光敏組合物、其制備方法、量子點聚合物復合物、濾色器和顯示器件與流程
本申請要求2015年8月21日在韓國知識產權局提交的韓國專利申請No.10-2015-0118208的優(yōu)先權以及由其產生的所有權益，將其內容完全引入本文作為參考。
技術領域
公開了光敏組合物、其制備方法、由其制備的量子點-聚合物復合物、和包括其的電子器件。
背景技術：
通過膠體合成，可相對自由和均勻地控制量子點(QD)的粒度。具有小于或等于約10納米的尺寸的QD隨著它們的尺寸降低和由此它們的帶隙增加而可呈現(xiàn)出更顯著的量子限制效應。在此情況下，可提高QD的能量密度。
QD以QD-聚合物復合物形式可應用于多種顯示器件(例如，LCD)。
對于QD-聚合物復合物在多種器件中的應用，仍然存在開發(fā)用于將量子點-聚合物復合物圖案化的技術的需要。
技術實現(xiàn)要素：
一種實施方法涉及光敏組合物，其能夠制備量子點-聚合物復合物的圖案或者能圖案化的量子點-聚合物復合物。
另一實施方式涉及前述光敏組合物的制造方法。
另一實施方式涉及由前述光敏組合物制備的量子點-聚合物復合物。
又一實施方式提供包括所述量子點-聚合物復合物的濾色器。
又一實施方式提供包括所述量子點-聚合物復合物的顯示器件。
在一種實施方式中，光敏組合物包括：
量子點(例如多個量子點)；
包含羧酸基團(-COOH)的聚合物；
具有至少兩個硫醇基團的反應性化合物；
具有碳-碳雙鍵的能光聚合的單體；和
光引發(fā)劑，
其中所述包含羧酸基團(-COOH)的聚合物包括包含如下的單體組合的共聚物：具有羧酸基團和碳-碳雙鍵的第一單體以及具有碳-碳雙鍵和疏水性部分并且不具有羧酸基團的第二單體。
在所述組合物中，多個量子點可被所述包含羧酸基團(-COOH)的聚合物分散。因此，所述光敏組合物包括量子點分散體，所述量子點分散體包括包含羧酸基團(-COOH)的聚合物和分散在所述包含羧酸基團的聚合物中的量子點。
所述量子點可包括結合至其表面的有機配體。
所述有機配體可具有疏水性部分。
在一些實施方式中，所述有機配體不包括能光聚合的官能團。
所述有機配體可包括RCOOH、RNH2、R2NH、R3N、RSH、R3PO、R3P、ROH、RCOOR'、RPO(OH)2、R2POOH(其中R和R'獨立地為C5-C24脂族烴基或者C6-C20芳族烴基)、聚合物型有機配體、或其組合。
所述量子點可包括II-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、IV族元素或化合物、I-III-VI族化合物、I-II-IV-VI族化合物、或其組合。
所述包含羧酸基團的聚合物可具有大于或等于約50毫克KOH/克且小于或等于約200毫克KOH/克的酸值。
所述包含羧酸基團的聚合物可具有約100毫克KOH/克-200毫克KOH/克的酸值。
所述共聚物可包括得自第一單體的第一重復單元和得自第二單體的第二重復單元，和
第一重復單元可包括由化學式1-1表示的重復單元、由化學式1-2表示的重復單元、或其組合：
化學式1-1
其中
R1為氫、C1-C3烷基、或-(CH2)n1-COOH(其中n1為0-2)，
R2為氫、C1-C3烷基、或-COOH，
L為單鍵、C1-C15二價脂族烴基、C6-C30二價芳族烴基、C6-C30二價脂環(huán)族烴基、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式1-2
其中
R1為氫、C1-C3烷基、或-(CH2)n1-COOH(其中n1為0-2)，
R2為氫或C1-C3烷基，
L為C1-C15亞烷基，其中至少一個亞甲基被-C(＝O)-、-O-、或-C(＝O)O-代替的C1-C15亞烷基，C6-C30二價芳族烴基，C6-C30二價脂環(huán)族烴基，或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，
n為1-3的整數(shù)，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
第二重復單元可包括由化學式2表示的重復單元、由化學式4表示的重復單元、由化學式5表示的重復單元、由化學式A表示的重復單元、或其組合：
化學式2
其中
R1為氫或C1-C3烷基，
R2為C1-C15脂族烴基、C6-C30芳族烴基、C6-C30脂環(huán)族烴基、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15脂族烴基，
R3為氫或C1-C3烷基，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式4
其中
R1為氫或C1-C3烷基，
L為C1-C15亞烷基，其中至少一個亞甲基被-C(＝O)-、-O-、或-C(＝O)O-代替的C1-C15亞烷基，C6-C30二價芳族烴基，C6-C30二價脂環(huán)族烴基，或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，
R2為C1-C15脂族烴基、C6-C30芳族烴基、C6-C30脂環(huán)族烴基、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15脂族烴基，
R3為氫或C1-C3烷基，
n為1-3的整數(shù)，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式5
其中
R1和R2各自獨立地為氫或C1-C3烷基，
Ar為取代或未取代的C6-C30芳族烴基或者取代或未取代的C6-C30脂環(huán)族烴基，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式A
其中
R1為氫或C1-C3烷基，
R2為C1-C15脂族烴基、C6-C30芳族烴基、C6-C30脂環(huán)族烴基、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15脂族烴基，
R3為氫或C1-C3烷基，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
所述單體組合可進一步包括具有碳-碳雙鍵和親水性部分并且不具有羧酸基團的第三單體。
所述共聚物可包括得自第三單體的第三重復單元，并且第三重復單元可由化學式3表示：
化學式3
其中
R1和R2各自獨立地為氫或C1-C3烷基，
L為C1-C15亞烷基，其中至少一個亞甲基被-C(＝O)-、-O-、或-C(＝O)O-代替的C1-C15亞烷基，C6-C30二價芳族烴基，C6-C30二價脂環(huán)族烴基，或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，
Z為羥基(-OH)、巰基(-SH)、或氨基(-NHR，其中R為氫或C1-C5烷基)和
*表示與相鄰原子連接的部分。
在所述共聚物中，第一重復單元的量可大于或等于約5摩爾％且小于或等于約95摩爾％。
所述包含羧酸基團的聚合物可為選自(甲基)丙烯酸的第一單體和選自(甲基)丙烯酸芳烷基酯、(甲基)丙烯酸羥烷基酯、和苯乙烯的至少一種第二單體和任選地第三單體的共聚物。
所述包含羧酸基團的聚合物的重均分子量可大于或等于約1,000克/摩爾且小于或等于約100,000克/摩爾。
所述反應性化合物可由化學式6表示：
化學式6
其中，
R1為氫、取代或未取代的C1-C30線型或支化的烷基、取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C7-C30芳烷基、取代或未取代的C3-C30雜芳基、取代或未取代的C4-C30雜芳烷基、取代或未取代的C3-C30環(huán)烷基、取代或未取代的C3-C30雜環(huán)烷基、C1-C10烷氧基、羥基、-NH2、取代或未取代的C1-C30胺基(-NRR'，其中R和R'獨立地為氫或C1-C30線型或支化的烷基)、異氰酸酯基團、鹵素、-ROR'(其中R為取代或未取代的C1-C20亞烷基且R'為氫或C1-C20線型或支化的烷基)、酰基鹵(-RC(＝O)X，其中R為取代或未取代的C1-C20亞烷基且X為鹵素)、-C(＝O)OR'(其中R'為氫或C1-C20線型或支化的烷基)、-CN、-C(＝O)ONRR'(其中R和R'獨立地為氫或C1-C20線型或支化的烷基)、或其組合，
L1為碳原子、取代或未取代的C1-C30亞烷基、取代或未取代的C6-C30亞環(huán)烷基、取代或未取代的C6-C30亞芳基、或者取代或未取代的C6-C30亞雜芳基，其中所述取代或未取代的C1-C30亞烷基的至少一個亞甲基(-CH2-)可被如下代替：磺?；?-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚(-O-)、硫醚(-S-)、亞砜(-S(＝O)-)、酯(-C(＝O)O-)、酰胺(-C(＝O)NR-)(其中R為氫或C1-C10烷基)、或其組合，
Y1為單鍵、取代或未取代的C1-C30亞烷基、取代或未取代的C2-C30亞烯基、或者其中至少一個亞甲基(-CH2-)被如下代替的C1-C30亞烷基或C2-C30亞烯基：磺?；?-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚(-O-)、硫醚(-S-)、亞砜(-S(＝O)-)、酯(-C(＝O)O-)、酰胺(-C(＝O)NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、亞胺(-NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、或其組合，
m為1或更大的整數(shù)，
k1為0或者為1或更大的整數(shù)，k2為1或更大的整數(shù)，和
m與k2之和為3或更大的整數(shù)，
條件是當Y1不是單鍵時，m不超過Y1的化合價，和
條件是k1與k2之和不超過L1的化合價。
所述反應性化合物可包括化學式6-1的化合物：
化學式6-1
其中
L1'為碳、取代或未取代的得自烷烴的C2-C20基團、取代或未取代的得自芳烴的C6-C30基團、取代或未取代的得自雜芳烴的C3-C30基團、取代或未取代的得自環(huán)烷烴的C3-C30基團、或者取代或未取代的得自雜環(huán)烷烴團的C3-C30基團，
Ya-Yd各自獨立地為單鍵、取代或未取代的C1-C30亞烷基、取代或未取代的C2-C30亞烯基、或者其中至少一個亞甲基(-CH2-)被如下代替的C1-C30亞烷基或C2-C30亞烯基：磺酰基(-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚(-O-)、硫醚(-S-)、亞砜(-S(＝O)-)、酯(-C(＝O)O-)、酰胺(-C(＝O)NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、亞胺(-NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、或其組合，和
Ra-Rd各自為化學式6的R1或SH，條件是Ra-Rd的至少兩個為SH。
所述反應性化合物可為乙氧基化季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三(2-巰基乙酸酯)、乙二醇二-3-巰基丙酸酯、聚丙二醇二(3-巰基丙酸酯)、乙氧基化三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、乙二醇二巰基乙酸酯、乙氧基化乙二醇二巰基乙酸酯、1,4-二(3-巰基丁酰氧基)丁烷、三[2-(3-巰基丙酰氧基)乙基]異氰脲酸酯、1,3,5-三(3-巰基丁氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮,季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(2-巰基乙酸酯)、1,6-己二硫醇、1,3-丙二硫醇、1,2-乙二硫醇、包括1-10個乙二醇重復單元的聚乙二醇二硫醇、或其組合。
