專利名稱：形成低粘著烹飪表面的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及烹飪表面，更具體地，涉及用于形成低粘著烹飪表面的方法和裝置。
背景技術(shù)：
做飯的一個主要煩惱是清洗烹飪用具。當(dāng)烹飪食物時，食物易于粘著到烹飪表面。 該原因是表面本身在顯微水平上是不光滑的。因此，加熱食物使食物微粒烘烤在烹飪表面的粗糙區(qū)域上。為了防止食物粘著，通常在烹飪過程中添加一層液體。該液體通常為油、葷油或奶油，其具有低摩擦性能，并且不易于粘著到烹飪表面。但是，葷油、油和奶油在約392 T (2000C )下開始燒焦并且冒煙，在烹飪過程中還開始蒸發(fā)或吸收到食物中。由于肉通常在400-450 °F (200-230°C)之間的溫度下烹飪，因此結(jié)果是與烹飪表面直接接觸的葷油或油最終蒸發(fā)，再次離開食物。這樣，即使使用葷油和油時，食物最終仍粘著到烹飪表面。烹飪用油和油脂的另一個缺點(diǎn)是，除非將其加熱，否則其不能防止粘著。油通常具有雜質(zhì)，例如水。申請人已經(jīng)確定，在受熱時，油中的水升高到油的表面。這在食物和油之間形成阻擋層。正是該阻擋層阻止了粘著到鍋上。很多食譜都描述要將油加熱到微光，微光正是在油頂上的水阻擋層。在最近幾十年，食物制備中最大的進(jìn)步之一是被稱為“不粘”涂層的開發(fā)。這些中最有名的一個是杜邦公司以商標(biāo)Teflon 銷售的聚四氟乙烯(PTFE)。絕大多數(shù)烹飪表面涂覆有Teflon或類似的不粘涂層。Teflon 材料自身不起化學(xué)反應(yīng)，并且無毒。Teflon 材料具有約0. 1或更小的摩擦系數(shù)，這是任何已知的固體材料最低的。因而Teflon 材料提供了非常有效的不粘表面。但是，至少一個報道聲稱，在炊具溫度達(dá)到約460 T (2370C )之后Teflon開始劣變，并且在炊具溫度達(dá)到約680 °F (350°C )時明顯劣變。參見httD //en. wikipedia. org/ WikiZTeflon0由于該材料可在較高的溫度下劣變，因此加熱受到制約，這可能不利地影響對烹飪的要求。而且，一些近期報道指出了一些對使用PTFE材料的健康方面的關(guān)注。參見 http //en. wikipedia. org/wiki/TefIon0而且，Teflon材料傾向于為相對易損壞的材料， 因而需要保護(hù)操作，以防刮傷。這樣則需要發(fā)現(xiàn)用于提供不粘烹飪表面的替代技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
公開了一種用于形成低粘著烹飪表面的方法。在一個實(shí)施例中，所述方法涉及以下步驟將處理材料或含氫物質(zhì)設(shè)置在表面上，和從所述物質(zhì)提取或產(chǎn)生氫離子，以保持在所述烹飪表面上。所述含氫物質(zhì)可以是涂敷到所述表面的氫化油，提取氫的步驟涉及在所述表面上產(chǎn)生電荷，所述電荷將氫原子拉入或驅(qū)入所述表面中的孔或凹部中。所述電荷可通過使用連接到電源的探針或施用器產(chǎn)生，其中，所述表面的一部分可在產(chǎn)生電荷之前接地。在本發(fā)明的另一個實(shí)施例中，提供施用器，其包括用于向烹飪表面產(chǎn)生高壓電弧的機(jī)構(gòu)。所述高壓將氫離子驅(qū)出涂敷到所述烹飪表面的例如氫化油等所述處理材料，并且使所述帶電離子附著到所述烹飪表面。本發(fā)明的前述和其他特征以及本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)將根據(jù)下面如附圖中示出的優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)描述變得顯而易見。如可意識到的，在都不偏離本發(fā)明的情況下，本發(fā)明能夠在多個方面進(jìn)行修改。因此，附圖和具體實(shí)施方式
應(yīng)被認(rèn)為本質(zhì)是示例性的，而不是限制性的。


