10。

另外，在本實(shí)施例中，構(gòu)成為，可動(dòng)部件15的閉塞板16的折返部27與封閉用板體8的外側(cè)重合，擋板9的折返部25、26與該閉塞板16的外側(cè)重合。因此，可靠地防止了成膜材料從蒸發(fā)源2的長(zhǎng)度方向兩端部側(cè)漏出，能夠在將所述成膜材料良好地封入所述空間中的狀態(tài)下進(jìn)行對(duì)蒸發(fā)源2蒸鍍之前的適應(yīng)性運(yùn)轉(zhuǎn)等。

如上，根據(jù)本實(shí)施例，能夠如圖1、2所圖示的那樣在蒸鍍時(shí)打開(kāi)擋板9從而敞開(kāi)遮蔽部5的開(kāi)口部10，并在利用限制板4限制了入射角的狀態(tài)下進(jìn)行蒸鍍。

另外，在維護(hù)蒸發(fā)源2等時(shí)，如圖3、4所圖示的那樣將擋板9打開(kāi)至不與可動(dòng)部件15和閉塞板16發(fā)生干涉的位置，并使可動(dòng)部件15向外側(cè)進(jìn)行打開(kāi)轉(zhuǎn)動(dòng)，從而使蒸發(fā)源2在其全長(zhǎng)上從由固定支承部件7的腿部18和長(zhǎng)尺寸水平件20包圍的空間露出。在該狀態(tài)下，能夠?qū)⒄舭l(fā)源2的上蓋卸下并從遮蔽部5取出蒸發(fā)源2，進(jìn)行清掃或成膜材料的補(bǔ)充，能夠縮短維護(hù)時(shí)間。另外，不限于對(duì)蒸發(fā)源2的維護(hù)，在進(jìn)行固定部件14、可動(dòng)部件15、擋板9等其他部件的清掃時(shí)，也無(wú)需接觸設(shè)置于固定支承部件7上的限制板4，從而能夠在維護(hù)的前后對(duì)一次設(shè)定的入射角進(jìn)行維持。另外，通過(guò)調(diào)整限制板4的背離程度，也能夠容易地進(jìn)行入射角的微調(diào)。

另外，本實(shí)施例的蒸發(fā)源支承體3具備滑動(dòng)件。具體來(lái)說(shuō)，在蒸鍍室的底面上，設(shè)置有在第一方向上延伸的軌道31，并且設(shè)置有相對(duì)于該軌道31能夠往復(fù)滑動(dòng)移動(dòng)的框狀的第一方向移動(dòng)用滑動(dòng)件32。并且，在該第一方向移動(dòng)用滑動(dòng)件32的上表面設(shè)有在第二移動(dòng)方向上延伸的軌道33，在蒸發(fā)源支承體3的下部，設(shè)有相對(duì)于該軌道33能夠往復(fù)滑動(dòng)移動(dòng)的第二方向移動(dòng)用滑動(dòng)件35。在該蒸發(fā)源支承體3的底面，連結(jié)有用于使蒸發(fā)源支承體3移動(dòng)的臂部件34，驅(qū)動(dòng)該臂部件34能夠使蒸發(fā)源支承體3(蒸發(fā)源2)在第一方向或者第二方向上移動(dòng)。

因此，可以在例如第一方向上并排設(shè)置2個(gè)蒸鍍區(qū)域，使一個(gè)蒸發(fā)源2在一個(gè)蒸鍍區(qū)域中沿著成膜移動(dòng)方向(第二方向)往復(fù)移動(dòng)進(jìn)行成膜后，在蒸鍍區(qū)域移動(dòng)方向(第一方向)上移動(dòng)，從而在另一個(gè)蒸鍍區(qū)域中同樣地進(jìn)行成膜等。在本實(shí)施例的情況下，構(gòu)成為：在一個(gè)蒸鍍區(qū)域中進(jìn)行成膜時(shí)，使蒸發(fā)源2在與蒸發(fā)源2的長(zhǎng)度方向交叉的方向上移動(dòng)來(lái)進(jìn)行成膜。

并且，本發(fā)明并不限于本實(shí)施例，各結(jié)構(gòu)要素的具體結(jié)構(gòu)都能夠適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)。