一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及化工生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體地說，尤其涉及一種帶有分布器的氧化反應(yīng)爸。
【背景技術(shù)】
[0002]在化工生產(chǎn)中，常會采用一鍋法合成所需物質(zhì)，一鍋法雖然裝置簡單、操作簡便，但也存在一定的問題。一些氧化劑難以與所需被氧化的物質(zhì)接觸，接觸面積小，因此采用一鍋法合成此類反應(yīng)常會造成反應(yīng)不徹底，且耗費大量的時間，合成周期長。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述問題，本實用新型公開了一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，在反應(yīng)釜釜體上方設(shè)置高位槽，氧化劑可以從高位槽中流出并經(jīng)分布器均勻發(fā)散的與被氧化的物質(zhì)接觸，增加了接觸面積，同時能夠反復(fù)循環(huán)的被氧化，反應(yīng)徹底。
[0004]本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
[0005]—種帶有分布器的氧化反應(yīng)爸，包括高位槽1、反應(yīng)爸爸體5、分布器6，所述高位槽I下端連接有管道甲3，所述管道甲3的另一端與所述分布器6連接，所述分布器6位于所述反應(yīng)爸爸體5內(nèi)部。
[0006]優(yōu)選的，所述反應(yīng)釜釜體5底部設(shè)有管道乙10，所述管道乙10的另一端設(shè)置在所述反應(yīng)IlIl體5的上端。
[0007]優(yōu)選的，所述管道乙10上設(shè)有閥門乙8、栗9。
[0008]優(yōu)選的，所述分布器6為圈體，所述分布器6表面均勾分布有若干孔7。
[0009]優(yōu)選的，所述管道甲3及所述分布器6外側(cè)均設(shè)有保護(hù)套4。
[0010]優(yōu)選的，所述管道甲3上設(shè)有閥門甲2。
[0011]優(yōu)選的，所述高位槽I位于所述反應(yīng)釜釜體5的上方。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是:
[0013]本實用新型結(jié)構(gòu)新穎，反應(yīng)釜釜體上方設(shè)有高位槽，釜體內(nèi)設(shè)有分布器，高位槽通過管道與分布器連接，高位槽內(nèi)的氧化劑能夠流下并經(jīng)分布器上均勻分散的孔發(fā)散性地與釜體內(nèi)需被氧化的物質(zhì)充分接觸，增加了接觸面積；釜體下端連接有栗和管道，能夠?qū)⒏w內(nèi)液體循環(huán)抽至釜體內(nèi)進(jìn)行充分的氧化反應(yīng)，反應(yīng)完全；本實用新型適用于各種難以接觸進(jìn)行的反應(yīng)，增加了物質(zhì)之間的接觸時間及面積，適用范圍廣。
【附圖說明】
[0014]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖1中:1、高位槽；2、閥門甲；3、管道甲；4、保護(hù)套；5、反應(yīng)釜釜體；6、分布器；7、孔；8、閥門乙；9、栗；10、管道乙。
【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對本實用新型進(jìn)一步說明:
[0017]一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，包括高位槽1、反應(yīng)釜釜體5、分布器6，所述高位槽I下端連接有管道甲3，所述管道甲3的另一端與所述分布器6連接，所述分布器6位于所述反應(yīng)爸爸體5內(nèi)部。
[0018]所述反應(yīng)釜釜體5底部設(shè)有管道乙10，所述管道乙10的另一端設(shè)置在所述反應(yīng)釜爸體5的上端。
[0019]所述管道乙10上設(shè)有閥門乙8、栗9。
[0020]所述分布器6為圈體，所述分布器6表面均勾分布有若干孔7。
[0021]所述管道甲3及所述分布器6外側(cè)均設(shè)有保護(hù)套4。
[0022]所述管道甲3上設(shè)有閥門甲2。
[0023]所述高位槽I位于所述反應(yīng)釜釜體5的上方。
[0024]如圖1所示，一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，包括高位槽1、反應(yīng)釜釜體5、分布器6，高位槽I設(shè)置在反應(yīng)釜釜體5的上方，分布器6設(shè)置在反應(yīng)釜釜體5內(nèi)部，高位槽I下端連接有管道甲3，管道甲3的另一端與分布器6連通，管道甲3上安裝有閥門甲2 ;反應(yīng)釜釜體5底部設(shè)置有管道乙10，管道10的另一端與反應(yīng)釜釜體5的頂端連通，管道乙10上安裝有閥門乙8和栗9 ;分布器6為圈體，圈體分布器6的表面均勾分散有若干孔7，分布器6和管道3外側(cè)均設(shè)有保護(hù)套4 ;為了防止氧化劑與含鐵材質(zhì)反應(yīng)，所以分布器6和管道3均采用塑料材質(zhì)制成，保護(hù)套4的材質(zhì)為不銹鋼，起到加強固定的作用，保護(hù)套4保護(hù)分布器6的那部分不銹鋼鋼體在與孔7相應(yīng)的的位置也開設(shè)有孔，不會阻礙氧化劑的流出。