為了示出本發(fā)明，附圖顯示了本發(fā)明當(dāng)前優(yōu)選的形式。但是，應(yīng)可理解的是，本發(fā)明不限于附圖中顯示的確切的布置方式和手段。圖1是根據(jù)本發(fā)明一方面的烹飪表面的等軸視圖。圖IA是圖1的烹飪表面的側(cè)剖視圖，示出根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施例形成低粘著烹飪表面的方法。圖IB是圖1的烹飪表面的側(cè)剖視圖，示出用于形成根據(jù)本發(fā)明的低粘烹飪表面的探針的替代位置。圖2A是涂敷預(yù)處理材料之前圖IA的烹飪表面的一部分的放大示意性剖視圖。圖2B是涂敷預(yù)處理材料之后圖2A的該部分烹飪表面的的示意性剖視圖。圖2C是圖2A的烹飪表面的該部分的示意性剖視圖，示出根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施例施加電荷來向烹飪表面填充氫原子。圖2D是圖2A的該部分烹飪表面的示意性剖視圖，示出了根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施例使用氫原子填充的烹飪表面。圖3A和3B是用于向烹飪表面填充處理材料的充電臺的剖視圖。圖4示出用于存放多個烹鍋的充電臺的一個實(shí)施例。圖5A示出根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施例用于形成低粘著表面的裝置的立體視圖。圖5B示出處于打開位置中的圖5A的裝置。圖6A是圖5A的裝置的側(cè)視圖，圖6B是圖5B中圖示的裝置的側(cè)視圖。圖7A是圖6A中的裝置沿7A-7A線的剖視圖。圖7B是圖7A中的裝置沿7B-7B線的剖視圖。圖8是用于形成低粘著表面的裝置的替代實(shí)施例的剖視圖。圖9示出本發(fā)明的包括充電座的一個實(shí)施例。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明涉及用于在烹飪表面上形成不粘表面的方法和生產(chǎn)該表面的裝置。所述烹飪表面可由任何合適的材料制成，例如金屬，其可耐高溫和表面觸碰，例如使用廚具刮擦， 這樣的廚具在傳統(tǒng)的烹飪操作中經(jīng)常用到。如圖1中所示，在一個優(yōu)選實(shí)施例中，烹飪表面為煎鍋的形式。但是，本發(fā)明不限于該特定結(jié)構(gòu)，而是可應(yīng)用到任何合適的烹飪裝置，例如烤盤、深鍋等。因而，示出的實(shí)施例
6僅用于呈現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的烹飪表面的一個示例。如將在下面所討論的，本發(fā)明包括含氫的處理材料的涂敷。在標(biāo)準(zhǔn)溫度和壓力下， 氫是無色的、沒有氣味的、非金屬的且沒有味道的。一種優(yōu)選的處理材料是傳統(tǒng)的氫化油， 例如植物油。還可預(yù)期，平底鍋可具有用于產(chǎn)生氫或以將氫存儲在平底鍋內(nèi)部的機(jī)構(gòu)。參見例如美國專利公開號No. 2008/0210693，其公開內(nèi)容以其全文以引用的方式并入本文中。預(yù)期，通常存在于烹飪表面上的大氣濕度可能對于產(chǎn)生所需量的氫來提供處理材料是足夠的，因而消除了對包括單獨(dú)的材料源的需要。而且，還可以根據(jù)需要烹飪的食物提供其他的處理材料來提高烹飪質(zhì)量。例如，可能優(yōu)選使用一種特定處理材料用于肉，使用不同的處理材料用于魚。圖1、1A、1B和2A-2D公開了一種用于形成低粘著表面的方法。在該實(shí)施例中，可使用傳統(tǒng)的烹飪表面110，例如平底鍋或深鍋。如上所討論的，所有金屬傾向于在顯微層上具有一定程度的孔隙，例如在晶粒層之間和表面自身上，所述孔隙這在顯微鏡下觀察時顯示為凹痕狀(參見圖2A)。本文中都稱為材料表面中的孔隙或孔的表現(xiàn)形式。金屬中的孔提供腔室，氫可存儲或填充其中，用于以后在烹飪過程中使用，因而消除了從里面滲入氫的需要。該方法在圖2A-2D中示出。