所述包括碳-碳雙鍵的能光聚合的單體可包括二丙烯酸酯化合物、三丙烯酸酯化合物、四丙烯酸酯化合物、五丙烯酸酯化合物、六丙烯酸酯化合物、或其組合。
所述光敏組合物可為通過堿性水溶液能顯影的。
由所述光敏組合物制備的聚合物復合物在180℃下加熱30分鐘之后可顯示出為其初始值的大于或等于約30％(或者大于或等于約40％)的藍色光轉化率。
所述光敏組合物可進一步包括溶劑并且可包括：
約1重量％-約40重量％的所述量子點；
約0.5重量％-約35重量％的所述包含羧酸基團的聚合物；
約0.5重量％-約30重量％的所述能光聚合的單體；
約0.1重量％-約40重量％的所述反應性化合物；
約0.01重量％-約10重量％的所述光引發(fā)劑；和
平衡量(余量)的溶劑，基于所述組合物的總重量。
所述光敏組合物可進一步包括選自如下的光漫射劑：金屬氧化物顆粒、金屬顆粒、以及其組合。
所述光敏組合物可進一步包括用于所述光漫射劑的分散劑。
所述光敏組合物可進一步包括用于所述量子點的分散劑。
在另一實施方式中，前述光敏組合物的制造方法包括：
將包含羧酸基團(-COOH)的聚合物溶解在溶劑中以制備溶液；
將多個量子點(其可具有結合至其表面的有機配體)與所述溶液組合以獲得量子點分散體；和
將所述量子點分散體與如下組合：具有至少兩個硫醇基團的反應性化合物、具有碳-碳雙鍵的能光聚合的單體、光引發(fā)劑、和任選地溶劑。
在另一實施方式中，量子點-聚合物復合物包括：
包括如下的基質：包含羧酸基團(-COOH)的聚合物；以及具有碳-碳雙鍵的能光聚合的單體和具有至少兩個硫醇基團的反應性化合物的聚合產物；和
多個量子點，其可包括結合至其表面的有機配體；
其中所述包含COOH的聚合物包括包含具有羧酸基團和碳-碳雙鍵的第一單體以及具有碳-碳雙鍵和疏水性部分并且不具有羧酸基團的第二單體的單體組合的共聚物；和
所述多個量子點在所述基質中分散(例如，彼此分離)(例如，而沒有附聚)。
所述共聚物可為線型聚合物。所述能光聚合的單體可包括具有至少三個(甲基)丙烯酸酯基團的單體并且所述聚合產物可包括交聯(lián)聚合物。
所述有機配體可包括疏水性部分并且其可包括RCOOH、RNH2、R2NH、R3N、RSH、R3PO、R3P、ROH、RCOOR'、RPO(OH)2、R2POOH(其中R和R'獨立地為C5-C24脂族烴基或C6-C20芳族烴基)、聚合物型有機配體、或其組合。
所述包含羧酸基團的聚合物可具有大于約60毫克KOH/克且小于或等于約200毫克KOH/克的酸值。
在所述光敏組合物中，所述共聚物可包括得自第一單體的第一重復單元和得自第二單體的第二重復單元，和
第一重復單元可包括由化學式1-1表示的重復單元、由化學式1-2表示的重復單元、或其組合：
化學式1-1
其中
R1為氫、C1-C3烷基、或者-(CH2)n1-COOH(其中n1為0-2)，
R2為氫、C1-C3烷基、或者-COOH，
L為單鍵、C1-C15二價脂族烴基、C6-C30二價芳族烴基、C6-C30二價脂環(huán)族烴基、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式1-2
其中
R1為氫、C1-C3烷基、或者-(CH2)n1-COOH(其中n1為0-2)，
R2為氫或C1-C3烷基，
L為C1-C15亞烷基，其中至少一個亞甲基被-C(＝O)-、-O-、或者-C(＝O)O-代替的C1-C15亞烷基，C6-C30二價芳族烴基，C6-C30二價脂環(huán)族烴基，或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，
n為1-3的整數(shù)，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
第二重復單元可包括由化學式2表示的重復單元、由化學式4表示的重復單元、由化學式5表示的重復單元、由化學式A表示的重復單元、或其組合：
化學式2
其中
R1為氫或C1-C3烷基，
R2為C1-C15脂族烴基、C6-C30芳族烴基、C6-C30脂環(huán)族烴基、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15脂族烴基，
R3為氫或C1-C3烷基，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式4
其中
R1為氫或C1-C3烷基，
L為亞烷基，其中至少一個亞甲基被-C(＝O)-、-O-、或者-C(＝O)O-代替的C1-C15亞烷基，C6-C30二價芳族烴基，C6-C30二價脂環(huán)族烴基，或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，
R2為C1-C15脂族烴基、C6-C30芳族烴基、C6-C30脂環(huán)族烴基、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15脂族烴基，
R3為氫或C1-C3烷基，
n為1-3的整數(shù)，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式5
其中
R1和R2各自獨立地為氫或C1-C3烷基，
Ar為取代或未取代的C6-C30芳族烴基或者取代或未取代的C6-C30脂環(huán)族烴基，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式A
其中
R1為氫或C1-C3烷基，
R2為C1-C15脂族烴基、C6-C30芳族烴基、C6-C30脂環(huán)族烴基、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15脂族烴基，
R3為氫或C1-C3烷基，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
所述單體組合可進一步包括具有碳-碳雙鍵和親水性部分并且不具有羧酸基團的第三單體。
所述共聚物可包括得自第三單體的第三重復單元，并且第三重復單元可由化學式3表示：
化學式3
其中
R1和R2各自獨立地為氫或C1-C3烷基；L為C1-C15亞烷基，其中至少一個亞甲基被-C(＝O)-、-O-、或者-C(＝O)O-代替的C1-C15亞烷基，C6-C30二價芳族烴基，C6-C30二價脂環(huán)族烴基，或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，
Z為羥基(-OH)、巰基(-SH)、或氨基(-NHR，其中R為氫或C1-C5烷基)，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
在所述包含羧酸基團的聚合物中，第一重復單元的量可大于或等于約5摩爾％且小于或等于約95摩爾％。
所述反應性化合物可由化學式6表示：
化學式6
其中
R1為氫、取代或未取代的C1-C30線型或支化的烷基、取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C7-C30芳烷基、取代或未取代的C3-C30雜芳基、取代或未取代的C4-C30雜芳烷基、取代或未取代的C3-C30環(huán)烷基、取代或未取代的C3-C30雜環(huán)烷基、C1-C10烷氧基、羥基、-NH2、取代或未取代的C1-C30胺基(-NRR'，其中R和R'獨立地為氫或C1-C30線型或支化的烷基)、異氰酸酯基團、鹵素、-ROR'(其中R為取代或未取代的C1-C20亞烷基，并且R'為氫或C1-C20線型或支化的烷基)、?；u(-RC(＝O)X，其中R為取代或未取代的C1-C20亞烷基且X為鹵素)、-C(＝O)OR'(其中R'為氫或C1-C20線型或支化的烷基)、-CN、-C(＝O)ONRR'(其中R和R'獨立地為氫或C1-C20線型或支化的烷基)、或其組合，
L1為碳原子、取代或未取代的C1-C30亞烷基、取代或未取代的C6-C30亞環(huán)烷基、取代或未取代的C6-C30亞芳基、或者取代或未取代的C6-C30亞雜芳基，其中所述取代或未取代的C1-C30亞烷基的至少一個亞甲基(-CH2-)可被如下代替：磺?；?-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚(-O-)、硫醚(-S-)、亞砜(-S(＝O)-)、酯(-C(＝O)O-)、酰胺(-C(＝O)NR-)(其中R為氫或C1-C10烷基)、或其組合，
Y1為單鍵、取代或未取代的C1-C30亞烷基、取代或未取代的C2-C30亞烯基、或者其中至少一個亞甲基(-CH2-)被如下代替的C1-C30亞烷基或C2-C30亞烯基：磺?；?-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚(-O-)、硫醚(-S-)、亞砜(-S(＝O)-)、酯(-C(＝O)O-)、酰胺(-C(＝O)NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、亞胺(-NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、或其組合，
m為1或更大的整數(shù)，
k1為0或者為1或更大的整數(shù)，k2為1或更大的整數(shù)，和
m與k2之和為3或更大的整數(shù)，
條件是當Y1不是單鍵時，m不超過Y1的化合價，和
條件是k1與k2之和不超過L1的化合價。
所述反應性化合物可包括化學式6-1的化合物：
化學式6-1
其中，
L1'為碳、取代或未取代的得自烷烴的C2-C20基團、取代或未取代的得自芳烴的C6-C30基團、取代或未取代的得自雜芳烴的C3-C30基團、取代或未取代的得自環(huán)烷烴的C3-C30基團、或者取代或未取代的得自雜環(huán)烷烴團的C3-C30基團，
Ya-Yd各自獨立地為單鍵、取代或未取代的C1-C30亞烷基、取代或未取代的C2-C30亞烯基、或者其中至少一個亞甲基(-CH2-)被如下代替的C1-C30亞烷基或C2-C30亞烯基：磺酰基(-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚(-O-)、硫醚(-S-)、亞砜(-S(＝O)-)、酯(-C(＝O)O-)、酰胺(-C(＝O)NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、亞胺(-NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、或其組合，和
Ra-Rd各自為化學式6的R1或SH，條件是Ra-Rd的至少兩個為SH。
所述量子點-聚合物復合物可為圖案。
另一實施方式提供包括前述量子點-聚合物復合物的濾色器。
又一實施方式提供包括所述量子點-聚合物復合物的顯示器件。
前述光敏組合物可以環(huán)境友好的方式制備量子點–聚合物復合物圖案。實施方式的光敏組合物可在沒有對于量子點的任何另外的表面處理的情況下應用于常規(guī)的光刻膠工藝。由此制備的圖案即使在光刻膠工藝期間實施的熱處理下也可顯示出增強的穩(wěn)定性。
附圖說明
由結合附圖考慮的實施方式的以下描述，這些和/或其它方面將變得明晰和更容易領會，其中：
圖1為顯示根據(jù)實施方式的圖案形成工藝以解釋關鍵的尺寸均勻性的圖像；
