專利名稱：有機(jī)電致發(fā)光顯示器的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有機(jī)EL顯示器的制造方法。特別涉及在有機(jī)EL顯示器的制造步驟中包含下述步驟的有機(jī)EL顯示器的制造方法，S卩，在制造步驟中在有機(jī)層中混入異物的情況下，修復(fù)由該異物產(chǎn)生的缺陷的步驟。
背景技術(shù)：
近年來，液晶顯示器或等離子顯示器等薄型顯示器廣泛普及，但期待利用了有機(jī)EL元件的自發(fā)光型的有機(jī)EL顯示器作為下一代顯示器。有機(jī)EL顯示器提供明亮鮮明的畫質(zhì)，并由于是自發(fā)光方式所以提供寬視角。另外，具有高響應(yīng)性等優(yōu)異的特征，并進(jìn)而具有由于不需要背光而使薄膜化簡單的優(yōu)點(diǎn)。因此，被認(rèn)為將來有希望用于大屏幕TV等。有機(jī)EL顯示器由多個有機(jī)EL元件和使有機(jī)EL發(fā)光的電路基板構(gòu)成。在電路基 板中，為了控制流過各EL元件的電流，TFT (薄膜晶體管)被連接到各有機(jī)EL元件。另外，為了抑制流過有機(jī)EL元件的電流偏差，校正電路被連接到各有機(jī)EL元件。在電路基板上形成絕緣膜，并且在絕緣膜上形成具有有機(jī)EL元件的層疊膜。在絕緣膜上形成用于將電路基板和各有機(jī)EL元件連接的連接部。有機(jī)EL元件配置在形成于電路基板上的絕緣膜上。在絕緣膜上具有矩陣狀的陽極和陰極，在陰極和陽極之間配置多個有機(jī)層。有機(jī)層由含有熒光體分子的發(fā)光層、以及夾著發(fā)光層的空穴傳導(dǎo)性的薄膜及電子傳導(dǎo)性的薄膜形成。若在有機(jī)EL元件的陽極和陰極之間施加電壓，則從陽極向空穴傳導(dǎo)性的薄膜注入空穴，從陰極向電子傳導(dǎo)性的薄膜注入電子，在發(fā)光層內(nèi)空穴和電子結(jié)合，從而發(fā)光層發(fā)光。通過密封層將有機(jī)EL元件與外部隔絕，并進(jìn)一步通過密封玻璃進(jìn)行密封。在有機(jī)EL顯示器的制造步驟中，大幅左右顯示器的性能的是有機(jī)層的形成步驟。雖然存在多種該有機(jī)層的形成法，但備受矚目的是將用溶劑溶解有機(jī)材料所得的溶液涂覆(印刷)在所需的位置，通過干燥而使溶液中的溶劑蒸發(fā)，從而形成有機(jī)層的噴墨法。通過對每個有機(jī)材料反復(fù)進(jìn)行涂覆及干燥，能夠形成有機(jī)層的層疊膜。根據(jù)通過噴墨法形成有機(jī)層，在基板的整個面上容易形成有機(jī)層，材料使用效率高，所以能夠比較容易形成大型顯示器。另外，適合于低成本制造。在通過噴墨法形成有機(jī)層的層疊膜時，需要以厚度為數(shù)nm的精度來控制有機(jī)層的厚度，同時進(jìn)行成膜。在有機(jī)層的形成步驟中，將噴墨裝置設(shè)置在無塵室內(nèi)，在無塵的環(huán)境下進(jìn)行有機(jī)材料的涂覆(印刷)，不使異物混入有機(jī)層中。然而，存在于用于涂覆有機(jī)材料的裝置內(nèi)部或無塵室的內(nèi)部環(huán)境的、非常小的顆粒等異物混入有機(jī)層中。因此，在形成有機(jī)層時，難以完全抑制異物混入有機(jī)層。因此，異物混入成品了的有機(jī)EL顯示器的有機(jī)層，存在有因該異物造成的缺陷的像素。若對在有機(jī)層中混入了異物的有機(jī)層EL元件的陽極和陰極施加電壓，則通過異物在電極間發(fā)生漏電流。由于該漏電流，該像素中的流過有機(jī)層(發(fā)光層)的電流量減少，該像素整體的發(fā)光層的亮度下降。若為了抑制亮度下降而增加流過電極間的電流量，則需要額外的電流，從而有機(jī)EL顯示器的功耗上升，發(fā)光效率下降?；蛘?，由于因異物產(chǎn)生的漏電流增加而局部發(fā)熱，所以有時異物周圍因熱而引起有機(jī)層的劣化。根據(jù)情況的不同，存在流過異物的電流量大，沒有電流流過有機(jī)層，含有異物的像素不發(fā)光的情況。作為使混入有機(jī)層的異物所產(chǎn)生的漏電流不發(fā)生的方法，已知有激光修復(fù)法。激光修復(fù)法是指，通過對有機(jī)層中混入異物的部分或有機(jī)層中混入異物的部分的周圍照射激光，從而防止異物所產(chǎn)生的漏電流。通過用激光照射異物或異物周圍，使異物混入的部分的電極或異物外周部絕緣，從而能夠防止因異物產(chǎn)生的漏電流。例如，專利文獻(xiàn)I中記載了下述方法，即，對含有異物的有機(jī)層照射飛(姆托)秒激光，僅在含有異物的部分產(chǎn)生多光子吸收。圖11(a)表示對異物10照射飛秒激光的剖面圖，圖11(b)是圖11(a)的俯視圖。如圖11所示，使激光12的焦點(diǎn)僅對準(zhǔn)異物而照射激光。使用激光僅使異物混入了的附近絕緣，但通過不損傷異物周圍而使異物附近絕緣，從而能夠抑制因異物產(chǎn)生的漏電流。