如上所討論的，氫可從多種處理液體和氣體釋放出來，例如從水、氫化油和甚至大氣，只要其含有一定程度的濕氣。由于從空氣提取氫是非常緩慢的過程，因此優(yōu)選用于提取氫的處理材料為氫化油或水。為了從水或油分子提取氫，需要向平底鍋或深鍋施加電荷。這樣，本發(fā)明預(yù)期向鍋施加負(fù)或正電荷。這可優(yōu)選通過將鍋Iio接地實(shí)現(xiàn)，例如通過傳統(tǒng)的爐頂?shù)臓t柵112或連接到烹飪表面并且穿過爐結(jié)構(gòu)到達(dá)接地點(diǎn)的單獨(dú)的地線114接地。然后將負(fù)電荷通過使用連接到電源118的探針或電極116，例如電暈放電探針施加到鍋的頂部表面，所述電源118 提供產(chǎn)生負(fù)電荷的電壓。在本發(fā)明中，僅需要很小的電壓，完全在用于居住環(huán)境的安全水平內(nèi)。電源可以是電池(直流電源)或來自適當(dāng)降壓來提供安全電壓水平的傳統(tǒng)的家庭插座 (交流電源)。如圖IA和IB中所示，探針可靠近所述表面設(shè)置(圖1A)，或其可遠(yuǎn)離所述表面設(shè)置，使電荷朝向所述表面引導(dǎo)。探針或棒116在其靠近接地的烹飪表面110設(shè)置時將產(chǎn)生電弧。這使得鍋的該表面帶正電荷(或負(fù)電荷)。如果鍋的該表面首先使用處理材料120進(jìn)行處理，例如使用水或更優(yōu)選氫化油進(jìn)行處理，則電荷將氫分子從油拉出，并且拉入鍋中的孔122內(nèi)。圖2B中圖示了處理材料的涂敷。填充該表面僅需一薄層處理材料。當(dāng)施加電壓并且產(chǎn)生電荷時(圖 2C)，氫分子124將被拉到烹飪表面中的腔室的孔內(nèi)(圖2D)。將電荷施加到鍋表面越長，則將越多的氫分子124從油拉出并且存儲在鍋的孔中。但是，在某一時刻，取決于孔的大小和數(shù)量，鍋被完全處理(完全填充)，并且不能存儲更多的氫。測試表明，施加電荷短到幾秒就足夠?qū)⒊渥愕臍淅脲伒目變?nèi)，以用于后面的烹飪。當(dāng)然，較大的烹飪表面比較小的表面需要更長的時間將充足的氫拉入孔中。當(dāng)鍋氫化或填充時，鍋材料中的天然電荷將保持氫附著到孔。于是該烹飪表面可存放用于以后使用或可立即使用。鍋存放時間越長，孔中的氫越可能開始釋放到大氣。因此優(yōu)選鍋在使用前較短時間進(jìn)行填充。
在使用填充的烹飪表面過程中，向烹飪表面施加熱將使氫從孔釋放(除氣)，并且在烹飪表面的表面上形成一層。這是由于施加電荷產(chǎn)生的附著力在高溫下不太有效，即熱降低由電荷產(chǎn)生的附著力。預(yù)期例如玻璃或陶瓷等一些烹飪表面需要更高的電壓來使該表面帶正電。因而， 電壓和電暈放電時間可根據(jù)烹飪表面的材料修改。雖然示出的實(shí)施例圖示出電暈放電探針用于填充烹飪表面，但是還可預(yù)期烹飪表面可以多種其他方式帶電，例如通過在該表面上移動連接到電源的刷或墊。而且，選擇用于烹飪表面的特定材料可以是更容易保持氫的材料。圖3A和3B示出了本發(fā)明的用于自動填充平底鍋，例如烤板的烤盤的一個實(shí)施例。 該實(shí)施例包括充電座200，其包括具有至少一個處理施用器204和至少一個充電施用器206 的殼體202。處理施用器204優(yōu)選布置成沿鍋208的一面上的線性路徑涂敷處理材料。處理施用器204可以是設(shè)計用于接觸鍋208的面210的吸收海綿或泡沫?？稍傺b的處理材料存儲器212連接到處理施用器204，用于提供處理材料。充電施用器206優(yōu)選具有一個或多個充電探針214，其在其插入充電座時接觸或靠近鍋208的面210布置。充電探針214適于連接到例如傳統(tǒng)插座等電源。鍋208優(yōu)選與接地支架215接觸。充電座殼體202包括用于接納鍋的槽式開口 216。使用時，鍋滑入開口 216中，以使烹飪表面210與處理施用器或分配器204接觸。當(dāng)鍋滑過處理施用器204時，處理材料自動涂敷到烹飪表面。表面繼續(xù)經(jīng)過充電施用器206，其在鍋滑入時連續(xù)地向烹飪表面施加電荷或構(gòu)造用于僅當(dāng)鍋完全插入殼體中并且使用處理材料處理時向烹飪表面施加電荷。