圖2為顯示實施例1中制備的量子點-粘合劑分散體的照片圖像；
圖3為實施例1中制備的量子點-聚合物復合物圖案的光學顯微鏡照片；
圖4為顯示實施例1中制備的圖案中分散的量子點的電子顯微鏡圖像；
圖5為顯示將關于分別在實施例1-4和對比例3中制備的量子點-聚合物復合物圖案的藍色光轉化率(百分比，％)對熱處理次數(shù)(即，工藝(過程)保持率)作圖的圖的圖像；
圖6為顯示對比例2中制備的量子點組合物的混合物的照片圖像；
圖7為顯示對比例3中制備的量子點-粘合劑分散體的照片圖像；
圖8為顯示對比例3中制備的量子點-聚合物復合物圖案的光學顯微鏡照片；
圖9為顯示將實施例5中的藍色光轉化率(百分比，％)對熱處理次數(shù)(即，工藝保持率)作圖的圖的圖像；
圖10為顯示將實施例6中的藍色光轉化率(百分比，％)對熱處理次數(shù)(即，工藝保持率)作圖的圖的圖像；
圖11為顯示實施例1中制備的圖案的橫截面圖的圖像；
圖12為顯示相對于在PrB之后的膜的光轉化率(百分比，％)對熱處理次數(shù)的圖的圖像，其說明硫醇基團的數(shù)量對量子點-聚合物復合物圖案的影響；
圖13為根據(jù)非限制性實施方式的顯示器件的橫截面的示意圖；和
圖14為根據(jù)非限制性實施方式的顯示器件的橫截面的示意圖。
具體實施方式
參照以下示例性實施方式以及附于此的附圖，本公開內容的優(yōu)點和特性、以及用于實現(xiàn)其的方法將變得明顯。然而，實施方式可以許多不同的形式體現(xiàn)并且不應被解釋為限于本文中闡述的實施方式。因此，以下僅通過參照附圖描述示例性實施方式以解釋本發(fā)明構思的各方面。表述例如“的至少一種(個)”當在要素列表之前或之后時修飾整個要素列表而不修飾列表的單獨要素。如果未另外定義，說明書中的所有術語(包括技術和科學術語)可如本領域技術人員通常理解的那樣定義。常用字典中定義的術語應被解釋為具有與它們在相關領域的背景和本公開內容中的含義一致的含義，并且不可以理想方式或者過寬地解釋，除非清楚地定義。此外，除非明確地相反描述，措辭“包括”和措辭“包含”當用于本說明書中時表明存在所陳述的特征、區(qū)域、整體、步驟、操作、要素、和/或組分，但是不排除存在或添加一個或多個其它特征、區(qū)域、整體、步驟、操作、要素、組分、和/或其集合。因此，以上措辭將被理解為意味著包括所陳述的要素，但不排除任何其它要素。
將理解，盡管術語第一、第二、第三等可在本文中用于描述各種元件、組分、區(qū)域、層和/或部分，但這些元件、組分、區(qū)域、層和/或部分不應受這些術語限制。這些術語僅用于將一個元件、組分、區(qū)域、層或部分區(qū)別于另外的元件、組分、區(qū)域、層或部分。因而，在不背離本實施方式的教導的情況下，下面討論的第一元件、組分、區(qū)域、層或部分可稱為第二元件、組分、區(qū)域、層或部分。
本文中使用的術語僅用于描述具體實施方式的目的且不意圖為限制性的。如本文中使用的，單數(shù)形式“一個(種)(a，an)”和“所述(該)(the)”也意圖包括復數(shù)形式，除非上下文清楚地另外指明。
為了便于描述，在本文中可使用空間相對術語例如“在……之下”、“在……下面”、“下部”、“在……上方”、“上部”等來描述如圖中所示的一個元件或特征與另外的元件或特征的關系。將理解，除圖中所描繪的方位之外，空間相對術語還意圖包括在使用或操作中的器件的不同方位。例如，如果將圖中的器件翻轉，被描述為“在”另外的元件或特征“下面”或“之下”的元件則將被定向“在”所述另外的元件或特征“上方”。因此，示例性術語“在……下面”可包括在……上方和在……下面兩種方位。器件可以其它方式定向(旋轉90度或在其它方位上)，并且本文中所使用的空間相對描述詞相應地進行解釋。
如本文中使用的“約”或“大約”包括所陳述的值且意味著在如由本領域普通技術人員考慮到所討論的測量和與具體量的測量有關的誤差(即，測量系統(tǒng)的限制)而確定的對于具體值的可接受的偏差范圍內。例如，“約”可意味著相對于所陳述的值的偏差在一種或多種標準偏差范圍內，或者在±10％、5％范圍內。
在本文中參照作為理想化實施方式的示意圖的橫截面圖描述示例性實施方式。這樣，將預計到作為例如制造技術和/或公差的結果的與圖的形狀的偏差。因而，本文中描述的實施方式不應被解釋為限于本文中所圖示的區(qū)域的具體形狀，而是包括由例如制造所導致的形狀方面的偏差。例如，被圖示或者描述為平坦的區(qū)域可典型地具有粗糙的和/或非線性的特征。此外，所圖示的尖銳的角可為圓形的。因而，圖中所示的區(qū)域在本質上是示意性的，并且它們的形狀不意圖圖示區(qū)域的精確形狀并且不意圖限制本權利要求的范圍。
進一步地，單數(shù)包括復數(shù)，除非另有提及。
在附圖中，為了清楚，放大層、膜、面板、區(qū)域等的厚度。在整個說明書中，相同的附圖標記始終表示相同的元件。
將理解當一個元件例如層、膜、區(qū)域或基板被稱為“在”另外的元件“上”時，其可直接在所述另外的元件上或者可在其間存在中間元件。相反，當一個元件被稱為“直接在”另外的元件“上”時，則不存在中間元件。
如本文中使用的，術語“烷基”指的是具有規(guī)定碳原子數(shù)并且具有一的化合價的得自直鏈或支鏈飽和脂族烴的基團。
如本文中使用的，術語“烷氧基”指的是“烷基-O-”，其中術語“烷基”具有與以上描述的相同含義。
如本文中使用的，術語“烯基”可指具有至少一個碳-碳雙鍵的直鏈或支鏈的單價烴基。
如本文中使用的，術語“炔基”指的是具有至少一個碳-碳三鍵的直鏈或支鏈的單價烴基。
如本文中使用的，術語“環(huán)烷基”指的是具有其中所有環(huán)成員均為碳的一個或多個飽和環(huán)的單價基團。
如本文中使用的，術語“芳基”(其單獨或組合使用)指的是包含至少一個環(huán)且具有規(guī)定碳原子數(shù)的芳族烴基。術語“芳基”可解釋為包括具有與至少一個環(huán)烷基環(huán)稠合的芳族環(huán)的基團。
如本文中使用的，術語“雜芳基”指的是包括碳和1-3個選自N、O、S和P的雜原子作為環(huán)原子的芳基。
如本文中使用的，術語“芳烷基”指的是這樣的取代或未取代的芳基：其共價連接至與化合物連接的烷基。
如本文中使用的，術語“雜芳烷基”指的是這樣的取代或未取代的雜芳基：其共價連接至與化合物連接的烷基。
如本文中使用的，當未另外提供定義時，術語“取代(的)”指的是其中其氫原子的至少一個被選自如下的取代基代替的化合物或基團或部分：C1-C30烷基、C2-C30炔基、C6-C30芳基、C7-C30烷芳基、C1-C30烷氧基、C1-C30雜烷基、C3-C30雜烷芳基、C3-C30環(huán)烷基、C3-C15環(huán)烯基、C6-C30環(huán)炔基、C2-C30雜環(huán)烷基、鹵素(-F、-Cl、-Br、或-I)、羥基(-OH)、硝基(-NO2)、氰基(-CN)、氨基(-NRR'，其中R和R'獨立地為氫或C1-C6烷基)、疊氮基(-N3)、脒基(-C(＝NH)NH2)、肼基(-NHNH2)、腙基(＝N(NH2)、醛基(-C(＝O)H)、氨基甲酰基(-C(O)NH2)、硫醇基團(-SH)、酯基團(-C(＝O)OR，其中R為C1-C6烷基或者C6-C12芳基)、羧酸基團(-COOH)或其鹽(-C(＝O)OM，其中M為有機或無機陽離子)、磺酸基團(-SO3H)或其鹽(-SO3M，其中M為有機或無機陽離子)、磷酸基團(-PO3H2)或其鹽(-PO3MH或-PO3M2，其中M為有機或無機陽離子)、以及其組合。
當包含規(guī)定碳原子數(shù)的基團被前一段中所列出的任何基團取代時，所得“取代的”基團中的碳原子數(shù)定義為原始(未取代的)基團中含有的碳原子和取代基中含有的碳原子(如果有的話)之和。例如，當術語“取代的C1-C20烷基”指的是被C6-C20芳基取代的C1-C20烷基時，所得芳基取代的烷基中的碳原子總數(shù)為C7-C40。
如本文中使用的，術語“單價有機官能團”指的是C1-C30烷基、C2-C30炔基、C6-C30芳基、C7-C30烷芳基、C1-C30烷氧基、C1-C30雜烷基、C3-C30雜烷芳基、C3-C30環(huán)烷基、C3-C15環(huán)烯基、C6-C30環(huán)炔基、或者C2-C30雜環(huán)烷基。
如本文中使用的，當未另外提供定義時，術語“雜”指的是包括1-3個選自N、O、S、Si、和P的雜原子。
如本文中使用的，術語“亞烷基”指的是具有至少2的化合價的直鏈或支化的飽和脂族烴基，其任選地被1個或多個取代基取代。術語“亞芳基”指的是通過除去芳族環(huán)中的至少兩個氫而獲得的具有至少2的化合價的官能團，其任選地被1個或多個取代基取代。
如本文中使用的，術語“亞烯基”指的是如下的直鏈或支化的脂族烴基：其具有至少2的化合價、具有至少一個碳-碳雙鍵，任選地在所示之處被1個或多個取代基取代，條件是不超過亞烯基的化合價。
如本文中使用的，術語“亞環(huán)烷基”指的是如下的環(huán)狀烴基：其具有至少2的化合價，任選地在所示之處被1個或多個取代基取代，條件是不超過亞環(huán)烷基的化合價。
如本文中使用的，術語“亞芳基”指的是通過除去芳族環(huán)中的至少兩個氫而獲得的具有至少2的化合價的官能團，其任選地在所示之處被1個或多個取代基取代，條件是不超過亞芳基的化合價。
如本文中使用的，術語“亞雜芳基”指的是通過除去芳族環(huán)中的至少兩個氫而獲得的具有至少2的化合價的官能團，其含有1-3個選自N、O、S、Si、和P的雜原子作為成環(huán)元素，任選地在所示之處被1個或多個取代基取代，條件是不超過亞雜芳基的化合價。
如本文中使用的，術語“脂族有機基團”指的是C1-C30線型或支化的烷基、C2-C20線型或支化的烯基或C2-C30線型或支化的炔基，術語“芳族有機基團”指的是C6-C30芳基或C2-C30雜芳基，和術語“脂環(huán)族有機基團”指的是C3-C30環(huán)烷基、C3-C30環(huán)烯基、和C3-C30環(huán)炔基。
如本文中使用的，術語“(甲基)丙烯酸酯”指的是丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。
如本文中使用的，術語“疏水性部分”指的是這樣的部分：其導致包括其的所給化合物在水溶液中顯示出附聚并且具有排斥水的趨勢。例如，所述疏水性部分可包括具有大于或等于2的碳數(shù)的脂族烴基(烷基、烯基、炔基等)、具有大于或等于6的碳數(shù)的芳族烴基(苯基、萘基、芳烷基等)、或者具有大于或等于5的碳數(shù)的脂環(huán)族烴基(環(huán)己基、降冰片烯等)。所述疏水性部分基本上(實質上)缺乏與周圍介質產生氫鍵的能力并且基本上不與所述介質混合，因為其極性與所述介質的極性不匹配。
如本文中使用的，術語“族”是指周期表的族。
如本文中使用的，“II族”是指IIA族和IIB族，且II族的實例可為Cd、Zn、Hg和Mg，但不限于此。
如本文中使用的，“III族”是指IIIA族和IIIB族，且III族的實例可為Al、In、Ga和Tl，但不限于此。
如本文中使用的，“IV族”是指IVA族和IVB族，且IV族的實例可為Si、Ge和Sn，但不限于此。如本文中使用的，術語“金屬”可包括半金屬例如Si。
如本文中使用的，“I族”是指IA族和IB族，且實例可包括Li、Na、K、Ru和Cs，但不限于此。
如本文中使用的，“V族”是指VA族，且實例可包括N、P、As、Sb和Bi，但不限于此。
如本文中使用的，“VI族”是指VIA族，且實例可包括S、Se和Te，但不限于此。
如本文中使用的，術語“可見光”指的是具有約390納米(nm)-約700nm的波長的光。如本文中使用的，術語“UV光”指的是具有大于或等于約200nm且小于約390nm的波長的光。
