一種不銹鋼托盤的蝕刻方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及一種蝕刻方法,更特別地設(shè)及一種不誘鋼托盤的蝕刻方法,屬于金屬 表面處理與加工技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002] 金屬托盤作為一種常用的餐具或工業(yè)用具,主要用于端茶送水、盛放水果、托送傳 輸工業(yè)產(chǎn)品等諸多之用,W不誘鋼作為材料的制品發(fā)明于上世紀(jì)八十年代初,經(jīng)過Ξ十多 年的發(fā)展,目前其應(yīng)用已非常普遍。
[0003] 不誘鋼因耐蝕性優(yōu)良、外觀精美而得到廣泛的應(yīng)用。但隨著科技的進(jìn)步,人們對不 誘鋼的表面精飾要求度也越來越高。但目前市售普通金屬托盤的表面沒有花紋或僅僅有限 的局部修飾有花紋。通常而言,對金屬托盤的制作工藝一般是先對不誘鋼表面進(jìn)行打磨,然 后再進(jìn)行拋光或者沙面處理。然而,運(yùn)種制作工藝生產(chǎn)出來的托盤表面比較光滑,在使用過 程中往往由于滑手而造成放置在其上方的物品傾倒。另外,由于運(yùn)種工藝較為簡單,生產(chǎn)出 來的產(chǎn)品附加值較低,在市場上的競爭力和占有率逐年下降。
[0004] 根據(jù)傳統(tǒng)的生產(chǎn)工藝,如果金屬托盤表面需要花紋修飾,則一般是通過沖床沖壓 而得到,但由于金屬表面較硬,特別是不誘鋼托盤,用沖床沖壓得到的花紋不明顯,而且沖 床受其壓力的限制,不可能也做不到能在托盤表面沖出大面積且清晰的花紋。因此,所制成 的制品只能作為低級需求之用,產(chǎn)品附加值不高。更為嚴(yán)重的是,傳統(tǒng)的生產(chǎn)工藝導(dǎo)致不誘 鋼托盤的生產(chǎn)效率低下,操作者的勞動強(qiáng)度大,難W適應(yīng)大規(guī)模的工業(yè)化生產(chǎn)。
[0005] 為了對此進(jìn)行改進(jìn),人們進(jìn)行了大量的深入研究,并取得了一些成果,例如:
[0006] CN101173360A公開了一種不誘鋼蝕刻方法,該工藝主要包括W下步驟:a.前處理, 用W將初始不誘鋼工件進(jìn)行清洗、除油等表面清潔;b.涂布,將該不誘鋼工件其表面涂覆感 光膠,再進(jìn)行曝光、顯影及堅(jiān)膜等處理;C .蝕刻,利用不誘鋼蝕刻溶液腐蝕該不誘鋼工件之 暴露金屬部位,其中所采用的不誘鋼蝕刻溶液主要包括:Ξ氯化鐵400-600g/L、鹽酸2-5g/ L、氣化氨錠l-2g/L、硫脈2.5-5g/L、蝕刻促進(jìn)劑l-5g/L、再生劑2-5g/L;d.脫膜,待上述腐蝕 到一定程度,再將其表面剩余的膠膜用溶解液去掉,最后清洗得到產(chǎn)品。藉此,該工藝具有 蝕刻速度快,精度高,蝕刻液可再生,制程簡單等特點(diǎn),具有廣泛的應(yīng)用前景。
[0007] CN101414578A公開了一種不誘鋼表面裝飾方法,該方法包括將圖案印制到不誘鋼 表面上,然后進(jìn)行拋光,其中,所述拋光為等離子拋光,通過采用一步等離子拋光代替現(xiàn)有 技術(shù)中的蝕刻、化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光,大大簡化了生產(chǎn)過程,整個生產(chǎn)過程所需時間更 短,生產(chǎn)效率更高,而且減小了對環(huán)境的污染,節(jié)省了配制溶液的費(fèi)用及后處理的費(fèi)用,所 得金屬制品的表面更光亮,可W工業(yè)化生產(chǎn)制作表面具有圖案的不誘鋼制品。由于所得金 屬制品的圖案與金屬制品基材為一體的,因而耐磨性非常好。
[000引 CN102887031A公開了一種在不誘鋼表面形成機(jī)加工紋理的方法,包括W下步驟: A.設(shè)計(jì)不誘鋼表面紋理的矢量圖;B.在不誘鋼表面形成感光油墨層,根據(jù)矢量圖進(jìn)行曝光 顯影,固化后在不誘鋼表面形成紋理預(yù)制層;C.將表面形成有紋理預(yù)制層的不誘鋼浸于蝕 刻液中,對不誘鋼進(jìn)行化學(xué)蝕刻;D.將化學(xué)蝕刻后的不誘鋼浸于堿液中退除表面的紋理預(yù) 制層;E.對經(jīng)過步驟D的不誘鋼進(jìn)行等離子拋光處理,即在不誘鋼表面形成所述機(jī)加工紋 理。所述方法能在不同形狀的不誘鋼表面形成仿CNC高光紋理效果,且其表面具有較高的光 澤度和抗劃傷性能。