另外，在專利文獻(xiàn)2中記載了下述方法，即，不使用激光直接照射含有異物的有機(jī)層，而通過激光去除包圍異物的外周部的異物外周部的電極。圖12(a)是表示使用激光照射異物外周部的電極的剖面圖，圖12(b)是表示圖12(a)的俯視圖。使用激光12去除異物周圍11的陰極5，所以激光不直接照射異物。因此，不損傷異物而使異物周圍11絕緣，從而能夠防止漏電流的產(chǎn)生。進(jìn)而，專利文獻(xiàn)3公開了下述方法，S卩，不對異物直接照射激光，而對混入了異物的部分的周邊的有機(jī)層照射能量弱的激光。圖13是表示對異物的周圍照射能量弱的激光時的狀態(tài)的圖(俯視圖)。如圖13所示，對異物10的周邊22照射激光時，激光的能量從照射區(qū)域傳遞到缺陷部。通過進(jìn)行多次這樣的照射(在圖13中，進(jìn)行四次照射(I) (4))，在異物10的周圍形成高電阻區(qū)域21。在高電阻區(qū)域21，電流無法流過。因此，通過對異物周圍照射弱能量激光，從而能夠防止因異物造成的從陽極至陰極的漏電流。同樣，已知有通過對異物或異物周圍，或者透明電極照射激光，從而修復(fù)缺陷像素的技術(shù)(專利文獻(xiàn)4 10)。如專利文獻(xiàn)I 10所示，在異物混入有機(jī)層而產(chǎn)生缺陷時，通過對異物或異物周圍照射激光，從而能夠使激光照射部絕緣，防止缺陷部處的漏電流，即修復(fù)缺陷部。但是，在專利文獻(xiàn)I 3中，沒有記載進(jìn)行照射的激光的焦點(diǎn)位置的調(diào)整方法。激光照射位置不適當(dāng)?shù)那闆r下，由于照射激光，反而形成缺陷。例如，專利文獻(xiàn)I記載的方法中，若照射有機(jī)層的激光的焦點(diǎn)位置發(fā)生偏移，則有可能損傷有機(jī)層，并破壞有機(jī)層?；蛘?，有時由于對異物照射激光而使異物變碎擴(kuò)散，發(fā)生漏電流增大。另外，專利文獻(xiàn)2記載的方法中，由于不對激光焦點(diǎn)進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，所以焦點(diǎn)有可能偏移到電極下面的有機(jī)層。此時，存在下述情況，即，有機(jī)層被照射激光，有機(jī)層產(chǎn)生劣化?；蛘?，在電極上部形成有密封層的情況下，有時密封層被照射激光，密封層劣化，在照射了激光的像素上產(chǎn)生缺陷。進(jìn)而，在專利文獻(xiàn)3記載的方法中，與專利文獻(xiàn)2同樣，不對激光焦點(diǎn)進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，所以有時形成在電極附近的有機(jī)層或密封膜被照射激光，有機(jī)層或密封層被損傷，產(chǎn)生缺陷像素。
作為調(diào)整激光的焦點(diǎn)位置的方法有下述方法，即，如專利文獻(xiàn)11所示，對于被加工材料，改變被加工材料與激光頭之間的距離的同時照射激光，形成加工圖案，由此判斷激光的焦點(diǎn)位置。在專利文獻(xiàn)11中，改變被加工材料與激光頭之間的距離，同時對被加工材料照射激光而進(jìn)行線狀的溝槽加工。圖14表示改變被加工材料與激光頭之間的距離的同時照射激光，在被加工材料上形成溝槽101的狀態(tài)。沿箭頭100，形成多個溝槽。如圖14所示，對應(yīng)于被加工材料與激光頭之間的每個距離而形成加工圖案(線狀的溝槽101)之后，通過使用安裝在激光頭上的靜電電容傳感器，測量靜電電容的變化，決定激光的焦點(diǎn)位置。進(jìn)而，作為調(diào)整激光的焦點(diǎn)位置的方法，提出了通過測量由有機(jī)EL裝置的反射膜反射的激光的返回時間，設(shè)定激光的焦點(diǎn)位置的方法(專利文獻(xiàn)12)。專利文獻(xiàn)I :(日本)特開2008-235178號公報專利文獻(xiàn)2 :(日本)特開2005-276600號公報專利文獻(xiàn)3 :(日本)特開2004-227852號公報 專利文獻(xiàn)4 :(日本)特開2008-34264號公報專利文獻(xiàn)5 :(日本)特開2006-221982號公報專利文獻(xiàn)6 :美國公開2006/0178072專利文獻(xiàn)7 :(日本)專利第4733235號公報專利文獻(xiàn)8 :美國公開2006/0076555號公報專利文獻(xiàn)9 :美國公開2010/0062550號公報專利文獻(xiàn)10 :美國公開2010/0140644號公報專利文獻(xiàn)11 :(日本)特開平10-076384號公報專利文獻(xiàn)12 :(曰本)特開2010-9998號公報然而，專利文獻(xiàn)11記載的方法是通常的被加工材料中的使激光焦點(diǎn)合焦的方法，而且是使激光的焦點(diǎn)與被加工材料的表面合焦的方法。