如本文中使用的，術語“藍色光轉化率”指的是發(fā)射的光相對于入射光的比率。在一些實施方式中，藍色光轉化率可為量子點聚合物復合物的發(fā)射的光的量對其從激發(fā)光(例如藍色光)的吸收的光的量的比率。激發(fā)光的總量(例如藍色光的總量，B)可通過對激發(fā)光的光致發(fā)光光譜進行積分而得到。得到量子點聚合物復合物的PL光譜，且從由此得到的PL光譜，分別測量藍光的量(B’)和從量子點聚合物復合物發(fā)射的且具有綠色和/或紅色波長范圍的光的量(A)。然后，光轉化率通過以下方程計算：
A/(B-B’)×100＝光轉化率(％)。
如本文中使用的，術語“分散體”指的是其中分散相為固體且連續(xù)相包括液體的分散體。例如，術語“分散體”可指其中分散相具有約1nm-約1微米(μm)的尺寸的膠體分散體。
下文中，術語“粘合劑”或“包含羧酸基團的粘合劑”指的是“包含羧酸基團的聚合物”。
在一種實施方式中，光敏組合物包括:
多個量子點(其可具有在其表面上的有機配體)；
包含包含羧酸基團(-COOH)的聚合物
具有至少兩個硫醇基團的反應性化合物；
具有碳-碳雙鍵的能光聚合的單體；和
光引發(fā)劑。所述包含羧酸基團(-COOH)的聚合物包括包含如下的單體組合的共聚物：具有羧酸基團和碳-碳雙鍵的第一單體以及具有碳-碳雙鍵和疏水性部分并且不具有羧酸基團的第二單體。
所述多個量子點可通過所述包含羧酸基團(-COOH)的聚合物被分散(例如彼此分離)以形成量子點分散體。所述量子點分散體包括所述包含羧酸基團(-COOH)的聚合物和分散在所述包含羧酸基團(-COOH)的聚合物中的所述多個量子點。所述量子點分散體可進一步包括溶劑。
所述量子點(下文中也稱作半導體納米晶體)沒有特別限制，并且可以任何已知的方法制備或者是可商購獲得的。例如，所述量子點可為II-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、IV族元素(單質)或化合物、I-III-VI族化合物、I-II-IV-VI族化合物、或其組合。
所述II-VI族化合物可選自：
選自如下的二元化合物：CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe、MgS、以及其組合；
選自如下的三元化合物：CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、MgZnSe、MgZnS、以及其組合；和
選自如下的四元化合物：HgZnTeS、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe、以及其組合。
所述II-VI族化合物可進一步包括III族金屬。
所述III-V族化合物可選自：
選自如下的二元化合物：GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、以及其組合；
選自如下的三元化合物：GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、InZnP、以及其組合；和
選自如下的四元化合物：GaAlNP、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、以及其組合。
所述III-V族化合物可進一步包括II族金屬(例如InZnP)。
所述IV-VI族化合物可選自：
選自如下的二元化合物：SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、以及其組合；
選自如下的三元化合物：SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、以及其組合；和
選自如下的四元化合物：SnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe、以及其組合。
所述I-III-VI族化合物的實例可包括CuInSe2、CuInS2、CuInGaSe、和CuInGaS，但是不限于此。
所述I-II-IV-VI族化合物的實例可包括CuZnSnSe和CuZnSnS，但是不限于此。
所述IV族元素或化合物可包括：
選自如下的單一元素：Si、Ge、以及其組合；和
選自如下的二元化合物：SiC、SiGe、以及其組合。
所述二元化合物、所述三元化合物或所述四元化合物可分別以均勻的濃度包括在所述顆粒中或者以部分地(局部地)不同的濃度包括在相同顆粒中。半導體納米晶體顆?？删哂衅渲械谝话雽w納米晶體被不同于第一半導體納米晶體的第二半導體納米晶體包圍的芯-殼結構。所述芯和所述殼之間的界面可具有其中所述殼的元素的濃度朝著所述芯降低的濃度梯度。此外，所述半導體納米晶體顆粒可具有半導體納米晶體芯和包圍所述半導體納米晶體芯的多層殼。所述芯和多層殼結構具有至少兩個殼層，其中各層可為單一組成、合金、或者具有濃度梯度的。
在所述半導體納米晶體顆粒中，所述殼的材料可具有比所述芯的材料大的能帶隙，并且由此所述半導體納米晶體可更有效地呈現(xiàn)量子限制效應。在多層殼型半導體納米晶體顆粒的情況中，所述殼的外層的材料的帶隙可為比所述殼的內層(更接近所述芯的層)的材料的帶隙高的能量。在此情況下，所述半導體納米晶體顆粒可發(fā)射UV到紅外波長范圍的光。
所述半導體納米晶體可具有大于或等于約10％、或者大于或等于約30％例如大于或等于約50％、大于或等于約60％、大于或等于約70％、或者大于或等于約90％的量子產率。
為了用于顯示器件中，所述半導體納米晶體可具有較窄的FWHM以實現(xiàn)增強的色純度或顏色再現(xiàn)性。所述半導體納米晶體可具有小于或等于約45nm、例如小于或等于約40nm、或小于或等于約30nm的FWHM。雖然不希望受理論制約，但是理解，在這樣的范圍內，包括所述納米晶體的器件可具有增強的色純度或改善的顏色再現(xiàn)性。
所述量子點(即，半導體納米晶體顆粒)可具有約1nm-約100nm的粒徑(對于非球形顆粒而言的最長直徑)。例如，所述量子點可具有約1nm-約20nm、例如2nm(或者3nm)到15nm的粒徑(對于非球形顆粒而言的最長直徑)。
所述量子點可具有本領域中的常用形狀，并且沒有特別限制。例如，所述量子點可包括球形的、棱錐形的、多臂的、或立方的納米顆粒，納米管，納米線，納米纖維，納米板顆粒，其組合等。
所述量子點是可商購獲得的或者可以任何方法合成。例如，幾納米尺寸的量子點可根據(jù)濕法化學工藝合成。在所述濕法化學工藝中，前體在有機溶劑中反應以生長納米晶體顆粒，并且所述有機溶劑或配體化合物可配位(或結合)至所述半導體納米晶體的表面，從而控制所述納米晶體的生長。所述有機溶劑和配體化合物的實例是已知的。配位至所述量子點的表面的有機溶劑可影響器件的穩(wěn)定性，并且因此未配位至所述量子點的表面的過量的有機材料可通過如下除去：將所述量子點倒入過量的非溶劑中，并且將所得混合物離心。所述非溶劑的實例可為丙酮、乙醇、甲醇等，但是不限于此。在將多余的有機材料除去之后，配位至所述量子點的表面的有機材料的量可小于或等于約50重量％、例如小于或等于約30重量％、小于或等于約20重量％、或者小于或等于約10重量％，基于所述量子點的總重量。所述有機材料可包括配體化合物、有機溶劑、或其組合。
所述量子點可具有鍵合至所述量子點表面的具有疏水性部分的有機配體。在實施方式中，所述具有疏水性部分的有機配體可包括RCOOH、RNH2、R2NH、R3N、RSH、R3PO、R3P、ROH、RCOOR'、RPO(OH)2、R2POOH(其中R和R'獨立地為C5-C24烷基、C5-C24烯基、或者C6-C20芳基)、聚合物型有機配體、或其組合。
鍵合至所述量子點表面的有機配體化合物的實例可包括：
硫醇化合物例如甲硫醇、乙硫醇、丙硫醇、丁硫醇、戊硫醇、己硫醇、辛硫醇、十二烷硫醇、十六烷硫醇、十八烷硫醇、或芐硫醇；
胺化合物例如甲基胺、乙基胺、丙基胺、丁基胺、戊基胺、己基胺、辛基胺、壬基胺、癸基胺、十二烷基胺、十六烷基胺、十八烷基胺、二甲基胺、二乙基胺、二丙基胺、三丁基胺、或三辛基胺；
羧酸化合物例如甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、十二烷酸、十六烷酸、十八烷酸、油酸、或苯甲酸；
膦化合物例如甲基膦、乙基膦、丙基膦、丁基膦、戊基膦、辛基膦、二辛基膦、三丁基膦、或三辛基膦；
膦氧化物化合物例如甲基膦氧化物、乙基膦氧化物、丙基膦氧化物、丁基膦氧化物、戊基膦氧化物、三丁基膦氧化物、辛基膦氧化物、二辛基膦氧化物、或三辛基膦氧化物；
二苯基膦、三苯基膦、或其氧化物化合物；
C5-C20烷基次膦酸例如己基次膦酸、辛基次膦酸、十二烷次膦酸、十四烷次膦酸、十六烷次膦酸、或者十八烷次膦酸；
等等，但是不限于此。
所述量子點可包括單獨的或者作為兩種或更多種的混合物的疏水性有機配體。
所述包括有機配體的量子點的量可大于或等于約1重量百分比(重量％)、例如大于或等于約5重量％、或者大于或等于約10重量％，基于所述組合物的總量。所述包括有機配體的量子點的量可小于或等于約40重量％、例如小于或等于約35重量％，基于所述組合物的總量。在一些實施方式中，所述包括有機配體的量子點的量可為約5重量％-40重量％，基于所述組合物的固體內容物(非揮發(fā)性組分)的總重量。
使用光致發(fā)光型濾色器代替吸收型濾色器可使視角變寬并且改善亮度。所述量子點可具有約100％的理論量子產率(QY)，并且可發(fā)射具有高的色純度(例如，小于或等于約40nm的半寬度(FWHM))的光，并且因此其可實現(xiàn)增強的發(fā)光效率和改善的顏色再現(xiàn)性。因此，據(jù)信，使用包括量子點聚合物復合物的濾色器可容許實現(xiàn)具有高的亮度、寬的視角、和高的顏色再現(xiàn)性的顯示器。然而，為了實現(xiàn)前述性質，可需要將相對大量的量子點(例如，至少5重量％的所述量子點，基于所述復合物的總量)良好地分散在所述聚合物復合物中。
同時，作為常規(guī)技術中的形成包括量子點的圖案的方法，US 7,199,393公開了在圖案化方法中使用其表面上具有光敏官能團的量子點，將其整個內容引入本文作為參考。在所公開的方法中，將光敏官能團引入到量子點的表面上并且進行光聚合(如果需要的話，與能光聚合的單體一起)，以制備量子點-聚合物復合物圖案。但是所公開的方法需要量子點的表面處理的額外工藝，并且在顯影過程期間需要使用有機溶劑來形成圖案。
另一方面，當在提供堿能顯影的量子點-聚合物復合物圖案的嘗試中將量子點(例如，其中有機配體與表面結合)與堿能顯影的光刻膠混合而不進行任何表面處理時，它們未良好地分散或者甚至附聚，因為量子點具有差的與常規(guī)光刻膠的相容性。為了使圖案化的量子點-聚合物復合物被應用于濾色器中，應當能夠將大量的量子點包括在所述復合物中。當所述量子點無法分散在所述組合物中時，提供均勻的圖案變得不可能。
在根據(jù)實施方式的光敏組合物中，首先將在表面上包括有機配體(例如，具有疏水性部分的有機配體)的量子點分散在具有疏水性部分的包含羧酸基團的粘合劑的溶液中。然后將所獲得的量子點-粘合劑分散體與用于光刻膠的其它組分混合。結果，所述量子點可良好地分散在堿能顯影的光刻膠中。因此，在根據(jù)實施方式的光敏組合物的情況下，相對大量的量子點可良好地分散在光刻膠組合物中。不希望受任何理論制約，理解，當將所述量子點分散在所述具有疏水性部分的包含羧酸基團的粘合劑的溶液中時，所述粘合劑可促進包括所述量子點的分散體的形成，并且借助于所述粘合劑分散的所述量子點即使在它們構成光刻膠組合物時也可保持它們的分散狀態(tài)。