還可設(shè)計成將該布置反過來，在烹飪表面從充電座取出時施加電荷。在該實(shí)施例中，在圖3A-3B 中處理施用器將設(shè)置在充電施用器的相對側(cè)。充電座可設(shè)計成包括如圖4中所示的立架220，并且構(gòu)造用于接收多個烘焙用平鍋208，每一個經(jīng)過單獨(dú)的處理施用器和充電施用器。立架允許多個鍋充電并且存放在立架上以使用方便。參照圖5A、5B、6A、6B、7A和7B，顯示了施用器300的另一個實(shí)施例。在該實(shí)施例中， 施用器為手持裝置，構(gòu)造用于施加例如氫化油等處理材料和高壓電荷。施用器300包括殼體302，所述殼體302包括電壓發(fā)生器304，優(yōu)選能夠產(chǎn)生超過1000伏，并且優(yōu)選大于5000 伏，最優(yōu)選高于10000伏的電壓。一個這樣的發(fā)生器是Marx發(fā)生器，例如由Yui DA電子出售的YD-010S型號的高壓電源，其能夠在18K Hz到35K Hz下產(chǎn)生3000和18000伏之間的電壓。產(chǎn)生的電流小于150 μ A。電源306向發(fā)生器304提供所需的輸入電壓。在圖示的實(shí)施例中，電源為直流電源，例如電池。但是，也可考慮電源是民用或商用交流電源，通過適當(dāng)電路(例如交流-直流轉(zhuǎn)換器)向高壓發(fā)生器304提供所需電壓。電源可以是充電電池。從高壓發(fā)生器弓I出的輸出導(dǎo)線或?qū)w(優(yōu)選為負(fù)極)308優(yōu)選設(shè)置在殼體內(nèi)，以在殼體放置在烹飪表面頂部上時靠近該表面。導(dǎo)體的位置為使電弧產(chǎn)生在導(dǎo)體末端和該表面之間。該電弧具有使氫化油蒸發(fā)的作用，產(chǎn)生結(jié)合到烹飪表面的帶電的氫離子。申請人注意到，很多金屬具有固有的陽極電位或電荷，這是固有的接受離子電荷的能力。來自輸出導(dǎo)體的電弧將電荷發(fā)送給處理材料，使氫分子帶電。帶電離子電結(jié)合到烹飪表面。雖然預(yù)期輸出導(dǎo)體的末端可設(shè)置成直接接觸該表面，但是這樣做可能使設(shè)置在導(dǎo)體端部和該表面之間的任何氫化油使得電弧的產(chǎn)生最小化。因而，更優(yōu)選輸出導(dǎo)體端部和該表面之間具有足夠形成電弧的間距。在給定的施加電壓下，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠容易地適當(dāng)設(shè)置輸出導(dǎo)體的末端。在示出的實(shí)施例中，多個輸出導(dǎo)體設(shè)置在殼體中間。但是，還可預(yù)期，單個導(dǎo)體可設(shè)置在殼體中，以產(chǎn)生單個電弧。從發(fā)生器引出的相對的充電導(dǎo)線(地線或正極導(dǎo)線)不需要接地，因?yàn)樯暾埲艘呀?jīng)確定，多數(shù)情況下的大氣提供充分的接地作用。或者，地線可連接到形成在殼體上的接觸表面310，所述接觸表面310設(shè)計用于與烹飪表面接觸。例如，在示出的實(shí)施例中，具有兩個半圓形觸頭310，其在第二輸出導(dǎo)線和烹飪表面之間提供傳導(dǎo)路徑。該觸頭可由任何合適的材料制成，例如鋁刷或具有導(dǎo)帶電粒子的橡膠。為了最小化來自施用器的RF能的傳送，RF屏蔽罩(未顯示)可安裝在負(fù)極和正極導(dǎo)線之間。施用器300還可包括處理分配器312，用于涂敷處理材料。(為了簡明，分配器僅顯示在圖6A、6B、7A和7B中，其在該實(shí)施例中設(shè)置在門316的內(nèi)表面上)。一種優(yōu)選的分配器312為海綿或類似分配器，其存儲大量例如氫化油等處理材料。由于僅需要少量油來處理烹飪表面，因此海綿可填充容納足夠用于施用器使用壽命期間的大量的油?；蛘?，施用器可設(shè)計用于使用另外的油再填充。分配器312設(shè)置成在使用過程中接觸烹飪表面，或在使用過程中致動來分配所需量的處理材料。