有機(jī)EL顯示器的激光修復(fù)中，需要使激光的焦點(diǎn)與顯示器內(nèi)部的異物或電極合焦，所以無法使用專利文獻(xiàn)4那樣的方法。另夕卜，考慮到照射激光時的激光照射部所受的損傷，無法使激光的焦點(diǎn)合焦。專利文獻(xiàn)12記載的方法，需要在有機(jī)EL元件中設(shè)置反射膜，較煩瑣。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決上述現(xiàn)有的問題，其目的在于提供，在對因有機(jī)EL顯示器的有機(jī)EL元件中混入異物造成的缺陷部進(jìn)行修復(fù)中，能夠調(diào)整激光的焦點(diǎn)位置，不損傷有機(jī)層或密封膜等而修復(fù)缺陷的有機(jī)EL顯示器的制造方法。為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器的制造方法包括第一步驟，在形成有機(jī)EL顯示器之后，檢測面板內(nèi)的黑點(diǎn)像素；第二步驟，在所述面板內(nèi)的黑點(diǎn)像素中檢測異物；第三步驟，對于所述黑點(diǎn)像素周圍的像素照射激光，將所述激光的焦點(diǎn)位置規(guī)定在透明電極；以及第四步驟，以所述規(guī)定了的激光的焦點(diǎn)對黑點(diǎn)內(nèi)的異物或異物周圍照射激光。另外，上述的有機(jī)EL顯示器的制造方法中，在第三步驟中，在縮短激光的物鏡與像素的間距的同時，使照射激光而形成有加工痕的黑點(diǎn)像素周圍的像素發(fā)光時，求出由于激光的加工而成為非發(fā)光的區(qū)域的直徑為激光產(chǎn)生的加工痕的I. 5倍以下時的、物鏡與像素之間的間距，基于求出的間距確定激光的焦點(diǎn)位置。
根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器的制造方法，在對具有混入了異物的有機(jī)層的有機(jī)EL元件的電極或電極周圍照射激光而進(jìn)行修復(fù)時，能夠使激光的焦點(diǎn)位置位于透明電極而進(jìn)行激光照射。因此，通過激光修復(fù)能夠高成品率地制造有機(jī)EL顯示器。


圖I是表示本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器的的制造方法的流程的圖。圖2是表示黑點(diǎn)像素和其周圍的正常像素的圖。圖3是表示激光的焦點(diǎn)位置與電極位置一致的狀態(tài)的圖。圖4是表示激光的焦點(diǎn)位置與電極位置不一致，而焦點(diǎn)與有機(jī)層一致的狀態(tài)的圖。圖5是有機(jī)EL顯示器的剖面圖。 圖6是表示在有機(jī)EL顯示器的制造步驟中異物混入有機(jī)層的狀態(tài)的立體圖。圖7表示在有機(jī)EL顯示器的制造步驟中異物混入有機(jī)層的狀態(tài)的剖面圖。圖8是表示有機(jī)層中混入了異物的有機(jī)EL顯示器的剖面圖。圖9(a)是表示在本發(fā)明實(shí)施方式I中改變激光的焦點(diǎn)并照射激光后的激光加工狀態(tài)的外視圖，圖9(b)是表示在本發(fā)明實(shí)施方式I中，改變激光的焦點(diǎn)并照射激光后，使像素發(fā)光時的激光加工部的非發(fā)光的狀態(tài)的圖。圖10 (a)是表示在本發(fā)明實(shí)施方式2中改變激光的焦點(diǎn)并照射激光后的激光加工狀態(tài)的外視圖，圖10(b)是表示在本發(fā)明實(shí)施方式2中，改變激光的焦點(diǎn)并照射激光后，使像素發(fā)光時的激光加工部的非發(fā)光的狀態(tài)的圖。圖11 (a)是對混入有機(jī)層的異物照射了激光的剖面圖，圖11 (b)是對混入有機(jī)層的異物照射了激光的俯視圖。圖12(a)是對混入有機(jī)層的異物的周圍的電極照射了激光的剖面圖，圖12(b)是對混入有機(jī)層的異物的周圍的電極照射了激光的俯視圖。圖13是對于混入有機(jī)層的異物，對混入異物的部分的周邊的有機(jī)層照射了能量弱的激光的俯視圖。圖14是改變激光的焦點(diǎn)，同時形成了線狀的溝槽的圖。標(biāo)記說明I 基板2絕緣膜3 陽極4有機(jī)層5 陰極6密封層7濾色片8密封玻璃10 異物12 激光21高電阻區(qū)域
22異物的周圍24黑點(diǎn)像素25、28鄰接像素26,27由激光產(chǎn)生的點(diǎn)狀加工痕29焦點(diǎn)位置30 隔堤40、43 直徑41點(diǎn)(加工痕)44,56由于焦點(diǎn)位置被調(diào)整到透明陰極的激光的照射而造成的非發(fā)光區(qū)域 46點(diǎn)(非發(fā)光區(qū)域)50加工痕的寬度51加工痕53非發(fā)光區(qū)域的寬度55非發(fā)光區(qū)域100表示激光頭和被加工材料之間的間隔的大小的箭頭101 溝槽