因此，實施方式的光敏組合物包括包含如下的量子點分散體：包含羧酸基團的粘合劑和在所述粘合劑中分散的(例如，彼此分離的)多個量子點。所述包含羧酸基團的粘合劑可包括包含如下的單體組合的共聚物：具有羧酸基團和碳-碳雙鍵的第一單體以及具有碳-碳雙鍵和疏水性部分但是不具有羧酸基團的第二單體。
由于根據(jù)實施方式的光敏組合物可提供包括不具有能光聚合的官能團(例如，碳-碳雙鍵如(甲基)丙烯酸酯)的量子點的量子點-聚合物復合物圖案，因此量子點表面的表面處理是不必要的。此外，由前述光敏組合物制備的圖案的顯影過程在該顯影過程中不需要使用有機溶劑例如甲苯或NMP。
第一單體的實例可包括，但不限于，丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、衣康酸、富馬酸、3-丁烯酸、羧酸乙烯基酯化合物例如乙酸乙烯酯、和苯甲酸乙烯酯。第一單體可包括一種或多種化合物。
第二單體的實例可包括，但不限于：
烯基芳族化合物例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、或乙烯基芐基甲基醚；
不飽和羧酸酯化合物例如丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸芐酯、丙烯酸環(huán)己酯、甲基丙烯酸環(huán)己酯、丙烯酸苯酯、或者甲基丙烯酸苯酯；
不飽和羧酸氨基烷基酯化合物例如丙烯酸2-氨基乙酯、甲基丙烯酸2-氨基乙酯、丙烯酸2-二甲基氨基乙酯、或者甲基丙烯酸2-二甲基氨基乙酯；
馬來酰亞胺例如N-苯基馬來酰亞胺、N-芐基馬來酰亞胺、N-烷基馬來酰亞胺；
不飽和羧酸縮水甘油酯化合物例如丙烯酸縮水甘油酯或甲基丙烯酸縮水甘油酯；
乙烯基氰化物(乙烯基氰)化合物例如丙烯腈或甲基丙烯腈；和
不飽和酰胺化合物例如丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺，
但是不限于此。
作為第二單體，可使用至少一種化合物。
為了分散量子點，所述包含羧酸基團的粘合劑可具有大于或等于約50毫克KOH/克(mg KOH/g)的酸值，但是酸值可取決于其化學結構(例如，主鏈的或者在側鏈處的疏水性部分的化學結構)而變化。例如，所述包含羧酸基團的粘合劑可具有大于或等于約60mg KOH/g、大于或等于約70mg KOH/g、大于或等于約80mg KOH/g、大于或等于約90mg KOH/g、大于或等于約100mg KOH/g、大于或等于約110mg KOH/g、大于或等于約120mg KOH/g、大于或等于約125mg KOH/g、或者大于或等于約130mg KOH/g的酸值。所述包含羧酸基團的粘合劑可具有例如小于或等于約200mg KOH/g、例如小于或等于約190mg KOH/g、小于或等于約180mg KOH/g、或者小于或等于約160mg KOH/g的酸值，但是其不限于此。雖然不希望受理論制約，但是理解，當將所述量子點與具有在前述范圍內的酸值的粘合劑的溶液混合以提供量子點-粘合劑分散體時，所獲得的量子點-粘合劑分散體可具有改善的與用于光刻膠的其它組分(例如，能光聚合的單體、光引發(fā)劑、溶劑等)的相容性，并且由此所述量子點可良好地分散在最終組合物(即，光刻膠組合物)中以形成圖案。在實施方式中，所述包含羧酸基團的粘合劑可具有約100mgKOH/g-約200mg KOH/g的酸值。
所述包含羧酸基團的粘合劑可包括如下的單體組合的共聚物：其包括第一和第二單體，并且可進一步包括具有碳-碳雙鍵和親水性部分并且不具有羧酸基團的第三單體。
第三單體的實例可包括丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丁酯、和甲基丙烯酸2-羥基丁酯，但是不限于此。第三單體可包括一種或多種化合物。
第一重復單元可包括由化學式1-1表示的重復單元、由化學式1-2表示的重復單元、或其組合：
化學式1-1
其中
R1為氫、C1-C3烷基、或者-(CH2)n1-COOH(其中n1為0-2)，
R2為氫、C1-C3烷基、或者-COOH，
L為單鍵、C1-C15二價脂族烴基例如C1-C3亞烷基、C6-C30二價芳族烴基例如C6-C12亞芳基、C6-C30二價脂環(huán)族烴基(亞環(huán)烷基或亞環(huán)烯基例如降冰片烯部分)、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式1-2
其中
R1為氫、C1-C3烷基、或者-(CH2)n1-COOH(其中n1為0-2)，
R2為氫或C1-C3烷基，
L為C1-C15亞烷基，其中至少一個亞甲基被-C(＝O)-、-O-、或-C(＝O)O-代替的C1-C15亞烷基，C6-C30二價芳族烴基例如C6-C30亞芳基，C6-C30二價脂環(huán)族烴基(例如，亞環(huán)烷基或亞環(huán)烯基例如降冰片烯部分)，或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，
n為1-3的整數(shù)，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
第二重復單元可包括由化學式2表示的重復單元、由化學式4表示的重復單元、由化學式5表示的重復單元、由化學式A表示的重復單元、或其組合：
化學式2
其中
R1為氫或C1-C3烷基，
R2為C1-C15脂族烴基(例如，C1-C15烷基例如甲基、乙基、丙基等)、C6-C30芳族烴基(C6-C24芳基例如苯基、萘基等)、C6-C30脂環(huán)族烴基例如環(huán)烷基(例如，環(huán)己基、降冰片基(降莰烷基)等)、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15脂族烴基(例如，芳烷基)，
R3為氫或C1-C3烷基，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式4
其中
R1為氫或C1-C3烷基，
L為C1-C15亞烷基，其中至少一個亞甲基被-C(＝O)-、-O-、或-C(＝O)O-代替的C1-C15亞烷基，C6-C30二價芳族烴基例如C6-C30亞芳基，C6-C30二價脂環(huán)族烴基(例如，亞環(huán)烷基或亞環(huán)烯基例如降冰片烯部分)，或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，
R2為C1-C15脂族烴基(例如，C1-C15烷基例如甲基、乙基、丙基等)、C6-C30芳族烴基(例如，C6-C24芳基例如苯基、萘基等)、C6-C30脂環(huán)族烴基例如環(huán)烷基(例如，環(huán)己基、降冰片基等)、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15脂族烴基(例如，芳烷基)，
R3為氫或C1-C3烷基，
n為1-3的整數(shù)，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式5
其中
R1和R2各自獨立地為氫或C1-C3烷基，
Ar為取代或未取代的C6-C30芳族烴基(例如，芳基例如苯基和芳烷基例如芐基等)、或者取代或未取代的C6-C30脂環(huán)族烴基，和
*表示與相鄰原子連接的部分；
化學式A
其中
R1為氫或C1-C3烷基，
R2為C1-C15脂族烴基、C6-C30芳族烴基、C6-C30脂環(huán)族烴基(例如，亞環(huán)烷基或亞環(huán)烯基例如降冰片烯)、或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15脂族烴基，
R3為氫或C1-C3烷基，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
所述共聚物可進一步包括得自第三單體的第三重復單元，并且第三重復單元可由化學式3表示：
化學式3
其中
R1和R2各自獨立地為氫或C1-C3烷基，
L為C1-C15亞烷基，其中至少一個亞甲基被-C(＝O)-、-O-、或-C(＝O)O-代替的C1-C15亞烷基，C6-C30二價芳族烴基例如C6-C30亞芳基，C6-C30二價脂環(huán)族烴基(例如，亞環(huán)烷基或亞環(huán)烯基例如降冰片烯部分)，或者被C6-C30芳族烴基或C6-C30脂環(huán)族烴基取代的C1-C15二價脂族烴基，
Z為羥基(-OH)、巰基(-SH)、或氨基(-NHR，其中R為氫或C1-C5烷基)，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
在實施方式中，所述包含羧酸基團的粘合劑可為(甲基)丙烯酸(即，第一單體)和選自(甲基)丙烯酸芳烷基酯、(甲基)丙烯酸羥烷基酯、和苯乙烯的至少一種第二單體和任選地第三單體的共聚物。
在所述包含羧酸基團的粘合劑中，得自第一單體的第一重復單元的量可大于或等于約10摩爾百分比(摩爾％)、例如大于或等于約15摩爾％、大于或等于約25摩爾％、或者大于或等于約35摩爾％。在所述包含羧酸基團的粘合劑中，第一重復單元的量可小于或等于約90摩爾％、例如小于或等于約89摩爾％、小于或等于約88摩爾％、小于或等于約87摩爾％、小于或等于約86摩爾％、小于或等于約85摩爾％、小于或等于約80摩爾％、小于或等于約70摩爾％、小于或等于約65摩爾％、小于或等于約45摩爾％、小于或等于約35摩爾％、或者小于或等于約25摩爾％。
在所述包含羧酸基團的粘合劑中，得自第二單體的第二重復單元的量可大于或等于約10摩爾％、例如大于或等于約15摩爾％、大于或等于約25摩爾％、或者大于或等于約35摩爾％。在所述包含羧酸基團的粘合劑中，第二重復單元的量可小于或等于約90摩爾％、例如小于或等于約89摩爾％、小于或等于約88摩爾％、小于或等于約87摩爾％、小于或等于約86摩爾％、小于或等于約85摩爾％、小于或等于約80摩爾％、小于或等于約70摩爾％、小于或等于約65摩爾％、小于或等于約40摩爾％、小于或等于約35摩爾％、或者小于或等于約25摩爾％。
在所述包含羧酸基團的粘合劑中，得自第三單體的第三重復單元的量可大于或等于約1摩爾％、例如大于或等于約5摩爾％、大于或等于約10摩爾％、或者大于或等于約15摩爾％。在所述包含羧酸基團的粘合劑中，第三重復單元的量可小于或等于約30摩爾％、例如小于或等于約25摩爾％、小于或等于約20摩爾％、小于或等于約18摩爾％、小于或等于約15摩爾％、或者小于或等于約10摩爾％。
所述包含羧酸基團的粘合劑可包括(甲基)丙烯酸和選自如下的至少一種單體的共聚物：(甲基)丙烯酸芳烷基酯、(甲基)丙烯酸羥烷基酯、和苯乙烯。例如，所述包含羧酸基團的粘合劑可包括甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸芐酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸芐酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、或者甲基丙烯酸/甲基丙烯酸芐酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物。
在另一實施方式中，所述包含羧酸基團的粘合劑可包括如下的包含多個芳族環(huán)的聚合物：其具有其中兩個芳族環(huán)與作為主鏈中的另一環(huán)狀部分的構成原子的季碳原子結合的骨架結構并且包括羧酸基團(-COOH)(例如，結合至主鏈)。
在所述包含多個芳族環(huán)的聚合物中，所述骨架結構可包括由化學式B表示的重復單元：
化學式B
其中
*表示與所述粘合劑的主鏈的相鄰原子連接的部分，
Z1為由化學式B-1到B-6的任一個表示的連接部分，并且在化學式B-1到B-6中，
化學式B-1
化學式B-2
化學式B-3
