一種扁形射砂頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及制芯領(lǐng)域，具體涉及一種射砂頭。
【背景技術(shù)】
[0002]參見圖1和圖2，如其中的圖例所示，現(xiàn)有的射砂頭一般包括射砂筒110、射砂頭本體、射砂板130以及射砂嘴(圖中未視出)，射砂頭本體一般為一個錐筒120，為了保證射砂時，壓縮空氣能夠帶動型砂順利到達射砂板邊緣位置的射砂嘴，錐筒的錐度一般設(shè)置為30度?60度，因此，在射砂頭本體的進料端口面積和出料端口面積確定的情況下，射砂頭本體的高度一般也就確定了。
[0003]在實際的射砂過程中，射砂頭首先移動到加砂斗的下方加入型砂Ql前，型砂包括首先填充射砂頭本體的型砂和之后填滿射砂筒的型砂，射砂頭然后移動到射砂機構(gòu)的下方，射砂機構(gòu)向射砂頭中通入壓縮空氣，壓縮空氣帶動射砂筒中的型砂推動射砂頭本體中的型砂的部分進入射砂嘴，因此，射砂頭本體中的型砂的部分通過射砂嘴轉(zhuǎn)移到芯盒中，而射砂筒中的型砂轉(zhuǎn)移到射砂頭本體中，當射砂筒中的型砂完全轉(zhuǎn)移到射砂頭本體中時，此時，壓縮空氣的推動力大大減弱，一般一個射砂過程即結(jié)束，而此時，射砂頭本體中的殘留型砂為Ql后，因此，射砂頭本體中的型砂越少，則射砂頭本體中的殘留型砂越少，如何既能減小射砂頭本體重的殘留型砂又不影響射砂效果是本申請將要解決的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的發(fā)明目的是提供一種扁形射砂頭，通過減小射砂頭本體的高度，進而減小射砂頭本體的內(nèi)部空間，從而減小射砂頭本體中的殘留型砂，同時不會影響射砂效果。
[0005]為達到上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種扁形射砂頭，包括射砂筒、射砂頭本體以及射砂板，所述射砂頭本體具有位于其頂部的進料端口、位于其底部的出料端口以及位于其內(nèi)部并且分別與所述進料端口和所述出料端口連通的腔體，所述射砂筒與所述進料端口連通連接，所述射砂板安裝在所述出料端口上，所述進料端口沿水平方向橫切得到進料端口截面，所述出料端口沿水平方向橫切得到出料端口截面，所述腔體沿水平方向橫切得到沿豎直方向依次設(shè)置的若干個腔體截面，其中一個所述腔體截面定義為過渡截面，分別以所述進料端口截面和所述出料截面為上底面和下底面構(gòu)成位于所述腔體內(nèi)部的第一錐臺空間，分別以所述過渡截面和所述出料端口截面為上底面和下底面構(gòu)成位于所述腔體內(nèi)部的第二錐臺空間，所述第一錐臺空間的錐度為90度?150度，所述第二錐臺空間的錐度為30度?90度，所述第二錐臺空間的高度為50毫米?250毫米。
[0006]優(yōu)選的，所述射砂頭本體包括上錐筒和下錐筒，所述上錐筒的頂部小端口構(gòu)成所述進料端口，所述下錐筒的底部大端口構(gòu)成所述出料端口，所述上錐筒的底部大端口和所述下錐筒的頂部小端口連接構(gòu)成連接端口，所述連接端口沿水平方向橫切得到的截面構(gòu)成所述過渡截面。
[0007]優(yōu)選的，所述射砂頭本體包括上錐筒、中錐筒以及下錐筒，所述上錐筒的頂部小端口構(gòu)成所述進料端口，所述下錐筒的底部大端口構(gòu)成所述出料端口，所述上錐筒的底部大端口和所述中錐筒的頂部小端口連接構(gòu)成連接端口 A，所述中錐筒的底部大端口和所述下錐筒的頂部小端口連接構(gòu)成連接端口 B，所述連接端口A或連接端口B沿水平方向橫切得到的截面構(gòu)成所述過渡截面。
[0008]優(yōu)選的，所述射砂頭本體包括上環(huán)形板和下錐筒，所述上環(huán)形板的內(nèi)孔構(gòu)成所述進料端口，所述下錐筒的底部大端口構(gòu)成所述出料端口，所述上環(huán)形板的外緣和所述下錐筒的頂部小端口連接構(gòu)成連接端口，所述連接端口沿水平方向橫切得到的截面構(gòu)成所述過渡截面。
[0009]優(yōu)選的，所述射砂頭本體包括上環(huán)形板、中錐筒以及下錐筒，所述上環(huán)形板的內(nèi)孔構(gòu)成所述進料端口，所述下錐筒的底部大端口構(gòu)成所述出料端口，所述上環(huán)形板的外緣和所述中錐筒的頂部小端口連接構(gòu)成連接端口 A，所述中錐筒的底部下端口和所述下錐筒的頂部小端口連接構(gòu)成連接端口 B，所述連接端口 A或所述連接端口 B沿水平方向橫切得到的截面構(gòu)成所述過渡截面。
[0010]本發(fā)明還提供另外一個技術(shù)方案:一種扁形射砂頭，包括射砂筒、射砂頭本體以及射砂板，所述射砂頭本體具有位于其頂部的進料端口、位于其底部的出料端口以及位于其內(nèi)部并且分別與所述進料端口和所述出料端口連通的腔體，所述射砂筒與所述進料端口連通連接，所述射砂板安裝在所述出料端口上，所述進料端口沿水平方向橫切得到進料端口截面，所述出料端口沿水平方向橫切得到出料端口截面，所述腔體沿水平方向橫切得到沿豎直方向依次設(shè)置的若干個腔體截面，其中一個所述腔體截面定義為過渡截面，分別以所述進料端口截面和所述出料截面為上底面和下底面構(gòu)成位于所述腔體內(nèi)部的錐臺空間，分別以所述過渡截面和所述出料端口截面為上底面和下底面構(gòu)成位于所述腔體內(nèi)部的柱臺空間，所述錐臺空間的錐度為90度?150度，所述柱臺空間的高度為50毫米?250毫米。
