1.一種用于低碳烷烴氧化脫氫制烯烴的催化劑，其特征在于，該催化劑為固體非金屬催化劑，由氮原子和硼原子構成，為sp2或sp3雜化的六方氮化硼、立方氮化硼、菱方氮化硼，呈現(xiàn)氮化硼晶體結構；
sp2或sp3雜化的六方氮化硼催化劑通過XRD衍射峰位置確定氮化硼晶體結構，在2θ＝26.75°處顯示六方氮化硼002晶面特征峰，同時在2θ＝41.6°、43.7°、54.9°處存在衍射峰，分別對應六方氮化硼100、101、004晶面；
sp2或sp3雜化的立方氮化硼催化劑通過XRD衍射峰位置確定氮化硼晶體結構，在2θ＝43.30°處顯示立方氮化硼101晶面特征峰，同時在2θ＝50.4°、74.1°、89.9°處存在衍射峰，分別對應立方氮化硼004、110、112晶面；
sp2或sp3雜化的菱方氮化硼催化劑通過XRD衍射峰位置確定氮化硼晶體結構，在2θ＝26.72°處顯示菱方氮化硼002晶面特征峰，同時在2θ＝42.6°、45.6°、55.1°、75.9°處存在衍射峰，分別對應菱方氮化硼100、101、004、110晶面。
2.根據(jù)權利要求1所述的催化劑，其特征在于，所述的催化劑表面被官能化。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的催化劑，其特征在于，所述的低碳烷烴為C2～C6的脫氫反應，具體為乙烷、丙烷、丁烷中的一種或兩種以上混合。
4.一種權利要求2所述的催化劑的優(yōu)化方法，其特征在于，步驟如下：
a)氧化處理：催化劑在空氣或氧氣氣氛中，250-700℃溫度條件下處理0.5～6h；
b)活化處理：將步驟a)預處理得到的催化劑進行活化，提供兩種活化方式：
(I)在250-700℃溫度條件下，將步驟a)預處理得到的催化劑負載質量為催化劑0.5-5wt％的鈉鹽或/和鉀鹽，活化1～12h；
(II)在25～100℃溫度條件下，將步驟a)預處理得到的催化劑用雙氧水處理4-24h；或在20～90℃溫度條件下，將步驟a)預處理得到的催化劑用硝酸回流處理1-4h；
c)純化處理：將步驟b)活化后的催化劑用無機酸、氨水或去離子水洗滌，去掉催化劑存在的雜質以及處理過程引入的雜質。
5.根據(jù)權利要求4所述的優(yōu)化方法，其特征在于，步驟(I)中活化所用氣氛為濕空氣、氫氧混合氣或反應氣。
6.權利要求1或2所述的催化劑在低碳烷烴脫氫制烯烴反應中的應用，其特征在于，步驟如下：
a)催化劑預處理：以O2和N2混合氣對催化劑進行預處理，O2和N2的體積比為0.05:1～0.5:1，處理溫度為400～600℃，時間為0.5～5h；
b)低碳烷烴脫氫反應：以低碳烷烴和O2為原料，反應溫度為400～600℃，常壓下反應，混合氣體積空速為5000～20000h-1，進行催化氧化脫氫反應。
7.權利要求3所述的氮化硼催化劑在低碳烷烴脫氫制烯烴反應中的應用，其特征在于，步驟如下：
a)催化劑預處理：以O2和N2混合氣對氮化硼催化劑進行預處理，O2和N2的體積比為0.05:1～0.5:1，處理溫度為400～600℃，時間為0.5～5h；
b)低碳烷烴脫氫反應：以低碳烷烴和O2為原料，反應溫度為400～600℃，常壓下反應，混合氣體積空速為5000～20000h-1，進行催化氧化脫氫反應。
8.根據(jù)權利要求6所述的應用，其特征在于，所述的原料用N2、He或Ar稀釋。
9.根據(jù)權利要求7所述的應用，其特征在于，所述的原料用N2、He或Ar稀釋。
10.根據(jù)權利要求8或9所述的應用，其特征在于，低碳烷烴脫氫反應的反應溫度為480～580℃。