具體實(shí)施例方式以下，參照附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。I.本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器的制造方法如圖I的流程圖所示，本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器的制造方法包括第一步驟(SI)，在形成有機(jī)EL顯示器后，檢測面板內(nèi)的黑點(diǎn)的像素；第二步驟(S2)，在通過第一步驟檢測出的面板黑點(diǎn)的像素內(nèi)，檢測異物；第三步驟(S3)，對于第一步驟檢測出的黑點(diǎn)像素周圍的像素照射激光并規(guī)定激光的焦點(diǎn)；以及第四步驟(S4)，以在第三步驟規(guī)定的激光焦點(diǎn)對在第二步驟檢測出的黑點(diǎn)內(nèi)的異物或異物周圍照射激光。各步驟的細(xì)節(jié)如下所述。在第一步驟(SI)中，在制作了有機(jī)EL顯示面板后，使該面板發(fā)光，提取含有不發(fā)光的黑點(diǎn)的像素。面板的黑點(diǎn)的檢測方法并不特別限定，但是有下述方法，即，使面板發(fā)光，通過高分辨率的照相機(jī)或高感光度照相機(jī)等，記錄面板發(fā)光的圖像，從記錄的圖像中提取黑點(diǎn)部。作為高感光度照相機(jī)的例子包括冷卻CCD照相機(jī)等蓄積型高感光度照相機(jī)、及EMCCD照相機(jī)等倍增型高感光度照相機(jī)。另外，也可以通過圖案檢查機(jī)來進(jìn)行黑點(diǎn)提取。圖案檢查方法包括通過比較相鄰的像素來檢測異物的“芯片到芯片(Die to Die)檢查方式”或通過比較像素和設(shè)計數(shù)據(jù)來檢測異物的“芯片到數(shù)據(jù)庫(Die to Database)檢查方式”?；蛘?，也可以僅僅使用顯微鏡通過目視觀察發(fā)光狀態(tài)的面板，提取黑點(diǎn)部。能夠使用以上任一方法，提取面板中的不發(fā)光的黑點(diǎn)部的位置。在第二步驟(S2)中，檢測存在于成為面板的黑點(diǎn)的像素中的異物，該面板的黑點(diǎn)是在第一步驟(SI)中提取出的黑點(diǎn)。像素中的異物檢測方法并不特別限定，可以使用在第一步驟中說明了的、基于高感光度照相機(jī)的觀察或基于圖案檢查機(jī)的方法。另外，在檢測細(xì)微的異物的情況下，優(yōu)選通過暗視野顯微鏡觀察、白色干涉測量方法、或激光顯微鏡等進(jìn)行檢查。通過這些方法，確定像素中異物的位置。
在第三步驟(S3)中，對在第一步驟檢測出的黑點(diǎn)像素周圍的正常(非黑點(diǎn))的像素照射激光，并規(guī)定激光的焦點(diǎn)。圖2表示黑點(diǎn)像素及其周圍正常發(fā)光的像素。如圖2所示，被照射激光的像素可以是與黑點(diǎn)像素24橫向鄰接的像素25，也可以是與其縱向鄰接的像素28。優(yōu)選的是，像素25或像素28中的激光照射位置是與黑點(diǎn)像素24中存在異物10的位置相同的位置(26、27)。這是因?yàn)椋ㄟ^取相同的位置，即使有機(jī)EL元件的有機(jī)層的膜厚不均勻，在該位置的膜厚也相近似，所以能夠高精度地調(diào)整激光的焦點(diǎn)位置。另外，由于照射了激光的部位成為非發(fā)光部，所以也可以對遠(yuǎn)離像素的中心部的端部照射激光，而使不發(fā)光部不顯眼。照射的激光通過濾色片對像素部進(jìn)行照射，所以需要采用具有通過濾色片的波長的激光。因此，在存在通常的R、G、B的濾色片的情況下，優(yōu)選的是選擇800nm以上波長的激光。例如，能夠選擇基本波長1064nm的閃光燈激勵Nd: YAG激光。另外，為了盡量抑制激光照射部位的損傷，優(yōu)選使用短脈寬的激光。例如，具有800nm以上的波長的同時，與YAG激光相比脈寬短的飛秒激光或飛秒激光比YAG激光優(yōu)選。 脈寬越短，激光照射時間越短，越能夠降低激光照射時的熱造成的損傷。照射的激光的優(yōu)選的能量密度根據(jù)有機(jī)層的材料或厚度等變化，所以進(jìn)行適當(dāng)設(shè)定以在照射激光時能夠形成加工痕。首先，使激光照射用的物鏡與像素間隔下述距離，即，即使對像素照射激光也不會形成由激光產(chǎn)生的加工痕的距離。所謂加工痕是指，即使不使像素發(fā)光也能夠看見的由激光加工造成的痕跡。接著，將物鏡與像素之間的距離縮短I Pm而照射激光。在照射了激光后，將物鏡與像素之間的距離再縮短I Pm，對不同的照射部位照射激光。依次縮短物鏡與像素之間的距離，同時反復(fù)照射激光，沿直線形成點(diǎn)狀的多個加工痕。縮短物鏡與像素之間的距離，同時照射激光，直至即使照射激光，在像素上也不留下加工痕為止。每次縮短的物鏡與像素之間的間距的距離也可以不是I U m而可以適當(dāng)調(diào)整。另外，也可以連續(xù)縮短物鏡與像素之間的距離并照射激光，形成線狀的加工痕。