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一種硅雜螺芴衍生物及其應(yīng)用的制作方法

文檔序號(hào):12242227閱讀:482來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及發(fā)光材料領(lǐng)域,具體的說(shuō)提供了一種一種硅雜螺芴衍生物及其應(yīng)用。



背景技術(shù):

目前顯示屏以TFT-LCD為主,由于為非自發(fā)光之顯示器,必須透過(guò)背光源投射光線,依序穿透TFT-LCD面板中之偏光板、玻璃基板、液晶層、彩色濾光片、玻璃基板、偏光板等相關(guān)零組件,最后進(jìn)入人之眼睛成像,達(dá)到顯示之功能。但是其顯示屏反應(yīng)速率慢、耗電、視角窄等缺點(diǎn),不足成為完美的顯示屏

有機(jī)電致發(fā)光二極管(OLEDs),作為一種全新的顯示技術(shù)在各個(gè)性能上擁有現(xiàn)有顯示技術(shù)無(wú)以倫比的優(yōu)勢(shì),如全固態(tài)、自主發(fā)光、亮度高、高分辨率、視角寬(170度以上)、響應(yīng)速度快、厚度薄、體積小、重量輕、可使用柔性基板、低電壓直流驅(qū)動(dòng)(3-10V)、功耗低、工作溫度范圍寬等,使得它的應(yīng)用市場(chǎng)十分廣泛,如照明系統(tǒng)、通訊系統(tǒng)、車載顯示、便攜式電子設(shè)備、高清晰度顯示,甚至是軍事領(lǐng)域。

目前有機(jī)發(fā)光二極管器件中的發(fā)光層,幾乎都使用主客發(fā)光體系統(tǒng)結(jié)構(gòu)即將客發(fā)光體材料摻雜于主體材料中,這可以大大降低激子濃度過(guò)大引起的淬滅,尤其是磷光發(fā)光材料的三線態(tài)-三線態(tài)湮滅效應(yīng)。

而且,一般要求主體材料的能隙應(yīng)該大于客發(fā)光體材料的能隙,否則容易發(fā)生能量從客發(fā)光體回轉(zhuǎn)到主體材料而降低器件的效率,除此之外,還對(duì)主體材料在結(jié)晶性能以及玻璃化溫度上有較高的要求。

因此,一種能夠解決目前現(xiàn)有技術(shù)在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中出現(xiàn)的各種問(wèn)題的主體材料和電子傳輸材料,是本領(lǐng)域迫切需要的。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明首先提供了一種硅雜螺芴衍生物,其結(jié)構(gòu)為如下通式(I)所示:

其中X為空、S、O、單鍵或烷基;優(yōu)選的X為空或單鍵;

R1、R2、R3、R4分別獨(dú)立地選自氫、苯、含苯化合物基團(tuán)、雜環(huán)化合物基團(tuán)或稠環(huán)芳烴基團(tuán),上述基團(tuán)可進(jìn)一步被取代;優(yōu)選地,R1、R2、R3、R4分別獨(dú)立地選自氫、取代或未取代的苯、吡啶、嘧啶、噠嗪、吡嗪、均三嗪或喹啉;

進(jìn)一步優(yōu)選的,R1、R2、R3、R4分別獨(dú)立地選自氫、或如下基團(tuán):

進(jìn)一步優(yōu)選的,R1、R2、R3、R4分別獨(dú)立地選自氫或如下基團(tuán):

本發(fā)明優(yōu)選的化合物為如下化合物1和化合物2:

本發(fā)明還提供了一種電子發(fā)光器件,包含陰極、陽(yáng)極和有機(jī)層,有機(jī)層中的一層或幾層含有上述硅雜螺芴衍生物。

本發(fā)明的硅雜螺芴衍生物可以用于有機(jī)層的發(fā)光層、電子傳輸層或空穴傳輸層中的一層或一層以上。其可以單獨(dú)使用,也可以作為主體材料與其他化合物合用。其具體應(yīng)用如下:

1)可以用于紅光,綠光的主體材料

2)可以用于電子傳輸材料

本發(fā)明的一種硅雜螺芴衍生物作為OLED材料的應(yīng)用,不僅可以解決小分子主體材料易于結(jié)晶以及一些寬能帶主體材料低Tg的缺點(diǎn),而且由于在結(jié)構(gòu)中同時(shí)引入具有推電子性能的基團(tuán)以及拉電子性能的基團(tuán),可以平衡主體材料的電子以及空穴的傳導(dǎo)性能,提高器件效率。

本發(fā)明所提供的硅雜螺芴衍生物均可以通過(guò)簡(jiǎn)單的化學(xué)偶聯(lián)反應(yīng)制備得到。

本發(fā)明的一種硅雜螺芴衍生物,其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是苯環(huán)之間不完全共軛,從而使得HOMO和LUMO的能及差較大,不易產(chǎn)生能量回轉(zhuǎn);分子的不共平面使得不容易產(chǎn)生堆積作用而發(fā)生濃度淬滅效應(yīng);提高Tg,降低結(jié)晶的可能。所述化合物作為磷光主體材料,該類發(fā)光材料具有熱穩(wěn)定性好,器件效率高,壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn),具有應(yīng)用于AMOLED產(chǎn)業(yè)的可能。

