透明電極層壓體和包括該透明電極層壓體的觸摸屏面板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種透明電極層壓體和一種包括該透明電極層壓體的觸摸屏面板，尤 其涉及一種具有低的圖案視覺識別度的透明電極層壓體和一種具有所述透明電極層壓體 的觸摸屏面板。
【背景技術(shù)】
[0002] 通常，觸摸屏是配備有專用輸入裝置的屏幕，以接收通過用戶的手指或者手寫筆 觸摸屏幕所輸入的位置。這樣的觸摸屏不使用鍵盤但具有多層層壓體的配置，其中，當(dāng)用戶 的手指或者諸如觸摸筆或者手寫筆的物體觸摸在屏幕上所顯示的特定字符或者位置時，觸 摸屏識別位置且直接接收來自屏幕的數(shù)據(jù)，以便通過其中所存儲的軟件實際處理特定位置 處的信息。
[0003] 為了識別所觸摸的位置而不降低在屏幕上所顯示的圖像的可見性，必須使用透明 電極，其中，通常以預(yù)定的圖案形成傳感圖案。
[0004] 在相關(guān)技術(shù)中已知，作為在觸摸屏面板中所用的透明傳感電極的多種結(jié)構(gòu)。例如， 在觸摸屏面板中可以使用玻璃-ΙΤ0膜-ΙΤ0膜（GFF)結(jié)構(gòu)、玻璃-ΙΤ0膜（GIF)結(jié)構(gòu)或者僅 玻璃（G2)結(jié)構(gòu)。
[0005] 在這些結(jié)構(gòu)中，GFF是最常用的結(jié)構(gòu)且包括由實現(xiàn)X軸和Y軸所需的兩層膜形成 的兩個透明電極（銦錫氧化物，ITO)。G1F包括設(shè)置在玻璃的后表面上的第一 ΙΤ0薄膜且 類似于常規(guī)方法將膜用作第二ITO。G2是通過下列方法形成的結(jié)構(gòu)：將X軸的ΙΤ0薄膜沉 積且圖案化在一個增強玻璃的后表面上，在其上形成絕緣層，以及圖案化Y軸的另一 ΙΤ0薄 膜。在GFF、G1F和G2中的透光率增大，而功耗以該次序減小，因此，對于G2結(jié)構(gòu)的研究在 積極地進(jìn)行。
[0006] 然而，在使用圖案化的透明電極的G2結(jié)構(gòu)中，可以在視覺上相互區(qū)分透明電極的 圖案化的部分和非圖案化的部分（圖案開口）。因此，在圖案化的部分和非圖案化的部分之 間的反射率的差異越大，則越清楚地呈現(xiàn)反射率差異，由此降低了作為顯示元件的外觀可 見性。具體而言，在電容式觸摸面板中，由于圖案化的透明電極形成在顯示器的顯示單元的 整個表面上，故即使使透明電極層圖案化，顯示裝置也需要具有良好的外觀。
[0007] 為了解決這樣的問題，例如，日本公開專利No. 2008-98169公開了一種透明導(dǎo)電 膜，其中，包括兩個具有不同折射率的層的下涂層形成在透明基板和透明導(dǎo)電層之間。此 外，作為其實施方式，上述專利還公開了透明導(dǎo)電膜，其中，折射率為1.7的硅錫氧化物 層（其厚度為l〇nm或者更大）、作為低折射率層的折射率為1. 43的氧化硅層（其厚度為 30nm)，以及折射率為1. 95的ΙΤ0膜（其厚度為15nm)以該次序依次形成。
[0008] 然而，由于在上述專利中公開的透明導(dǎo)電膜中清楚地呈現(xiàn)了在圖案化的部分和非 圖案化的部分之間的反射率的差異，故仍然不足以改善顯示裝置的外觀。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 因此，本發(fā)明的一個目的是提供一種由于各個位置較小的反射率的差異而具有低 的圖案視覺識別度的透明電極層壓體。
[0010] 此外，本發(fā)明的另一個目的是提供一種具有所述透明電極層壓體的觸摸屏面板。
[0011] 通過下列特征實現(xiàn)本發(fā)明的上述目的：
[0012] (1) -種透明電極層壓體，包括：傳感電極，其包括在第一方向上形成的第一圖案 和在第二方向上形成的第二圖案；橋電極，其配置成使第二圖案的獨立的單元圖案電連接； 和絕緣層，其設(shè)置在傳感電極和橋電極之間，其中，金屬圖案形成在暴露于第一圖案和第二 圖案之間的絕緣層上。
[0013] (2)根據(jù)以上（1)所述的透明電極層壓體，其中，所述金屬圖案滿足下式1 :
[0014] [式 1]
[0015] 0.99彡[(在絕緣層上的金屬圖案的面積比）X (金屬圖案的總反射率）+ (1-(在 絕緣層上的金屬圖案的面積比））X (在絕緣層上沒有金屬圖案的部分的總反射率）八傳感 電極和橋電極的總反射率）]< 1.01
[0016] (其中，所述總反射率是將界面（表面）反射率與各自的反射率相加的值）。
[0017] ⑶根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，其中，所述金屬圖案由選自鑰、銀、鋁和 銅中的至少一種金屬形成。