還可將施用器設(shè)計為不包括存儲用于涂敷的處理材料的特定裝置，而是需要使用者手動涂敷液體。施用器可仍包括分配器312，其操作來使處理材料遍及整個烹飪表面。施用器優(yōu)選包括開關(guān)314，其可連接到電源或發(fā)生器，用于控制向發(fā)生器供電。在示出的實(shí)施例中，觸頭310安裝到可旋轉(zhuǎn)門316上的殼體302。如所顯示，門316 附接到滑臂320上的耳318，滑臂320附接到開關(guān)314。當(dāng)開關(guān)滑到向下位置(對應(yīng)于“開” 的位置)時，其使滑臂320向下平移。門316在317處可旋轉(zhuǎn)地安裝到殼體302，并且包括偏置銷319，其可滑動地布置在形成在耳318中的槽321內(nèi)。在該實(shí)施例中，滑臂320的向下平移使耳318圍繞樞轉(zhuǎn)點(diǎn)317旋轉(zhuǎn)銷319。這使門316從其閉合位置(圖13A中所示) 旋轉(zhuǎn)到其打開位置(圖13B中所示)，由此將觸頭定位到接觸烹飪表面。彈簧(未顯示)可結(jié)合到殼體中，并且連接到門316或滑臂320，以向上推動滑臂和門316進(jìn)入其閉合位置。 在其閉合位置中，門316用于防止接觸第一輸出導(dǎo)線308的端部，因而最小化由于疏忽觸電的可能。還可將施用器300設(shè)計為具有門316，所述門的形狀為當(dāng)施用器300接觸烹飪表面時，進(jìn)一步向下的移動將使門旋轉(zhuǎn)打開，因而使第一導(dǎo)線的輸出端308被帶到烹飪表面附近，使觸頭310 (在其包括的觸頭范圍內(nèi))擱置在烹飪表面上。當(dāng)然可使用其他機(jī)構(gòu)來使觸頭310接觸該表面。而且觸頭310可設(shè)計為固定安裝到施用器殼體302上。施用器300優(yōu)選包括蓋322，其可拆卸地附接到殼體302，以在該實(shí)施例中允許進(jìn)入包括可更換直流電源的電源306。圖8示出施用器400的另一個實(shí)施例。在該實(shí)施例中，殼體402上沒有門。相反， 殼體402為圓柱狀，終止于開放的底部。如在前面的實(shí)施例中的，殼體402包括發(fā)生器404， 所述發(fā)生器404連接到電源406。輸出導(dǎo)線，例如圖8中所示的多個負(fù)極408，從發(fā)生器引出，并且以其設(shè)置在殼體402內(nèi)部的端部408E終止，優(yōu)選從開口凹入，以防由于疏忽與使用者接觸。允許電荷通過的保護(hù)蓋(未顯示)可設(shè)置在末端408E和開口之間，以進(jìn)一步防止使用者接觸導(dǎo)線露出的端部?？砂ㄩ_關(guān)414來控制發(fā)生器404的操作。開關(guān)可以是任何傳統(tǒng)的開關(guān)，包括所示的滑動開關(guān)或按壓開關(guān)。如所顯示的，為了輔助涂敷處理材料，施用器可包括分配器412，其在示出的實(shí)施例中圖示為海綿，其用于存儲涂敷到烹飪表面的處理材料，并且還在涂敷之前或涂敷過程中輔助分配(或分布)處理材料。如果施用器包括充電電池，則可預(yù)期，施用器可包括圖9中所示的用于充電電池的充電插座500。充電插座包括座502，殼體底部放置到所述座502中。座502可使存儲器連接到其，用于傳送大量的處理材料，以再填充或重新涂分配器。充電插座包括在殼體504 內(nèi)部的傳統(tǒng)的充電電路和用于連接到交流電源的外部電線506。雖然本發(fā)明已經(jīng)關(guān)于其示例性實(shí)施例進(jìn)行了描述和說明，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)可理解，在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可在其中并且對其進(jìn)行前述的和多種其他改變、省略和添加。
權(quán)利要求
