研磨用組合物和基板的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明設及研磨用組合物和使用其的基板的制造方法。
【背景技術】
[0002] 含有水溶性高分子的研磨用組合物例如可W用于娃基板等基板的研磨。水溶性高 分子起到提高基板的表面的潤濕性的作用，由此，基板的表面的異物的殘留減少。專利文獻 1中公開了含有提高研磨速度、降低霧度水平的水溶性高分子等的研磨用組合物。
[0003] 現(xiàn)有專利文獻
[0004] 專利文獻
[0005] 專利文獻1 ;國際公開第2003/072669號

【發(fā)明內容】

[oood 發(fā)巧要解決的間願
[0007] 使用研磨用組合物進行了研磨的基板的表面有時產(chǎn)生被稱為LPD(光點缺陷， Li曲t Point Defect)的表面缺陷。本發(fā)明發(fā)現(xiàn)研磨用組合物中含有的水溶性高分子的重 均分子量、W及用重均分子量（Mw)/數(shù)均分子量（Mn)表示的分子量分布與LTO的減少水平 相關，是基于此而作出的。需要說明的是，關于該些相關性，專利文獻1沒有任何教導。
[000引本發(fā)明的目的在于提供容易減少研磨后的表面的LPD的研磨用組合物W及基板 的制造方法。此處，"減少LPD"是指減少LPD的數(shù)量或縮小尺寸等含義。
[0009] 用于解決間願的方秦
[0010] 為了達成上述的目的，本發(fā)明的研磨用組合物的特征在于，其含有重均分子量為 1000000 W下、且用重均分子量（Mw)/數(shù)均分子量（Mn)表示的分子量分布不足5.0的水溶 性高分子。
[0011] 優(yōu)選的是，水溶性高分子包含選自纖維素衍生物、淀粉衍生物、聚己締醇、具有聚 己締醇結構的聚合物、具有聚氧亞燒基結構的聚合物、W及主鏈或側鏈官能團中具有氮原 子的聚合物的至少一種。
[0012] 優(yōu)選的是，水溶性高分子包含選自纖維素衍生物、淀粉衍生物、聚己締醇和具有聚 己締醇結構的聚合物的至少一種、W及選自具有聚氧亞燒基結構的聚合物和主鏈或側鏈官 能團中具有氮原子的聚合物的至少一種。
[0013] 研磨用組合物優(yōu)選用于研磨基板的用途。
[0014] 研磨用組合物優(yōu)選用于對基板進行最終研磨的用途。
[0015] 本發(fā)明的基板的制造方法的特征在于，其包括使用上述研磨用組合物研磨基板的 研磨工序。
[001 d 發(fā)巧的效果
[0017] 根據(jù)本發(fā)明，容易減少研磨后的表面的LPD。
【具體實施方式】
[001引 W下，說明將本發(fā)明具體化的實施方式。需要說明的是，本發(fā)明并不限定于W下的 實施方式，可W在不損害發(fā)明的內容的程度內進行適當設計變更。
[0019] 研磨用組合物含有重均分子量為1000000 W下、且用重均分子量（Mw)/數(shù)均分子 量（Mn)表示的分子量分布不足5.0的水溶性高分子。本實施方式的研磨用組合物用于研 磨例如娃基板、化合物半導體基板等基板的用途。此處，基板的研磨工序中例如包括使由單 晶鑄錠切片而成的圓盤狀的基板的表面平坦化的預磨工序（例如，一次研磨或二次研磨） 和將預磨工序后的基板的表面存在的細微凹凸去除而使其鏡面化的最終研磨工序。研磨用 組合物也可W適宜地用于對基板進行預磨的用途、進行最終研磨的用途。本實施方式的研 磨用組合物更加適宜用于對基板進行最終研磨的用途。
[0020] 作為水溶性高分子W外的成分，本實施方式的研磨用組合物還可W含有磨粒、堿 性化合物和水。
[0021] <水溶性高分子>
[0022] 水溶性高分子起到提高研磨面的潤濕性的作用。通過使用分子量分布小的水溶性 高分子，LTO的減少變得容易。如上所述，研磨用組合物使用的水溶性高分子的分子量分布 不足5. 0,優(yōu)選為4. 9 W下，更優(yōu)選為4. 8 W下，進一步優(yōu)選為4. 7 W下，最優(yōu)選為4. 6 W下。 水溶性高分子的分子量分布理論上為1. 0 W上。隨著使用的水溶性高分子的分子量分布增 大，被研磨的表面的潤濕性提高。
[0023] 水溶性高分子的分子量分布也被稱為多分散指數(shù)（Polydispersity Index,PDI)。 重均分子量（Mw)表示聚環(huán)氧己燒換算的重均分子量。重均分子量和數(shù)均分子量、W及分子 量分布表示用通過凝膠滲透色譜法（Gel化rmeation C虹omatography，GPC)測定的值。