[0025]使用時，打開閥門甲2，高位槽I中的氧化劑經(jīng)管道甲3流向分布器6，最后經(jīng)分布器6上若干的孔7均勻分散的流出，與反應(yīng)釜釜體5內(nèi)需氧化的物質(zhì)充分的接觸反應(yīng)；打開閥門乙8，反應(yīng)釜釜體5內(nèi)的液體可以通過栗9被抽至管道乙10中，最終又流到反應(yīng)釜釜體5中，如此，可以反復(fù)循環(huán)的與氧化劑接觸，增加了接觸面積，保證反應(yīng)的充分進(jìn)行。
[0026]本實用新型結(jié)構(gòu)新穎，反應(yīng)釜釜體上方設(shè)有高位槽，釜體內(nèi)設(shè)有分布器，高位槽通過管道與分布器連接，高位槽內(nèi)的氧化劑能夠流下并經(jīng)分布器上均勻分散的孔發(fā)散性地與釜體內(nèi)需被氧化的物質(zhì)充分接觸，增加了接觸面積；釜體下端連接有栗和管道，能夠?qū)⒏w內(nèi)液體循環(huán)抽至釜體內(nèi)進(jìn)行充分的氧化反應(yīng)，反應(yīng)完全；本實用新型適用于各種難以接觸進(jìn)行的反應(yīng)，增加了物質(zhì)之間的接觸時間及面積，適用范圍廣。
[0027]綜上所述，僅為本實用新型的較佳實施例而已，并非用來限定本實用新型實施的范圍，凡依本實用新型權(quán)利要求范圍所述的形狀、構(gòu)造、特征及精神所為的均等變化與修飾，均應(yīng)包括于本實用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，其特征在于:包括高位槽(I)、反應(yīng)釜釜體(5)、分布器(6)，所述高位槽(I)下端連接有管道甲(3)，所述管道甲(3)的另一端與所述分布器(6)連接，所述分布器(6)位于所述反應(yīng)釜釜體(5)內(nèi)部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，其特征在于:所述反應(yīng)釜釜體(5)底部設(shè)有管道乙(10)，所述管道乙(10)的另一端設(shè)置在所述反應(yīng)釜釜體(5)的上端。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，其特征在于:所述管道乙(10)上設(shè)有閥門乙(8)、栗(9)04.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，其特征在于:所述分布器(6)為圈體，所述分布器(6)表面均勾分布有若干孔(7)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，其特征在于:所述管道甲(3)及所述分布器(6)外側(cè)均設(shè)有保護(hù)套(4)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，其特征在于:所述管道甲(3)上設(shè)有閥門甲(2)。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，其特征在于:所述高位槽(I)位于所述反應(yīng)釜釜體(5)的上方。
【專利摘要】本實用新型公開了一種帶有分布器的氧化反應(yīng)釜，屬于化工生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。包括高位槽、反應(yīng)釜釜體、分布器，所述高位槽下端連接有管道甲，所述管道甲的另一端與所述分布器連接，所述分布器位于所述反應(yīng)釜釜體內(nèi)部。本實用新型結(jié)構(gòu)新穎，反應(yīng)釜釜體上方設(shè)有高位槽，釜體內(nèi)設(shè)有分布器，高位槽通過管道與分布器連接，高位槽內(nèi)的氧化劑能夠流下并經(jīng)分布器上均勻分散的孔發(fā)散性地與釜體內(nèi)需被氧化的物質(zhì)充分接觸，增加了接觸面積；釜體下端連接有泵和管道，能夠?qū)⒏w內(nèi)液體循環(huán)抽至釜體內(nèi)進(jìn)行充分的氧化反應(yīng)，反應(yīng)完全；本實用新型適用于各種難以接觸進(jìn)行的反應(yīng)，增加了物質(zhì)之間的接觸時間及面積，適用范圍廣。
【IPC分類】B01J19/00, B01J4/00
【公開號】CN205164698
【申請?zhí)枴緾N201520836920
【發(fā)明人】秦正琦, 呂桂棟, 秦國儒, 曹德富, 秦國嶺, 孫有蓉, 劉正節(jié)
【申請人】高郵市助劑廠
【公開日】2016年4月20日
【申請日】2015年10月17日