1.一種用于形成低粘著烹飪表面的方法，包括以下步驟提供具有烹飪表面的烹飪裝置；將含氫物質(zhì)設(shè)置在所述烹飪表面上；和在烹飪之前從所述含氫物質(zhì)提取氫，以使氫保持在所述烹飪表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述將含氫物質(zhì)設(shè)置在烹飪表面上的步驟包括將氫化油涂敷到所述烹飪表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述提取氫的步驟包括在所述烹飪表面上產(chǎn)生電荷，所述電荷將氫拉入所述烹飪表面中的孔或凹部中。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述電荷通過連接到電源的探針產(chǎn)生。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述提取氫的步驟包括將所述烹飪表面的一部分在產(chǎn)生電荷之前接地。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述提取氫的步驟包括將電荷施加到所述含氫物質(zhì)，所述電荷使氫離子電結(jié)合到所述烹飪表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，所述方法包括提供用于產(chǎn)生高壓電荷的施用器的步驟，所述施用器包括殼體，其具有內(nèi)部和開放的底端；高壓發(fā)生器，其安裝在所述殼體中，所述發(fā)生器適于連接到電源來接收電能，所述高壓發(fā)生器能夠產(chǎn)生大于1000伏的電壓；開關(guān)，其用于控制所述高壓發(fā)生器的致動；和至少一個輸出導(dǎo)體，其連接到所述高壓發(fā)生器，并且設(shè)置在所述殼體內(nèi)，所述輸出導(dǎo)體具有末端，所述末端設(shè)置在所述高壓發(fā)生器和所述殼體的開放底部之間，在所述底部設(shè)置在所述烹飪表面上時，位于相對于所述開放底部足夠從所述末端將電荷傳送到所述烹飪表面的位置處；并且其中，所述施加電荷的步驟包括從電源向所述施用器提供電能、從所述高壓發(fā)生器產(chǎn)生高壓電荷和將所述高壓電荷傳送到所述烹飪表面上的含氫物質(zhì)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，通過連接到電源的探針產(chǎn)生電荷，所述方法還包括以下步驟提供充電座，所述充電座具有用于接納一個或多個烹飪表面的開口，提供從所述開口向里設(shè)置在所述充電座中用于將含氫物質(zhì)涂敷到所述烹飪表面的處理施用器，提供安裝在所述充電座中的所述探針；將所述烹飪裝置插入所述充電座中；將所述烹飪裝置傳送經(jīng)過所述處理施用器，以使所述處理施用器將所述含氫物質(zhì)涂敷到所述烹飪表面；并且其中，所述產(chǎn)生電荷的步驟包括致動所述探針來將所述電荷施加到所述烹飪裝置的涂覆表面，以使充入負(fù)電荷的氫離子從所述含氫物質(zhì)釋放，并且吸附到所述烹飪表面。
9.一種用于形成低粘著烹飪表面的裝置，包括殼體，其具有內(nèi)部和開放的底端；高壓發(fā)生器，其安裝在所述殼體中，所述高壓發(fā)生器適于連接到電源來接收電能，所述高壓發(fā)生器能夠產(chǎn)生大于1000伏的電壓；開關(guān)，其用于控制所述發(fā)生器的致動；和至少一個輸出導(dǎo)體，其連接到所述高壓發(fā)生器，并且設(shè)置在所述殼體內(nèi)，所述輸出導(dǎo)體具有末端，所述末端設(shè)置在所述高壓發(fā)生器和所述殼體的開放底部之間，在所述開放底部設(shè)置在所述烹飪表面上時，位于相對于所述開放底部足夠從所述末端將電荷傳送到所述烹飪表面的位置處。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中，所述殼體成形為適于由使用者手部抓握，其中， 具有多個導(dǎo)體，其每一個具有末端，并且其中，所述電源為設(shè)置在所述殼體內(nèi)的可拆卸的或可充電的電池。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中，所述殼體包括至少一個門，用于在所述裝置沒有操作時閉合所述殼體中的底部開口，并且防止進(jìn)入所述導(dǎo)體的末端，所述門可樞轉(zhuǎn)地安裝到所述殼體。