化學式B-4
化學式B-5
其中
Ra為氫、乙基、C2H4Cl、C2H4OH、CH2CH＝CH2、或苯基，
化學式B-6
其中*表示與相鄰原子連接的部分。
所述包含多個芳族環(huán)的聚合物可包括由化學式C表示的重復單元：
化學式C
其中
Z1為由化學式B-1到B-6的任一個表示的連接部分，
L為單鍵、C1-C10亞烷基、具有包括碳-碳雙鍵的取代基的C1-C10亞烷基、C1-C10氧基亞烷基、或者具有包括碳-碳雙鍵的取代基的C1-C10氧基亞烷基，
A為-NH-、-O-、或C1-C10亞烷基，
R1和R2各自獨立地為氫、鹵素、或者取代或未取代的C1-C20烷基，
m1和m2各自獨立地為范圍0-4的整數(shù)，
Z2為C6-C40芳族有機基團(例如四價的C6-C40芳族有機基團)，和
*和*’各自表示與相鄰原子連接的部分。
在化學式C中，Z2可為化學式C-1、化學式C-2、和化學式C-3的任一種：
化學式C-1
其中*表示與相鄰羰基碳連接的部分，
化學式C-2
其中*表示與相鄰羰基碳連接的部分，
化學式C-3
其中
*表示與相鄰羰基碳連接的部分，
L為單鍵、-O-、-S-、-C(＝O)-、-CH(OH)-、-S(＝O)2-、-Si(CH3)2-、-(CH2)p-(其中1≤p≤10)、-(CF2)q-(其中1≤q≤10)、-CR2-(其中R獨立地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20脂環(huán)族烴基)、-C(CF3)2-,-C(CF3)(C6H5)-、或者-C(＝O)NH-。
所述包含多個芳族環(huán)的聚合物可包括由化學式D表示的結構單元：
化學式D
其中
R1和R2各自獨立地為氫或者取代或未取代的(甲基)丙烯酰氧基烷基，
R3和R4各自獨立地為氫、鹵素、或者取代或未取代的C1-C20烷基，
Z1為選自由化學式B-1到B-6表示的連接部分的部分，
Z2為四價芳族有機基團例如以上闡述的部分，
m1和m2獨立地為范圍0-4的整數(shù)，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
所述包含多個芳族環(huán)的聚合物可為雙酚芴環(huán)氧丙烯酸酯的酸加合物。例如，所述雙酚芴環(huán)氧丙烯酸酯可通過如下制備：使4,4-(9-亞芴基)-二苯酚和環(huán)氧氯丙烷反應以獲得具有芴部分的環(huán)氧化合物，和使所述環(huán)氧化合物與丙烯酸反應以獲得芴基環(huán)氧丙烯酸酯，然后使其進一步與聯(lián)苯二酐(聯(lián)苯二甲酸酐)和/或鄰苯二甲酸酐反應。前述反應方案可總結如下：
所述包含多個芳族環(huán)的聚合物可在一個或兩個末端處包括由化學式E表示的官能團：
化學式E
其中
*表示與相鄰原子連接的部分，和
Z3為由化學式E-1到E-7之一表示的部分：
化學式E-1
其中
Rb和Rc各自獨立地為氫、取代或未取代的C1-C20烷基、酯基團、或醚基團，和
*表示與相鄰原子連接的部分。
化學式E-2
化學式E-3
化學式E-4
化學式E-5
其中Rd為O、S、NH、取代或未取代的C1-C20亞烷基、C1-C20烷基胺基、或者C2-C20烯基胺基。
化學式E-6
化學式E-7
所述包含多個芳族環(huán)的聚合物可通過已知方法合成或者可商購獲得(例如，從Nippon Steel Chemical Co.,Ltd.)。
作為非限制性實例，所述包含多個芳族環(huán)的聚合物可包括選自9,9-二(4-羥基苯基)芴、9,9-二(4-氨基苯基)芴、9,9-二[4-(縮水甘油氧基)苯基]芴、和9,9-二[4-(2-羥基乙氧基)苯基]芴的芴化合物與能夠與所述芴化合物反應的合適化合物(例如，選自9,9-二-(3,4-二羧基苯基)芴二酐、均苯四甲酸二酐(PDMA)、聯(lián)苯四羧酸二酐(BPDA)、二苯甲酮四羧酸二酐、和萘四羧酸二酐的芳族二酐、C2-C30二醇化合物、環(huán)氧氯丙烷等)的反應產物。所述芴化合物、二酐、二醇化合物等是可商購獲得的，并且其間的反應條件是本領域中已知的。
所述包含羧酸基團的粘合劑可具有大于或等于約1,000g/mol、例如大于或等于約2,000g/mol、大于或等于約3,000g/mol、或者大于或等于約5,000g/mol的重均分子量。所述包含羧酸基團的粘合劑可具有小于或等于約100,000g/mol、例如小于或等于約50,000g/mol的重均分子量。雖然不希望受理論制約，但是理解，在前述范圍內，可保證更加改善的顯影性。
在所述光敏組合物中，所述包含羧酸基團的粘合劑的量可大于或等于約0.5重量％、例如大于或等于約1重量％、大于或等于約5重量％、大于或等于約10重量％、大于或等于約15重量％、或者大于或等于約20重量％，基于所述組合物的總重量。所述包含羧酸基團的粘合劑的量可小于或等于約40重量％、例如小于或等于約30重量％，基于所述組合物的總重量。在實施方式中，所述包含羧酸基團的粘合劑的量可為5-40重量％，基于所述組合物的固體(即，非揮發(fā)物)的總重量。雖然不希望受理論制約，但是理解，在前述范圍內，在后續(xù)圖案形成工藝中可實現(xiàn)合適的顯影性和改善的可加工性，同時保證所述量子點的分散性。
實施方式的光敏組合物包括具有至少兩個硫醇基團的反應性化合物。
所述反應性化合物可具有化學式6的結構：
化學式6
其中
R1為氫、取代或未取代的C1-C30線型或支化的烷基、取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C7-C30芳烷基、取代或未取代的C3-C30雜芳基、取代或未取代的C4-C30雜芳烷基、取代或未取代的C3-C30環(huán)烷基、取代或未取代的C3-C30雜環(huán)烷基、C1-C10烷氧基、羥基、-NH2、取代或未取代的C1-C30胺基(-NRR'，其中R和R'獨立地為氫或C1-C30線型或支化的烷基)、異氰酸酯基團、鹵素、-ROR'(其中R為取代或未取代的C1-C20亞烷基且R'為氫或C1-C20線型或支化的烷基)、?；u(-RC(＝O)X，其中R為取代或未取代的C1-C20亞烷基且X為鹵素)、-C(＝O)OR'(其中R'為氫或C1-C20線型或支化的烷基)、-CN、-C(＝O)ONRR'(其中R和R'獨立地為氫或C1-C20線型或支化的烷基)、或其組合，
L1為碳原子、取代或未取代的C1-C30亞烷基、取代或未取代的C6-C30亞環(huán)烷基、取代或未取代的C6-C30亞芳基、或者取代或未取代的C6-C30亞雜芳基，其中所述取代或未取代的C1-C30亞烷基的至少一個亞甲基(-CH2-)可被如下代替：磺?；?-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚(-O-)、硫醚(-S-)、亞砜(-S(＝O)-)、酯(-C(＝O)O-)、酰胺(-C(＝O)NR-)(其中R為氫或C1-C10烷基)、或其組合，
Y1為單鍵、取代或未取代的C1-C30亞烷基、取代或未取代的C2-C30亞烯基、其中至少一個亞甲基(-CH2-)被如下代替的C1-C30亞烷基或C2-C30亞烯基：磺?；?-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚(-O-)、硫醚(-S-)、亞砜(-S(＝O)-)、酯(-C(＝O)O-)、酰胺(-C(＝O)NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、亞胺(-NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、或其組合，
m為1或更大的整數(shù)，
k1為0或者為1或更大的整數(shù)，
k2為1或更大的整數(shù)，和
m與k2之和為3或更大的整數(shù)，
條件是當Y1不是單鍵時，m不超過Y1的化合價，和
條件是k1與k2之和不超過L1的化合價。
所述反應性化合物可包括化學式6-1的化合物：
化學式6-1
其中
L1'為碳、取代或未取代的得自烷烴的C2-C20基團、取代或未取代的得自芳烴的C6-C30基團、取代或未取代的得自雜芳烴的C3-C30基團、取代或未取代的得自環(huán)烷烴的C3-C30基團、或者取代或未取代的得自雜環(huán)烷烴團的C3-C30基團，
Ya-Yd獨立地為單鍵、取代或未取代的C1-C30亞烷基、取代或未取代的C2-C30亞烯基、或者其中至少一個亞甲基(-CH2-)被如下代替的C1-C30亞烷基或C2-C30亞烯基：磺?；?-S(＝O)2-)、羰基(-C(＝O)-)、醚(-O-)、硫醚(-S-)、亞砜(-S(＝O)-)、酯(-C(＝O)O-)、酰胺(-C(＝O)NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、亞胺(-NR-)(其中R為氫或C1-C10線型或支化的烷基)、或其組合，和
Ra-Rd各自獨立地為化學式1的R1或者SH，條件是它們的至少兩個是SH。
所述反應性化合物可與能光聚合的單體(以下將對其詳細地描述)反應而沒有對量子點的分散的不利影響，并且由此防止伴隨光刻膠過程的熱處理(例如，后烘烤)使分散在圖案中的量子點的發(fā)光效率惡化。不希望受任何理論制約，據(jù)信，所述反應性化合物可通過進一步與下文中描述的能光聚合的單體反應而容許所述聚合物形成更致密的網(wǎng)絡。此外，所述反應性化合物可在所述量子點和所述能光聚合的單體之間提供鍵以保證所述復合物中的所述量子點的分散和穩(wěn)定性。與沒有所述反應性化合物的復合物相比，由包括所述反應性化合物的光敏樹脂組合物形成的圖案可使發(fā)光性質(例如保持藍色光轉化率的性質)增強，例如增強至少約2倍。在一些實施方式中，所述光敏組合物在其通過堿性水溶液顯影，然后干燥和在180℃下加熱30分鐘時可保持初始值的大于或等于約40％的藍色光轉化率。
所述反應性化合物可包括二硫醇化合物、三硫醇化合物、四硫醇化合物、或其組合。例如，所述反應性化合物可包括乙二醇二-3-巰基丙酸酯、乙二醇二巰基乙酸酯、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(2-巰基乙酸酯)、1,6-己二硫醇、1,3-丙二硫醇、1,2-乙二硫醇、包括1-10個乙二醇重復單元的聚乙二醇二硫醇、或其組合。在所述光敏組合物中，所述反應性化合物的量可大于或等于約0.1重量％、例如大于或等于約0.5重量％、或者大于或等于約1重量％，基于所述組合物的總重量。所述反應性化合物的量可小于或等于約40重量％、例如小于或等于約30重量％、小于或等于約25重量％、小于或等于約20重量％、小于或等于約19重量％、小于或等于約18重量％、小于或等于約17重量％、小于或等于約16重量％、小于或等于約15重量％、小于或等于約14重量％、小于或等于約13重量％、小于或等于約12重量％、小于或等于約10重量％、小于或等于約9重量％、小于或等于約8重量％、小于或等于約7重量％、小于或等于約6wt％、小于或等于約5重量％，基于所述組合物的總重量。