[0024] 作為水溶性高分子，可W使用分子中具有選自陽離子基團、陰離子基團和非離子 基團的至少一種官能團的物質。水溶性高分子例如在分子中具有哲基、駿基、酷氧基、橫基、 酷胺結構、季氮結構、雜環(huán)結構、己締結構、聚氧亞燒基結構等。
[0025] 作為水溶性高分子，例如可列舉出；哲己基纖維素等纖維素衍生物、支鏈淀粉或環(huán) 糊精等淀粉衍生物、聚（N-酷基亞燒基亞胺）等亞胺衍生物、聚己締醇、結構的一部分包含 聚己締醇的共聚物、聚己締化咯燒酬、結構的一部分包含聚己締化咯燒酬的共聚物、聚己締 己內酷胺、結構的一部分包含聚己締己內酷胺的共聚物、聚燒基丙締酷胺、聚丙締酷嗎咐、 結構的一部分包含聚丙締酷嗎咐的共聚物、聚氧己締、具有聚氧亞燒基結構的聚合物、該些 的二嵌段型、S嵌段型、無規(guī)型、交替型等具有多種結構的聚合物等。
[0026] 作為得到分子量分布（Mw/Mn)小的水溶性高分子的方法，可列舉出活性陰離子聚 合、活性陽離子聚合和活性自由基聚合。在可W使多種的單體聚合、且工業(yè)制法中的限制少 的方面，活性自由基聚合法是適宜的。
[0027] 作為活性自由基聚合法，可列舉出使用硝基氧化合物等的聚合法、原子轉移自由 基聚合法、W及使用雙硫醋化合物等鏈轉移劑（RAFT劑）的聚合法。
[002引作為可W應用于活性自由基聚合法的單體，可列舉出；（甲基）丙締酸醋類、苯己 締衍生物、包含環(huán)狀酷胺的丙締酷胺衍生物、己酸己締醋、締姪類、W及包含哲基、燒氧基甲 娃燒基、氨基、環(huán)氧基等的各種官能性單體等，使用該些的一種W上而得到的水溶性（親水 性）聚合物均可W成為本發(fā)明的對象。
[0029] 水溶性高分子可W單獨使用一種，也可W組合使用兩種W上。
[0030] 作為水溶性高分子，在使用選自纖維素衍生物和淀粉衍生物的任一種水溶性高分 子（W后稱"水溶性高分子A")時，水溶性高分子A的分子量分布優(yōu)選為4. 7 W下，更優(yōu)選 為4. 5 W下。從潤濕性提高的觀點來看，水溶性高分子A的分子量分布優(yōu)選為2. 0 W上，更 優(yōu)選為3.0 W上，進一步優(yōu)選為4.0 W上。
[0031] 作為水溶性高分子，在使用具有聚氧亞燒基結構的聚合物（W后稱"水溶性高分 子B")時，水溶性高分子B的分子量分布優(yōu)選為2. 0 W下，更優(yōu)選為1. 5 W下。水溶性高分 子B的分子量分布優(yōu)選為1. 05 W上。
[0032] 作為水溶性高分子，在使用選自己締醇和具有聚己締醇結構的聚合物的至少一種 水溶性高分子（W后稱"水溶性高分子C")時，水溶性高分子C的分子量分布優(yōu)選為3. 0 W 下，更優(yōu)選為2. 5 W下，進一步優(yōu)選為2. 3 W下。水溶性高分子C的分子量分布優(yōu)選為1. 05 W上，從潤濕性提高、合成容易性的觀點來看優(yōu)選為1. 3 W上。
[0033] 作為水溶性高分子，在使用主鏈或側鏈官能團（側基）上具有氮原子的聚合物 (W后稱"水溶性高分子D")時，水溶性高分子D的分子量分布優(yōu)選為4. 0 W下，更優(yōu)選為 3. 5 W下，進一步優(yōu)選為3. 0 W下。水溶性高分子D的分子量分布優(yōu)選為1. 05 W上，從潤濕 性提高、合成容易性的觀點來看優(yōu)選為1. 3 W上。
[0034] 由于水溶性高分子的重均分子量為1000000 W下，因此LTO變得容易減少。隨著 水溶性高分子的重均分子量減小，研磨用組合物的穩(wěn)定性進一步提高。另一方面，研磨面的 潤濕性隨著水溶性高分子的重均分子量增大而提高。
[0035] 水溶性高分子A的重均分子量優(yōu)選為750000 W下，更優(yōu)選為700000 W下，進一步 優(yōu)選為500000 W下，最優(yōu)選為300000 W下。水溶性高分子A的重均分子量優(yōu)選為50000 W上，更優(yōu)選為80000 W上，進一步優(yōu)選為100000 W上。
[0036] 水溶性高分子B的重均分子量優(yōu)選為500000 W下，更優(yōu)選為300000 W下，進一步 優(yōu)選為250000 W下（例如，100000 W下）。水溶性高分子B的重均分子量優(yōu)選為1000 W 上，更優(yōu)選為2000 W上，進一步優(yōu)選為5000 W上（例如為10000 W上）。
[0037] 水溶性高分子C的重均分子量優(yōu)選為300000 W下，更優(yōu)選為250000 W下，進一步 優(yōu)選為200000 W下，最優(yōu)選為100000 W下（例如，為50000 W下，