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，兩個門安裝到所述殼體，每一個門閉合所述殼體的底部中的開口的一部分。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置還包括分配器，用于將處理材料分配到所述烹飪表面。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其中，所述分配器安裝到所述殼體，并且從所述殼體的底部開口伸出，所述分配器適于在所述裝置移動經(jīng)過烹飪表面時分布處理材料。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置，其中，所述殼體包括至少一個門，用于在所述裝置不操作時閉合所述殼體中的底部開口，所述門可樞轉(zhuǎn)地安裝到所述殼體，其中，所述分配器安裝到所述殼體，并且在所述門處于打開位置時從所述門伸出，所述分配器適于保持處理材料，并且在使用過程中涂敷和分布所述保持的處理材料。
16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，還包括至少一個觸頭，其圍繞所述底部開口的至少一部分安裝到所述殼體，所述觸頭由導(dǎo)電材料制成，并且其中，所述導(dǎo)體連接到所述觸頭，并且適于將電荷通過所述觸頭傳送到所述烹飪表面。
17.一種用于形成低粘著烹飪表面的裝置，包括殼體，其具有內(nèi)部和開放的底端；高壓發(fā)生器，其安裝在所述殼體中，所述高壓發(fā)生器適于連接到用于接收電能的電源， 所述發(fā)生器能夠產(chǎn)生大于1000伏的電壓；開關(guān)，其用于控制所述發(fā)生器的致動；多個輸出導(dǎo)體，其連接到所述高壓發(fā)生器，并且設(shè)置在所述殼體內(nèi)，所述導(dǎo)體具有末端，所述末端設(shè)置在所述高壓發(fā)生器和所述殼體的開放底部之間，在所述開放底部設(shè)置在所述烹飪表面上時，位于相對于所述開放底部足夠從所述末端將電荷傳送到所述烹飪表面的位置處；和分配器，其與所述底部開口相鄰安裝到所述殼體，所述分配器適于在所述裝置移動經(jīng)過所述烹飪表面時分布所述處理材料。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置，其中，所述電源為設(shè)置在所述殼體內(nèi)的可拆卸的或可再充電的電池，并且其中，所述導(dǎo)體凹入所述殼體內(nèi)，與所述底部間隔開。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置，其中，所述殼體包括至少一個門，其用于在所述裝置不操作時閉合所述殼體中的底部開口，并且防止進(jìn)入所述導(dǎo)體的末端，所述門可樞轉(zhuǎn)地安裝到所述殼體。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置，其中，所述門連接到所述開關(guān)，以使所述開關(guān)的致動使所述門打開。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于形成低粘著烹飪表面的方法和裝置。所述方法涉及將含氫物質(zhì)設(shè)置在烹飪表面上并從含氫物質(zhì)中提取氫，以使氫保持在烹飪表面上的凹部中。氫可通過在烹飪表面上產(chǎn)生電荷來提取，電荷將氫拉入烹飪表面中的孔或凹部內(nèi)。所述裝置優(yōu)選包括殼體，殼體中有高壓發(fā)生器。該發(fā)生器的輸出端在致動時產(chǎn)生電弧。
文檔編號B05C1/02GK102371234SQ20101055505
公開日2012年3月14日 申請日期2010年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月24日
發(fā)明者R·E·坎努思, S·霍夫曼 申請人:S·霍夫曼