根據(jù)實施方式的光敏組合物包括具有至少一個(例如，兩個、三個、四個、五個、六個或更多個)碳-碳雙鍵(例如，丙烯酸酯基團或甲基丙烯酸酯基團)的能光聚合的單體。所述能光聚合的單體的類型沒有特別限制，只要它們包括碳-碳雙鍵并且可通過光聚合。例如，所述能光聚合的單體可為可在光敏組合物中使用的單體或低聚物。所述能光聚合的單體可包括具有至少一個烯屬不飽和雙鍵的單官能的或多官能的(甲基)丙烯酸酯。例如，所述能光聚合的單體可包括乙烯基單體、不飽和烯屬低聚物、其均聚物、不飽和烯屬低聚物和烯屬不飽和單體的共聚物、或其組合。所述能光聚合的單體的實例可包括，但不限于，(甲基)丙烯酸烷基酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二縮三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、一縮二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環(huán)氧丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、酚醛環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、磷酸三(甲基)丙烯酰氧基乙基酯等。實施方式的能光聚合的單體可包括二(甲基)丙烯酸酯化合物、三(甲基)丙烯酸酯化合物、四(甲基)丙烯酸酯化合物、五(甲基)丙烯酸酯化合物、六(甲基)丙烯酸酯化合物、或其組合。
在所述光敏組合物中，所述能光聚合的單體的量可大于或等于約0.5重量％、例如大于或等于約1重量％、或者大于或等于約2重量％，相對于所述組合物的總量。所述能光聚合的單體的量可小于或等于約30重量％、例如小于或等于約25重量％、小于或等于約20重量％，所述能光聚合的單體的量可為10重量％，相對于所述組合物的總量。
所述光敏組合物可包括光聚合引發(fā)劑。所述光聚合引發(fā)劑的類型沒有特別限制，并且可適當?shù)剡x擇。例如，可用的光聚合引發(fā)劑可包括三嗪(類)化合物、乙酰苯(類)化合物、二苯甲酮(類)化合物、噻噸酮(類)化合物、安息香(類)化合物、肟(類)化合物、或其組合，但是其不限于此。
所述三嗪化合物的實例可包括2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對-甲氧基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對-甲苯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯(lián)苯基-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘-1-基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘-1-基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2,4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、和2,4-三氯甲基(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪，但是不限于此。
所述乙酰苯化合物的實例可為2,2'-二乙氧基乙酰苯、2,2'-二丁氧基乙酰苯、2-羥基-2-甲基丙酰苯、對-叔丁基三氯乙酰苯、對-叔丁基二氯乙酰苯、4-氯乙酰苯、2,2'-二氯-4-苯氧基乙酰苯、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮等，但是不限于此。
所述二苯甲酮化合物的實例可為二苯甲酮、苯甲?；郊姿狨?、苯甲?；郊姿峒柞?、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸酯化的二苯甲酮、4,4'-二(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮等，但是不限于此。
所述噻噸酮化合物的實例可為噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮等，但是不限于此。
所述安息香化合物的實例可包括安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚、安息香異丁基醚、芐基二甲基縮醛等，但是不限于此。
所述肟化合物的實例可為2-(鄰-苯甲?；?-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(鄰-乙?；?-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲?；?-9H-咔唑-3-基]乙酮等，但是不限于此。
除了所述光聚合引發(fā)劑之外，光聚合引發(fā)劑還可為咔唑化合物、二酮化合物、硼酸锍化合物、重氮化合物、二-咪唑化合物等。
在所述光敏組合物中，所述光引發(fā)劑的量可大于或等于約0.01重量％、例如大于或等于約0.1重量％、或者大于或等于約1重量％，基于所述組合物的總重量。所述光引發(fā)劑的量可小于或等于約10重量％、例如小于或等于約5重量％，基于所述組合物的總重量。在實施方式中，所述光引發(fā)劑的量可為約0.05-約10重量％，基于所述組合物的固體(即，非揮發(fā)物)的總重量。雖然不希望受理論制約，但是理解，在前述范圍內，可形成合乎需要的圖案。
如果需要，除了前述組分之外，所述光敏組合物可進一步包括各種添加劑例如光漫射劑、流平劑、或偶聯(lián)劑。添加劑的量沒有特別限制，并且可在其中添加劑對所述光敏組合物以及由其獲得的圖案不導致不利影響的合適范圍中選擇。
所述光漫射劑可提高所述組合物的折射率以提高入射光與量子點相遇的機會。所述光漫射劑可包括無機氧化物顆粒例如氧化鋁、二氧化硅、氧化鋯、氧化鈦粒子、或氧化鋅，和金屬顆粒例如金、銀、銅、或鉑，但是不限于此。
所述流平劑目的在于防止瑕疵或斑點和改善膜的平面化和流平特性，并且其實例可包括以下，但是不限于此。
包含氟的流平劑可包括市售產品，例如BM Chemie Inc.的和Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co.,Ltd.的MEGAFACE FFF和FSumitomo 3M Co.,Ltd.的和Asahi Glass Co.,Ltd.的SURFLONSURFLONSURFLONSURFLON和SURFLON以及Toray Silicone Co.,Ltd.的等。
添加劑的類型和量可視需要調節(jié)。
所述偶聯(lián)劑目的在于提高對于基板的粘附并且其實例可包括包含硅烷的偶聯(lián)劑。所述包含硅烷的偶聯(lián)劑的實例可為乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷等。
所述光敏組合物可包括溶劑。所述溶劑可包括在所述量子點分散體中。所述溶劑的量可取決于以上主要組分(即，所述包含有機配體的量子點、所述包含COOH基團的粘合劑、所述能光聚合的單體組合、和所述光引發(fā)劑)、和添加劑的量而確定。所述組合物可以這樣的量包括所述溶劑：所述組合物的除了固體(即，非揮發(fā)物)組分的量之外的剩余量為所述溶劑的量。所述溶劑可考慮其對其它組分(例如，所述粘合劑、所述能光聚合的單體、所述光引發(fā)劑、和其它添加劑)的親合性、其對堿顯影溶液的親合性、以及其沸點而適當?shù)剡x擇。所述溶劑的實例可為：
3-乙氧基丙酸乙酯；
乙二醇類例如乙二醇、一縮二乙二醇、或聚乙二醇；
乙二醇醚例如乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、一縮二乙二醇單甲基醚、乙二醇二乙基醚、和一縮二乙二醇二甲基醚；
乙二醇醚乙酸酯例如乙二醇乙酸酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、一縮二乙二醇單乙基醚乙酸酯、和一縮二乙二醇單丁基醚乙酸酯；
丙二醇類例如丙二醇；丙二醇醚例如丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單丙基醚、丙二醇單丁基醚、丙二醇二甲基醚、一縮二丙二醇二甲基醚、丙二醇二乙基醚、和一縮二丙二醇二乙基醚；
丙二醇醚乙酸酯例如丙二醇單甲基醚乙酸酯和一縮二丙二醇單乙基醚乙酸酯；
酰胺例如N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、和二甲基乙酰胺；
酮例如甲乙酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、和環(huán)己酮；
石油產品例如甲苯、二甲苯、和溶劑石腦油；
酯例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、和乳酸乙酯；
醚例如二乙基醚、二丙基醚、和二丁基醚；和
其任意組合。
根據(jù)實施方式的光敏組合物制備方法包括：
將所述包含COOH的粘合劑溶解在所述溶劑中以制備粘合劑溶液；
將具有鍵合至其表面的有機配體的多個量子點分散在所述粘合劑溶液中以獲得量子點-粘合劑分散體；和
將所述量子點-粘合劑分散體與反應性化合物、光引發(fā)劑、能光聚合的單體、和任選地溶劑組合。
組合方式沒有特別限制，并且可適當?shù)剡x擇。例如，可將各組分順序地或同時地組合。
所述方法可進一步包括：選擇包括鍵合至表面的有機配體的量子點，和選擇能夠分散所述量子點的粘合劑(例如，包含羧酸基團的粘合劑)。在選擇粘合劑的步驟中，所述粘合劑可為包含羧酸基團的粘合劑。所述包含羧酸基團的粘合劑可為包括如下的單體組合的共聚物：具有羧酸基團和碳-碳雙鍵的第一單體以及具有碳-碳雙鍵和疏水性部分并且不具有羧酸基團的第二單體。在該步驟中可考慮所述共聚物的化學結構和酸值。
所述量子點、所述包含羧酸基團的粘合劑、所述能光聚合的單體、所述光引發(fā)劑、和所述量子點分散體的細節(jié)與以上闡述的相同。
所述光敏組合物可為能用堿水溶液顯影的，并且因此可在不使用有機溶劑顯影溶液的情況下由所述光敏組合物形成量子點-聚合物復合物圖案。
參照圖1解釋形成圖案的非限制性方法。
首先，將所述光敏組合物以合適的方式例如旋涂、狹縫涂布等涂布在預定的基板(例如，玻璃基板或者涂布有預定厚度SiNx(保護層)(例如，500-1,500埃的保護層)的玻璃基板)上以形成預定厚度(例如，3-30微米(μm)的厚度)的膜。如果需要，可將所形成的膜預烘烤。預烘烤的具體條件例如溫度、時間、和氣氛是本領域中已知的并且可適當?shù)剡x擇。
將所形成的(或者任選地經預烘烤的)膜在具有預定圖案的掩模下暴露于預定波長的光。所述光的波長和強度可取決于所述光引發(fā)劑的類型和量、所述量子點的類型和量等而選擇。
將經曝光的膜用堿顯影溶液處理，從而將所述膜中的未曝光的區(qū)域溶解以提供合乎需要的圖案。如果需要，可將所獲得的圖案后烘烤，以改善圖案的抗裂性和耐溶劑性，例如，在約150℃-約230℃的溫度下后烘烤預定時間(例如，大于或等于約10分鐘或者大于或等于約20分鐘)。即使在進行后烘烤過程之后，由所述光敏組合物獲得的圖案也可顯示出改善的熱穩(wěn)定性，使得光轉化率可保持為初始值的30％或更高(例如，40％或更高)。
當使用由所述光敏組合物獲得的量子點-聚合物復合物作為濾色器時，制備各自包括紅色量子點、綠色量子點(或者任選地，藍色量子點)的兩種或三種類型的光敏組合物，并且將圖案化過程重復與對于各組合物所需要的一樣多的次數(shù)(例如，兩次或三次)以提供具有合乎需要的圖案的量子點-聚合物復合物。
另一實施方式提供量子點-聚合物復合物，其包括：
包括如下的基質：包含羧酸基團(-COOH)的聚合物；以及具有碳-碳雙鍵的能光聚合的單體和具有至少兩個硫醇基團的反應性化合物的聚合產物；和
多個量子點；
其中所述包含COOH的聚合物包括包含如下的單體組合的共聚物：具有羧酸基團和碳-碳雙鍵的第一單體以及具有碳-碳雙鍵和疏水性部分并且不具有羧酸基團的第二單體；和
所述多個量子點在所述基質中分散(例如，彼此分離)(例如，沒有附聚)。
所述復合物可為圖案。所述量子點可包括結合至其表面的有機配體。