在形成由激光照射產(chǎn)生的加工痕后，使該像素發(fā)光。通過顯微鏡等觀察通過激光加工出的部位(加工痕)的發(fā)光狀態(tài)。由于通過激光加工像素的陰極部或其周邊，通過激光形成了加工痕的部位成為高電阻狀態(tài)，或者有機(jī)層劣化，所以不發(fā)光。由于變更激光的焦點(diǎn)的同時，照射激光，所以不發(fā)光部的面積不恒定。也就是說，存在下述傾向，若縮短物鏡與像素之間的間距，則不發(fā)光的面積從與激光的加工面積大致相同的狀態(tài)擴(kuò)大到激光的加工面積的2倍以上，若進(jìn)一步縮短間距，則不發(fā)光部的面積變小。通過縮短物鏡與像素之間的間距，使激光的焦點(diǎn)從像素的陰極向位于該陰極下方的有機(jī)層移動，所以對有機(jī)層的損傷擴(kuò)大并且不發(fā)光部的面積變大。若進(jìn)一步靠近，則激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)比有機(jī)層更低的層，所以對有機(jī)層的損傷降低，不發(fā)光部的面積再次變小。圖3表示激光12的激光焦點(diǎn)位置29位于陰極5的狀態(tài)。若使激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)陰極而照射激光，則能夠不損傷有機(jī)層等其他層而使陰極絕緣。在依次縮短物鏡與像素之間的間距并照射激光，形成點(diǎn)狀的加工痕后，使該像素發(fā)光。若觀察由照射激光形成的點(diǎn)狀的不發(fā)光部的狀態(tài)，則能夠觀察到不發(fā)光部的面積急劇變大。通過實(shí)驗(yàn)確認(rèn)了下述情況，即，隨著縮短物鏡與像素之間的間距，不發(fā)光部的直徑從與由激光加工造成的點(diǎn)狀加工痕為大致相同的直徑急劇變大。具體而言確認(rèn)到若縮短物鏡與像素之間的間距，則產(chǎn)生其直徑比激光加工造成的點(diǎn)狀的加工痕的直徑的I. 5倍大的不發(fā)光部。另外，根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果可知，如果是直徑為由激光造成的點(diǎn)狀的加工痕的直徑的I. 5倍以下的不發(fā)光部，則目視上不顯眼。估計這是由于來自有機(jī)層的光帶角度地擴(kuò)展，所以根據(jù)陰極與EL層的距離，從清晰可見的距離觀察時，如果是直徑為點(diǎn)狀的加工痕的直徑的I. 5倍以下的不發(fā)光部，則由于不發(fā)光部的周圍的發(fā)光重疊而不顯眼。因此，只要不發(fā)光部的區(qū)域的直徑為點(diǎn)狀的加工痕的直徑的I. 5倍以下，就判斷為激光的焦點(diǎn)僅對準(zhǔn)陰極部，并且不損傷有機(jī)層等其他區(qū)域而對陰極進(jìn)行加工。不發(fā)光部的直徑擴(kuò)大到I. 5倍以上時的焦點(diǎn)位置或者不發(fā)光部的面積再次減少的焦點(diǎn)位置被判斷為激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)了陰極以外的位置。若以這樣的焦點(diǎn)位置照射激光，則損傷有機(jī)層或其他區(qū)域，有機(jī)EL的元件劣化。圖4表示激光焦點(diǎn)位置29未處于陰極5而處于有機(jī)層4的狀態(tài)。若是這樣的狀態(tài)，則損傷有機(jī)層4，有機(jī)層4劣化，即不發(fā)光部的面積擴(kuò)大。如上述那樣，在具有黒點(diǎn)的像素周圍的像素中，確定激光的焦點(diǎn)僅對準(zhǔn)陰極的條件，規(guī)定激光的焦點(diǎn)位置。在第四步驟(S4)中，對在第二步驟中檢測出的黒點(diǎn)部的異物或異物周圍照射激光。若對異物照射激光，則有可能通過激光而使異物受到損傷，異物被破壞，缺陷部擴(kuò)大。因 此，優(yōu)選以包圍異物周圍的方式照射激光。激光為聚光型的情況下，移動加工臺，并以在異物周圍描繪的方式進(jìn)行加工。在激光的光學(xué)系統(tǒng)中插入狹縫和成像透鏡而進(jìn)行狹縫加工的情況下，使狹縫為矩形形狀并以包圍異物的方式多次進(jìn)行矩形形狀的加工即可。進(jìn)而，也可以設(shè)置能使激光帶狀照射的掩膜以取代狹縫，通過激光對異物的周圍進(jìn)行整體加工。另外，在異物的大小是數(shù)μ m左右的微小異物的情況下，也可以對異物照射激光。在對異物或異物的周圍照射激光時，激光焦點(diǎn)位置位于在第三步驟規(guī)定的激光的焦點(diǎn)位置，即將激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)陰極(透明電極)即可。在存在多個異物的情況下，也可能對各異物重復(fù)進(jìn)行激光的照射。在對黑點(diǎn)部的異物或異物周圍照射激光后，使黒點(diǎn)部發(fā)光，并確認(rèn)是否再次發(fā)光。