[0011 ]優(yōu)選的，所述射砂頭本體包括上錐筒和下直筒，所述上錐筒的頂部小端口構(gòu)成所述進料端口，所述下直筒的底部端口構(gòu)成所述出料端口，所述上錐筒的底部大端口和所述下直筒的頂部端口連接構(gòu)成連接端口，所述連接端口沿水平方向橫切得到的截面構(gòu)成所述過渡截面。
[0012]優(yōu)選的，所述射砂頭本體包括上錐筒、中錐筒以及下直筒，所述上錐筒的頂部小端口構(gòu)成所述進料端口，所述下直筒的底部端口構(gòu)成所述出料端口，所述上錐筒的底部大端口和所述中錐筒的頂部小端口連接構(gòu)成連接端口 A，所述中錐筒的底部大端口和所述下直筒的頂部端口連接構(gòu)成連接端口 B，所述連接端口 A或所述連接端口 B沿水平方向橫切得到的截面構(gòu)成所述過渡截面。
[0013]優(yōu)選的，所述射砂頭本體包括上環(huán)形板和下直筒，所述上環(huán)形板的內(nèi)孔構(gòu)成所述進料端口，所述下直筒的底部大端口構(gòu)成所述出料端口，所述上環(huán)形板的外緣和所述下直筒的頂部端口連接構(gòu)成連接端口，所述連接端口沿水平方向橫切得到的截面構(gòu)成所述過渡截面。
[0014]優(yōu)選的，所述射砂頭本體包括上環(huán)形板、中錐筒以及下直筒，所述上環(huán)形板的內(nèi)孔構(gòu)成所述進料端口，所述下直筒的底部大端口構(gòu)成所述出料端口，所述上環(huán)形板的外緣和所述中錐筒的頂部小端口連接構(gòu)成連接端口 A，所述中錐筒的底部大端口和所述下直筒的頂部端口連接構(gòu)成連接端口 B，所述連接端口 A或所述連接端口 B沿水平方向橫切得到的截面構(gòu)成所述過渡截面。
[0015]由于上述技術(shù)方案運用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點:本發(fā)明通過增大射砂頭本體的第一錐臺空間的錐度，在不改變的進料端口和出料端口的情況下，可以有效減小射砂頭本體的高度，進而減小了射砂頭本體中殘留型砂量，同時通過在射砂頭本體中設(shè)置第二錐臺空間，有效增大了射砂板邊緣上部的空間，在加砂時，射砂板邊緣上部的空間不會填滿型砂，因此在射砂時，射砂筒中的型砂會推動射砂頭本體中的型砂優(yōu)先進入射砂板邊緣上部的空間，因此，型砂能夠順利進入射砂板邊緣處的射砂嘴中，因此，通過增大射砂頭第一錐臺空間的錐度，既能減少射砂頭本體中型砂殘留量，又不會影響射砂效果。
【附圖說明】
[0016]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的射砂頭射砂前的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是現(xiàn)有技術(shù)中的射砂頭射砂后的結(jié)構(gòu)不意圖；
圖3是本發(fā)明實施例一的射砂頭射砂前的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4是本發(fā)明實施例一的射砂頭射砂后的結(jié)構(gòu)不意圖了 ；
圖5是本發(fā)明實施例二的射砂頭射砂前的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖6是本發(fā)明實施例二的射砂頭射砂后的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖7是本發(fā)明實施例三的射砂頭射砂前的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖8是本發(fā)明實施例二的射砂頭射砂后的結(jié)構(gòu)不意圖；
圖9是本發(fā)明實施例四的射砂頭射砂前的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖10是本發(fā)明實施例四的射砂頭射砂后的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖11是本發(fā)明實施例五的射砂頭射砂前的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖12是本發(fā)明實施例五的射砂頭射砂后的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖13是本發(fā)明實施例六的射砂頭射砂前的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖14是本發(fā)明實施例六的