具體實(shí)施方式

下列實(shí)施例中所用的原材料均為普通市售產(chǎn)品。

實(shí)施例1化合物1的合成

原材料:

合成路線:

所有操作都在Ar氣保護(hù)下無(wú)水無(wú)氧環(huán)境下操作,化合物A、B、C各0.1mol加入500ml圓底燒瓶中,以無(wú)水四氫呋喃為溶劑,在60-70度下加熱回流24h,冷卻至室溫,提取有機(jī)溶劑并使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀真空濃縮,得到的粗產(chǎn)品用二氯甲烷/正己烷為流動(dòng)相柱層析提純,干燥后就得到化合物1。

化合物1的相關(guān)表征數(shù)據(jù)如下:

MS:m/z=643.23(M+H+);1HNMR(400M,d6-DMSO):8.65(d,2H),7.76(s,2H),7.54-7.62(m,8H),7.42-7.52(m,10H),7.22-7.32(m,8H);

元素分析:C44H30N4Si

計(jì)算值:C,82.21;H,4.70;N,8.72;實(shí)測(cè)值:C,82.20;H,4.73;N,8.70。

實(shí)施例2

化合物2的合成

原材料:

所有操作都在Ar氣保護(hù)下無(wú)水無(wú)氧環(huán)境下操作,化合物D與化合物B、E各0.1mol加入500ml圓底燒瓶中,以無(wú)水四氫呋喃為溶劑,在60-70度下加熱回流24h,冷卻至室溫,提取有機(jī)溶劑并使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀真空濃縮,得到的粗產(chǎn)品用二氯甲烷/正己烷為流動(dòng)相柱層析提純,干燥后就得到產(chǎn)品。

化合物2的相關(guān)表征數(shù)據(jù)如下:

MS:m/z=692.23(M+H+);1HNMR(400M,d6-DMSO):9.26(s,1H),8.01(d,1H),7.82-7.84(m,4H),7.42-7.75(m,15H),7.32-7.36(m,6H),7.22(m,2H);

元素分析:C47H29N5Si

計(jì)算值:C,81.59;H,4.22;N,10.12;實(shí)測(cè)值:C,81.60;H,4.23;N,10.11。

實(shí)施例3器件制作

器件制作工藝如下:

所有材料均為市售產(chǎn)品,可購(gòu)自Alfa,Aldrich等公司。

實(shí)施例3-1

將透明陽(yáng)極電極ITO基板在異丙醇中超聲清洗5分鐘,并暴露在紫外光下20分鐘,隨后用plasma處理10分鐘。隨后將處理后的ITO基板放入蒸鍍?cè)O(shè)備。首先蒸鍍一層40nm的NPB,然后混合蒸鍍化合物1和以及Ir(ppy)3(重量比為7%),作為發(fā)光層,隨后蒸鍍40nm的Alq3(8-羥基喹啉鋁)作為電子傳輸層,隨后再蒸鍍1nmLiF,最后蒸鍍100nm的金屬Al。

實(shí)施例3-2

其余同實(shí)施例3-1,只是用化合物2替換化合物1。

實(shí)施例3-3

其余同實(shí)施例3-1,只是用CBP替換化合物1。

實(shí)施例3-4

其余同實(shí)施例3-3,只是用化合物1替換Alq3作為電子傳輸層。

實(shí)施例3-1、3-2、3-3、3-4中各層分布簡(jiǎn)單表示如下:

3-1:ITO/NPB/化合物1:Ir(ppy)3/Alq3/LiF/Al

3-2:ITO/NPB/化合物2:Ir(ppy)3/Alq3/LiF/Al

3-3:ITO/NPB/CBP:Ir(ppy)3/Alq3/LiF/Al

3-4:ITO/NPB/CBP:Ir(ppy)3/化合物1/LiF/Al

在1000nits亮度下,測(cè)定上述器件的效率(Cd/A),驅(qū)動(dòng)電壓(Voltage),色坐標(biāo)等。

與實(shí)施例3-3相比,作為主體材料實(shí)施例3-1和3-2都表現(xiàn)出相應(yīng)較高的器件效率;作為電子傳輸材料,實(shí)施例3-4都較實(shí)施例3-3表現(xiàn)出更高的效率和更低的驅(qū)動(dòng)電壓。

除非特別限定,本發(fā)明所用術(shù)語(yǔ)均為本領(lǐng)域技術(shù)人員通常理解的含義。

本發(fā)明所描述的實(shí)施方式僅出于示例性目的,并非用以限制本發(fā)明的保護(hù)范圍,本領(lǐng)域技術(shù)人員可在本發(fā)明的范圍內(nèi)作出各種其他替換、改變和改進(jìn),因而,本發(fā)明不限于上述實(shí)施方式,而僅由權(quán)利要求限定。

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