對于再次發(fā)光的確認(rèn)，與第一步驟的檢測面板內(nèi)的黒點(diǎn)的方法同樣，通過基于高分辨率的照相機(jī)或高感光度照相機(jī)的觀察或圖案檢測來確認(rèn)即可。另外，也可以通過顯微鏡進(jìn)行目視確認(rèn)。對具有黒點(diǎn)部的像素的異物照射的激光是使其焦點(diǎn)對準(zhǔn)陰極部而進(jìn)行照射，所以僅陰極部被激光破壞或性質(zhì)改變而成為高電阻。因此，不再產(chǎn)生由異物造成的漏電流，應(yīng)該能夠確認(rèn)到再次發(fā)光此時，若無法確認(rèn)到再次發(fā)光，則再次返回到第二步驟，確認(rèn)是否漏檢具有黒點(diǎn)部的像素中的異物，若檢測出異物，如第四步驟那樣對異物照射激光。在本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器的制造方法中，陰極和陽極之間的位置關(guān)系也可以相互顛倒。另外，依次縮短物鏡和像素之間的間距并照射激光，但不必限定于此，也可以依次擴(kuò)大物鏡和像素之間的間距并照射激光。2.本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器
本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器是通過上述的本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器的制造方法而制造出的有機(jī)EL顯示器。本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器為頂部發(fā)光型，具有基板及呈矩陣狀配置在基板上的有機(jī)EL元件。如圖5的剖面圖所示，有機(jī)EL元件包括絕緣膜2，配置在含有驅(qū)動電路的基板I上；陽極3，配置在所述絕緣膜上；有機(jī)層4，配置在陽極上；透明陰極5，配置在有機(jī)層4上；密封層6，配置在透明陰極5上；以及濾色片7，配置在密封層上。另外，有機(jī)EL元件也可以具有用于規(guī)定有機(jī)層的隔堤。另外，有機(jī)EL顯示器由配置在濾色光片7上的密封玻璃8密封?；錓是絕緣性的板。另外，基板中也可以內(nèi)置與各像素連接的薄膜晶體管(TFT)。內(nèi)置于基板的TFT的各個TFT被絕緣。各像素通過接觸孔與TFT連接。陽極是配置在基板I上的導(dǎo)電性部件。另外，陽極優(yōu)選具有光反射性。作為這樣 的陽極的材料的例子包括APC合金(銀、鈀、銅的合金)、ARA (銀、銣、金的合金)、MoCr (鑰 和鉻的合金)、NiCr (鎳和鉻的合金)等。另外，陽極3通過接觸孔與TFT的電極連接。有機(jī)層4具有包含有機(jī)發(fā)光材料的有機(jī)發(fā)光層。優(yōu)選的是,有機(jī)發(fā)光層中所含有的有機(jī)發(fā)光材料是能夠利用涂覆法形成的高分子有機(jī)發(fā)光材料。高分子有機(jī)發(fā)光材料的例子包括聚對苯こ炔及其衍生物、聚こ炔及其衍生物、聚苯撐及其衍生物、聚對苯撐こ炔及其衍生物、聚3-己基噻吩及其衍生物、聚弗及其衍生物等。另外，有機(jī)發(fā)光層根據(jù)有機(jī)EL元件的配置位置而發(fā)出紅、綠或藍(lán)色的任ー種光。有機(jī)層4也還可以具有空穴輸入層、中間層、電子輸送層等。在有機(jī)層4的形成中，如圖6的立體圖或圖7的剖面圖所示，異物10可能混入有機(jī)層4。隔堤30是用于規(guī)定有機(jī)層4的絕緣性障壁。隔堤也可以是對感光性材料的抗蝕性材料通過曝光、顯像，進(jìn)行圖案化而形成的。陰極5是配置在有機(jī)層上的導(dǎo)電性的透明部件。這樣的透明電極的材料的例子包括ITO或IZO等。密封層6是用于保護(hù)有機(jī)層不受水或氧影響的部件。作為密封層的材料的例子包括氣化娃(SiNx)等無機(jī)物或UV硬化樹脂等有機(jī)物。濾色片7是用于從有機(jī)層發(fā)出的光中選擇性地僅提取特定波長的光的層。從有機(jī)層發(fā)出的光通過濾色片，由此能夠?qū)崿F(xiàn)高色彩還原性。濾色片的顔色根據(jù)有機(jī)EL元件發(fā)出的顏色適當(dāng)選擇。具體而言，具有發(fā)出紅色光的有機(jī)層的有機(jī)EL器件具有紅色的彩色濾光片，具有發(fā)出緑色光的有機(jī)層的有機(jī)EL器件具有緑色的彩色濾光片，具有發(fā)出藍(lán)色光的有機(jī)層的有機(jī)EL器件具有藍(lán)色的彩色濾光片。作為濾色片的材料例如為彩色抗蝕劑。另外，濾色片的厚度為約I μ m。以下，參照附圖，說明本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器的制造方法的實(shí)施方式。在實(shí)施方式中詳細(xì)說明使上述的有機(jī)EL顯示器發(fā)光，提取黑點(diǎn)，在該黑點(diǎn)內(nèi)檢測出異物后的第三步驟(規(guī)定以激光使異物周圍絕緣的激光焦點(diǎn)位置的步驟)。(實(shí)施方式I)圖2是表示黒點(diǎn)像素24、與其鄰接的正常像素25及鄰接像素28的圖。如圖2所示，在第一歩驟檢測具有不發(fā)光部的像素即黑點(diǎn)像素。如圖8的剖面圖所示，異物10混入黑點(diǎn)像素的內(nèi)部。