[0018] (4)根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，其中，所述金屬圖案具有20nm至300nm 的厚度。
[0019] (5)根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，其中，通過形成在所述絕緣層中的接觸 孔，所述橋電極使所述第二圖案電連接。
[0020] (6)根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，其中，單元橋電極包括至少一個橋。
[0021] (7)根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，其中，所述單元橋電極的橋具有2μπι至 200 μ m的寬度。
[0022] (8)根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，其中，所述橋電極由具有比所述傳感電 極的導(dǎo)電率高的導(dǎo)電率的材料形成。
[0023] (9)根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，其中，所述橋電極具有20nm至200nm的 厚度。
[0024] (10)根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，其中，所述橋電極由與所述金屬圖案 的材料相同的材料形成。
[0025] (11)根據(jù)以上（10)所述的透明電極層壓體，其中，所述單元橋電極的橋具有2μπι 至20 μ m的寬度。
[0026] (12)根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，其中，通過由與所述金屬圖案的材料 相同的材料形成的位置檢測線，所述傳感電極和所述橋電極被連接到驅(qū)動電路。
[0027] (13)根據(jù)以上⑴所述的透明電極層壓體，還包括在與所述透明電極層壓體的粘 附有透明基板的表面相對的表面上的鈍化層。
[0028] (14)根據(jù)以上（13)所述的透明電極層壓體，其中，所述透明基板還包括在與形成 所述透明電極的表面相對的一側(cè)上的至少一個光學(xué)功能層。
[0029] (15)根據(jù)以上（14)所述的透明電極層壓體，其中，所述光學(xué)功能層是抗反射層和 抗污染層中的至少一個層。
[0030] (16) -種觸摸屏面板，包括根據(jù)以上⑴至（15)中任一項所述的透明電極層壓 體。
[0031] 根據(jù)本發(fā)明的透明電極層壓體，在透明電極層壓體中所包括的各層的厚度被控制 到預(yù)定的范圍，由此通過最小化各個位置的反射率的差異和降低圖案視覺識別度，來獲得 高的透明度。
[0032] 由于上述方面，故當(dāng)透明電極層壓體被應(yīng)用到G2結(jié)構(gòu)的觸摸屏面板時，通過表現(xiàn) 出高透光率和低反射率可有效地使用。
【附圖說明】
[0033] 從結(jié)合附圖進(jìn)行的下列具體描述，將更清楚地理解本發(fā)明的上述和其他目的、特 征和其他優(yōu)點，其中：
[0034] 圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的實施方式的透明電極層壓體的示意平面圖；
[0035] 圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的實施方式的透明電極層壓體的單元體的示意平面圖；和
[0036] 圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的實施方式的透明電極層壓體的各個位置的層壓結(jié)構(gòu)的 示意截面圖。
【具體實施方式】
[0037] 本發(fā)明公開了一種透明電極層壓體，包括：傳感電極，其包括在第一方向上形成的 第一圖案和在第二方向上形成的第二圖案；橋電極，其配置成使第二圖案的獨立的單元圖 案電連接；和絕緣層，其設(shè)置在傳感電極和橋電極之間，其中，金屬圖案形成在暴露于第一 圖案和第二圖案之間的絕緣層上，由此通過最小化各個位置的反射率的差異和降低圖案視 覺識別度，來獲得高的透明度。
[0038] 在下文中，參考實施例和比較實施例，將描述優(yōu)選的實施方式以更具體地理解本 發(fā)明。然而，本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解，這樣的實施方式被提供用來進(jìn)一步理解本發(fā)