所述量子點、所述粘合劑、所述能光聚合的單體等的細節(jié)與以上闡述的相同。所述共聚物可為線型聚合物。所述能光聚合的單體可包括具有至少三個(甲基)丙烯酸酯基團的單體并且所述聚合產物可包括交聯(lián)聚合物。
在一些實施方式中，濾色器包括所述量子點-聚合物復合物或者其圖案。在另一實施方式中，顯示器件包括所述量子點-聚合物復合物或者其圖案。所述顯示器件可為液晶顯示器件。
參照圖13和圖14，在非限制性實施方式中，液晶顯示器包括：液晶面板200、設置在液晶面板200上和/或下面的光學元件300(例如，偏振板)、以及設置在下部光學元件300下面并且包括藍色光發(fā)射源的背光單元。液晶面板200可包括下部基板210、上部基板240、介于上部和下部基板之間的液晶層220。所述器件包括設置在上部基板240的頂部表面或底部表面上的濾色器230。所述濾色器包括前述量子點-聚合物復合物或其圖案。
所述背光單元可包括光源110和任選地導光板120。
在下部基板210的內表面例如頂部表面上設置線路板211。線路板211可包括多條柵極線(未示出)和數(shù)據(jù)線(未示出)、鄰近于柵極線和數(shù)據(jù)線的交叉區(qū)域設置的薄膜晶體管、以及用于各像素區(qū)域的像素電極，但是不限于此。在實施方式中，例如，像素區(qū)域可通過柵極線和數(shù)據(jù)線限定。所述線路板可具有本領域中公知的任何結構或特征，并且沒有特別限制。
液晶層220可設置在線路板211上。液晶層220可包括在層220上和下方的定向層221以使其中包括的液晶材料初始定向。所述液晶材料和所述定向層可具有本領域中公知的任何結構或特征(例如，液晶材料、定向層材料、形成液晶層的方法、液晶層的厚度等)并且沒有特別限制。
光學元件300可為用于保持從光致發(fā)光濾色器層發(fā)射的光的偏振的部件。在實施方式中，例如，光學元件300可為偏振器。將具有穿過其限定的開口的黑矩陣(黑底)241設置在上部基板240例如上部基板240的底部表面上，以覆蓋設置在下部基板210上的線路板的薄膜晶體管以及柵極線、數(shù)據(jù)線等。包括用于發(fā)射紅色光的第一濾色器(R)、用于發(fā)射綠色光的第二濾色器(G)、和/或用于(發(fā)射或傳輸)藍色光的第三濾色器(B)的光致發(fā)光濾色器層230可設置在黑矩陣241上和在黑矩陣241的開口中。在示例性實施方式中，黑矩陣241可具有點陣形狀?？稍谒龉庵掳l(fā)光濾色器層上設置透明的公共電極231。
液晶顯示器(下文中，LCD)為其中偏振光穿過液晶、然后穿過吸收型濾色器以表現(xiàn)顏色的顯示器。LCD經常由于吸收型濾色器的低的光透射水平而具有例如窄的視角和低的亮度的缺點。例如，在包括吸收型濾色器的常規(guī)LCD中，從背光單元提供的光(例如，白色光)穿過濾色器以提供紅色、綠色、和藍色光，并且因此光的強度不可避免地降低三分之一。相反，在本實施方式的顯示器中，來自背光單元的藍色光穿過所述濾色器以提供具有期望的顏色的光，而沒有在包括吸收型濾色器的常規(guī)LCD中發(fā)生的前述光損失。因此，實施方式的顯示器可顯示出為常規(guī)LCD的發(fā)光(亮度)效率的至少約3倍大的發(fā)光效率。此外，由于實施方式的顯示器包括所述光致發(fā)光濾色器，因此其可在所有方向上以基本上相同的強度發(fā)射光，從而容許更寬的視角。
下文中，參照實施例更詳細地說明實施方式。然而，本公開內容不限于此。
實施例
實施例1：
[1]量子點-粘合劑分散體的制備
制備包括鍵合至其表面的油酸作為疏水性有機配體的發(fā)紅光或發(fā)綠光的量子點(InP/ZnS)的氯仿分散體。
將包括50克(g)的包括鍵合至其表面的油酸作為疏水性有機配體的量子點(紅色)的氯仿分散體與100g粘合劑(甲基丙烯酸、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸羥基乙酯、和苯乙烯的四元共聚物，酸值:130毫克(mg)KOH/克(mgKOH/g)，重均分子量:8,000，丙烯酸:甲基丙烯酸芐酯:甲基丙烯酸羥基乙酯:苯乙烯(摩爾比)＝61.5％:12％:16.3％:10.2％)溶液(聚丙二醇單甲基醚乙酸酯，具有30重量百分比(重量％)的濃度)混合以提供量子點-粘合劑分散體。
由此制備的分散體的照片圖像示于圖2中。圖2證實，量子點均勻地分散在所述量子點-粘合劑分散體中。
[2]光敏組合物的制備
向所述量子點-粘合劑分散體添加10g具有以下結構的乙二醇二-3-巰基丙酸酯(下文中，2T)、100g具有以下結構的六丙烯酸酯(作為能光聚合的單體)、1g肟酯化合物(作為引發(fā)劑)、30g TiO2(作為光漫射劑)、和300g聚丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)(作為溶劑)以獲得光敏組合物。
證實，由此制備的光敏組合物可形成分散體，而未由于所述量子點的添加顯示出任何顯著的附聚。
[3]量子點-聚合物復合物圖案的形成
將由條目[2]獲得的光敏組合物在玻璃基板上以150轉/分鐘(rpm)旋涂5秒(s)以提供膜。將所獲得的膜在100℃下預烘烤2分鐘(min)。將經預烘烤的膜在具有預定圖案的掩模下用光(波長:365納米(nm)，強度:60毫焦，mJ)照射1s，并且通過稀的氫氧化鉀水溶液(濃度：0.043％)顯影50s以提供圖案。
所獲得的圖案的光學顯微鏡圖像示于圖3中，和所獲得圖案的橫截面的照片圖像示于圖11中。
圖3的結果證實，實施例1的組合物可形成包括分散于聚合物中的量子點的圖案(線寬:100微米,μm)。當將所獲得的圖案用藍色光(波長:450nm)照射時，從所述圖案發(fā)射紅色光。
[4]在后烘烤處理之后的發(fā)光穩(wěn)定性試驗
使所獲得的圖案經歷30min的在180℃下的加熱3次。對于每一次，測量藍色光轉化率且結果匯總于表1中。
實施例2：
除了使用具有以下結構的三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)(3T)之外，根據(jù)與實施例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案，并且測量所獲得圖案的藍色光轉化率且結果匯總于表1中。
實施例3：
除了使用具有以下結構的季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)(4T)之外，根據(jù)與實施例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案，并且測量所獲得圖案的藍色光轉化率且結果匯總于表1中。
實施例4：
除了使用具有以下結構的季戊四醇四(2-巰基丙酸酯)(PE-TSA)之外，根據(jù)與實施例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案，并且測量所獲得圖案的藍色光轉化率且結果匯總于表1中。
對比例1:
除了不使用反應性化合物之外，根據(jù)與實施例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案，并且測量所獲得圖案的藍色光轉化率，且結果匯總于表1和圖5中。
表1
表1的結果證實，在180℃的溫度下加熱三次之后，實施例1-4的量子點-聚合物圖案可將其藍色光轉化率保持為初始藍色光轉化率的至少30％(例如至少40％或更高)。
對比例2:
將100g與實施例1中相同的粘合劑溶液、100g與實施例1中相同的能光聚合的單體(六丙烯酸酯化合物)、1g與實施例1中相同的光引發(fā)劑、10g乙二醇二-3-巰基丙酸酯(下文中，2T)、和300g PGMEA混合以制備混合物。
向所獲得的混合物加入與實施例1中相同的量子點的氯仿溶液以制備光敏組合物。
所獲得的光敏組合物的照片圖像示于圖6中。圖6的結果證實，當將與實施例1中相同的量子點溶液和與實施例1中相同量且相同類型的粘合劑、能光聚合的單體、光引發(fā)劑、以及溶劑混合時，量子點的附聚是顯著的，并且因此無法獲得包括分散在其中的量子點的組合物。
對比例3：
除了如下之外，根據(jù)與實施例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案：100g粘合劑溶液(濃度30重量％，聚丙二醇單甲基醚乙酸酯)包括具有相同重復單元和30mg KOH/g的酸值的粘合劑樹脂，并且不使用反應性化合物。
所制備組合物的照片圖像示于圖7中。
圖7證實，前述粘合劑溶液無法分散所述量子點。
所制備圖案的照片圖像示于圖8中。圖8證實，當量子點未均勻地分散在光敏組合物中時，無法獲得量子點-聚合物復合物的期望圖案。
對比例4：
除了如下之外，根據(jù)與實施例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案：100g粘合劑溶液(濃度30重量％，聚丙二醇單甲基醚乙酸酯)包括具有相同重復單元和60mg KOH/g的酸值的粘合劑樹脂，并且不使用反應性化合物。
證實，在所制備的組合物中，量子點未良好地分散并且顯著地附聚，并且通過使用所述組合物，無法獲得量子點聚合物復合物的期望圖案。
實施例5：
除了如下之外，根據(jù)與實施例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案：使用100g發(fā)綠光的量子點和30g TiO2。測量所形成圖案的藍色光轉化率并且結果示于圖9中。
對比例5:
除了如下之外，根據(jù)與對比例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案：使用100g量子點并且增加30g TiO2。測量所形成圖案的藍色光轉化率并且結果示于圖9中。
圖9的結果證實，在三次在180℃下的30min熱處理之后，由包括反應性化合物的組合物制備的量子點聚合物復合物圖案可顯示出這樣的藍色光轉化率的保持比率：其為由沒有反應性化合物的組合物制備的量子點聚合物復合物圖案的藍色光轉化率的保持比率的三倍。
實施例6-8和對比例6：取決于量子點的量的穩(wěn)定性試驗
除了如下之外，根據(jù)與實施例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案：使用發(fā)綠光的量子點(InP/ZnS)，和將反應性化合物2T的量分別改變?yōu)?g(對比例6)、5g(實施例6)、10g(實施例7)、和30g(實施例8)。測量所制備的量子點聚合物復合物圖案各自的藍色光轉化率，并且結果示于圖10中。
圖10的結果證實，在三次在180℃下的30min熱處理之后，由包括反應性化合物的組合物制備的量子點聚合物復合物圖案可顯示出這樣的藍色光轉化率的保持比率：其為由沒有反應性化合物的組合物制備的藍色光轉化率的保持比率的至少兩倍高。
對比例7-9：
除了如下之外，根據(jù)與實施例1中相同的程序制備光敏組合物以形成圖案：不使用反應性化合物(對比例1，0T)，或者作為反應性化合物，使用10g的具有一個硫醇基團的化合物例如十八烷硫醇[3-巰基丙酸甲酯(1T(H)，對比例7)、1-十二烷硫醇(1T(D)，對比例8)、和巰基乙酸3-甲氧基丁酯(1T(A)，對比例9)]或者10g具有兩個硫醇基團的化合物(即，2T)。測量所制備的量子點聚合物復合物圖案各自的藍色光轉化率，并且結果示于圖12中。
圖12的結果證實，具有一個硫醇基團的化合物不具有提高工藝保持率的效果。
雖然已經結合當前被認為是實踐性的示例性實施方式的內容描述了本公開內容，但是將理解本發(fā)明不限于所公開的實施方式，而是相反，意圖涵蓋包括在所附權利要求的精神和范圍內的多種修改和等同布置。
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