由于對異物部的陰極照射激光可以使陰極被破壞或成為高電阻，所以通過第三步驟對黑點(diǎn)像素11周圍的正常像素照射激光，并規(guī)定激光的焦點(diǎn)。為了抑制對像素的破壞，對像素照射的激光采用飛秒等極短脈沖激光。照射激光的時間非常短，所以能夠抑制因熱造成的損傷。需要使激光通過濾色片，所以激光的波長采用可通過濾色片的800nm以上的波長的激光。
由于形成有因照射激光產(chǎn)生的加工痕的部分或其周邊不發(fā)光，所以需要盡量減小激光的照射徑。通過物鏡等縮小激光的光徑，以微小的點(diǎn)照射激光。對于激光的縮小，適當(dāng)選擇物鏡來進(jìn)行縮小即可?？s小激光的光徑，以形成下述的激光加工痕即可，即，在使像素發(fā)光時，所述激光加工痕所造成的不發(fā)光部為可忽視的程度。優(yōu)選在物鏡與像素之間的間距大的狀態(tài)下進(jìn)行最初的激光照射。若照射激光后，未留下加工痕，則逐步縮小間距并照射激光，縮小間距直至形成激光的加工痕為止。在形成激光的加工痕后，使加工臺沿一定方向移動，再次將物鏡與像素之間的間距縮小I μ m并照射激光,而且形成加工痕。再次使加工臺移動,將間距縮小Iym并照射激光。這樣，每次Iym地縮小物鏡與像素之間的間距并照射激光，持續(xù)上述動作直至不形成由激光產(chǎn)生的加エ痕為止。形成了由激光產(chǎn)生的點(diǎn)狀的加工痕串后，使照射了激光的像素發(fā)光，觀察因激光的加工痕造成的不發(fā)光部。觀察到隨著縮小物鏡與像素之間的間距，不發(fā)光部的面積變大，而進(jìn)ー步縮小距離后面積再次變小。首先，若將激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)陰極附近，則陰極被破壞或成為高電阻，該部位成為不發(fā)光部。隨著縮小間距，激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)有機(jī)層，有機(jī)層受到損傷。因此，不發(fā)光部的面積變大。進(jìn)ー步縮小間距后，激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)有機(jī)層以下的區(qū)域，所以不發(fā)光部的面積再次縮小。最終，從激光的加工焦點(diǎn)偏移，不再形成加工痕。圖9 (a)表示對黑點(diǎn)像素的相鄰像素照射激光而形成的、沿直線的點(diǎn)41。表示了在圖9中從左向右，縮小物鏡與像素之間的間距的同時照射激光而形成點(diǎn)的狀態(tài)。圖9(b)表示使像素發(fā)光時的不發(fā)光的點(diǎn)46 (不發(fā)光部)的狀態(tài)。如圖9(b)所示，縮短了物鏡與像素之間的距離時，不發(fā)光部的面積急劇變大。如果不發(fā)光部的直徑43為激光的加工痕的直徑40的I. 5倍以下(參照標(biāo)號44)，則能夠判斷為激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)了透明陰極，將此時的焦點(diǎn)規(guī)定為激光的焦點(diǎn)。如上述那樣規(guī)定激光的焦點(diǎn)位置，如圖11所示，在第四步驟對異物照射激光，使透明電極絕緣而修復(fù)由異物造成的缺陷。或者，在異物較大的情況下，優(yōu)選如圖12所示那樣，以包圍異物周圍的方式照射激光。這是為了抑制因激光使異物受到損傷，異物被破壞，缺陷擴(kuò)大。此時，激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)陰極，所以能夠不損傷有機(jī)層等，僅對透明陰極照射激光。(實(shí)施方式2)在實(shí)施方式2中，不像在實(shí)施方式I的第三步驟中形成點(diǎn)狀的激光加工痕，而是形成為條狀。如實(shí)施方式I那樣，在物鏡與像素之間的間距大的狀態(tài)下，照射激光。如果照射激光后，未形成加工痕，則在縮小間距的同時照射激光，靠近到形成激光加工痕為止。形成激光的加工痕后，沿一定方向以一定速度移動加工臺，而且在以一定速度縮小物鏡與像素之間的間距的同時照射激光。由于移動加工臺的同時照射激光，所以形成線狀的加工痕。
圖10(a)表示以一定速度縮小物鏡與像素之間的間距，而且移動加工臺，同時照射激光的情形。如圖10(a)所示，在形成由激光產(chǎn)生的線狀的加工痕51后，使照射了激光的像素發(fā)光，并觀察由激光的加工痕造成的不發(fā)光部的狀態(tài)。圖10(b)是表示在使形成有激光的加工痕的像素發(fā)光時的不發(fā)光部的區(qū)域55的圖。在圖10中從左向右，縮短物鏡與像素之間的間距的同時照射激光，形成加工痕51。如圖10(b)所示，隨著縮短物鏡與像素之間的間距，不發(fā)光區(qū)域的寬度53急劇變大，然后不發(fā)光區(qū)域的寬度53再次變窄。如實(shí)施方式I中的說明，這是由激光的焦點(diǎn)位置的變化造成的。此時，如果不發(fā)光部(參照標(biāo)號56)的寬度為線狀加工痕的寬度50的I. 5倍以下，則能夠判斷為激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)陰扱，將此時的焦點(diǎn)規(guī)定為激光焦點(diǎn)。即使在實(shí)施方式2，也能夠以使激光的焦點(diǎn)位置位于陰極的方式進(jìn)行規(guī)定，因此在第四步驟，在調(diào)整激光的焦點(diǎn)位置后，對于異物或異物周圍，通過照射激光而使異物的區(qū)域絕緣。此時，激光的焦點(diǎn)對準(zhǔn)陰極，所以能夠不損傷有機(jī)層等，僅對陰極照射激光。
エ業(yè)實(shí)用性在異物等混入有機(jī)層中而形成缺陷部，需要基于激光的修復(fù)的情況下，通過本發(fā)明的有機(jī)EL顯示器的制造方法，能夠調(diào)整激光的焦點(diǎn)位置以使激光對準(zhǔn)缺陷部或缺陷部周圍。因此，根據(jù)本發(fā)明，在有機(jī)EL顯示器的制造中，能夠通過無損傷且降低漏電流，實(shí)現(xiàn)發(fā)光黑點(diǎn)的減少和低功耗，并聞成品率地制造有機(jī)EL顯不器。另外，除了有機(jī)EL顯示器的制造方法以外，也能夠適用于需要局部照射激光而基于絕緣進(jìn)行修復(fù)的器件制造的用途等。本申請基于2011年4月15日在日本提出申請的NO. 2011-090778，在此援引其內(nèi)容。
權(quán)利要求
1.有機(jī)電致發(fā)光顯示器的制造方法，包括第一步驟，在形成有機(jī)電致發(fā)光顯示器之后，檢測面板內(nèi)的黑點(diǎn)像素；第二步驟，在所述面板內(nèi)的黑點(diǎn)像素中檢測異物；第三步驟，對于所述黑點(diǎn)像素周圍的像素照射激光，將所述激光的焦點(diǎn)位置規(guī)定在透明電極；以及第四步驟，以所述規(guī)定了的激光的焦點(diǎn)對黑點(diǎn)內(nèi)的異物或異物周圍照射激光。
2.如權(quán)利要求I所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的制造方法，在所述第三步驟中，縮短激光的物鏡和面板內(nèi)的黑點(diǎn)像素周圍的像素之間的間距，同時照射所述激光，形成由激光產(chǎn)生的加工痕。
3.如權(quán)利要求2所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的制造方法，將在通過激光形成有加工痕的黑點(diǎn)像素周圍的像素中，在使所述像素發(fā)光時，將因激光加工而成為不發(fā)光的區(qū)域直徑為激光的加工痕的直徑的I. 5倍的、所述物鏡與像素之間的間距規(guī)定為激光的焦點(diǎn)位置。
4.如權(quán)利要求2所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的制造方法，在所述第三步驟中，連續(xù)地縮短所述物鏡與面板內(nèi)的黑點(diǎn)像素周圍的像素之間的間距，同時形成線狀的加工痕。
5.如權(quán)利要求2所述的有機(jī)電致發(fā)光顯示器的制造方法，在所述第三步驟中，以一定間隔縮短所述物鏡與面板內(nèi)的黑點(diǎn)像素周圍的像素之間的間距，同時以一定的周期照射激光，形成點(diǎn)狀的加工痕。
全文摘要
一種有機(jī)電致發(fā)光顯示器的制造方法，對于混入有機(jī)EL元件的有機(jī)層中的異物照射激光而使異物周圍絕緣，由此修復(fù)因異物造成的有機(jī)EL元件的缺陷部。在對有異物的像素照射激光前，對有異物的像素周圍的像素，移動激光的焦點(diǎn)的同時照射激光。根據(jù)激光的加工痕和該像素的發(fā)光狀態(tài)，規(guī)定激光的焦點(diǎn)。以該規(guī)定了的焦點(diǎn)對異物照射激光，由此能夠不損傷異物周圍以外的區(qū)域，使異物部絕緣而修復(fù)因異物造成的缺陷。
文檔編號H01L51/56GK102738415SQ20121010146
公開日2012年10月17日 申請日期2012年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月15日
發(fā)明者宮澤和利 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社