[0009] CN1190062A公開了一種利用蝕刻技術(shù)在不誘鋼管表面刻出各種圖案的方法,包 括:a、用耐酸油墨印刷不誘鋼管表面;b、在干燥室中對不誘鋼管干燥預(yù)定時間;C、用電技術(shù) 在盛酸的侵蝕槽中通過侵蝕沒有涂耐酸油墨的不誘鋼管剩余表面部分來蝕刻不誘鋼管表 面。采用該方法得到刻有蝕刻圖案的不誘鋼管的優(yōu)點(diǎn)是線雕刻部分均勻、平滑和有光澤,它 使W簡單生產(chǎn)工藝和低生成成本大量生產(chǎn)刻有精細(xì)蝕刻圖雜的不誘鋼管成為可能。
[0010] 如上所述,現(xiàn)有技術(shù)中公開了多種在不誘鋼表面上進(jìn)行蝕刻,W得到圖案的現(xiàn)有 技術(shù),但對于新型的蝕刻方法,仍存在繼續(xù)研究的必要和需求,運(yùn)對于改變傳統(tǒng)的生產(chǎn)工 藝,不但具有迫切的研究價值,也具有良好的經(jīng)濟(jì)效益和工業(yè)應(yīng)用潛力,運(yùn)正是本發(fā)明得W 完成的動力所在和基礎(chǔ)所倚。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0011] 為了尋求一種不誘鋼托盤表面的新型蝕刻方法,本發(fā)明人對此進(jìn)行了深入研究, 在付出了大量創(chuàng)造性勞動后,從而完成了本發(fā)明。
[0012] 具體而言,本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:提供一種不誘鋼托盤的蝕刻方法,W解 決目前不誘鋼托盤表面花紋處理困難、紋路不清晰、生產(chǎn)效率低的技術(shù)問題。
[0013] 為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的技術(shù)方案是:提供一種不誘鋼托盤的蝕刻方法,所 述不誘鋼托盤的蝕刻方法包括W下步驟:
[0014] (1)清洗與去油:將按托盤尺寸剪切成片后的不誘鋼片,在自動清洗機(jī)上清洗和去 油;
[0015] (2)涂布:將感光線路油墨滾涂在經(jīng)步驟(1)處理后得到的不誘鋼片的表面上W形 成油墨保護(hù)膜,感光線路油墨保護(hù)膜的厚度為8-15皿;
[0016] (3)顯影:在菲林片上制作花紋和圖案,然后將菲林片放置在油墨保護(hù)膜上,通過 顯影設(shè)備進(jìn)行顯影,將顯影部分的油墨保護(hù)膜去掉,漏出需要被蝕刻的金屬部分;
[0017] (4)不誘鋼片的蝕刻:將蝕刻液注于蝕刻槽中,然后將顯影后的不誘鋼片放置于蝕 刻槽的蝕刻液中,使其擴(kuò)散至待蝕刻材料之表面,即蝕刻開始,完成后蝕刻處將呈現(xiàn)所需的 花紋和圖案;
[0018] (5)退膜烘干:金屬表面蝕除部分為所需的花紋和圖案,但未蝕除部分仍有油墨保 護(hù)膜覆蓋,利用強(qiáng)堿進(jìn)行沖洗退膜,然后烘干;
[0019] (6)托盤成型:退膜烘干后的不誘鋼片上面有花紋和圖案,然后利用液壓機(jī)進(jìn)行沖 壓拉伸,制作成托盤形狀;
[0020] (7)切割去毛刺:按照尺寸將成型的托盤切割下來,形成單片托盤,對托盤的邊緣 進(jìn)行拋光去毛刺。
[0021 ]在本發(fā)明的所述不誘鋼托盤的蝕刻方法中,步驟(1)的清洗與去油屬于常規(guī)操作, 本領(lǐng)域技術(shù)人員可進(jìn)行合適的選擇與確定,在此不再進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0022]在本發(fā)明的所述不誘鋼托盤的蝕刻方法中,作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案,步驟(2) 中,不誘鋼片在縱向輸送的輸送帶上向下游輸送,所述油墨保護(hù)膜覆在一膜卷上,位于所述 輸送帶的兩側(cè)分別設(shè)有放卷漉和收卷漉,所述膜卷由所述放卷漉展開,并由所述收卷漉卷 取,所述油墨保護(hù)膜朝向所述輸送帶方向,所述膜卷的運(yùn)動方向與所述輸送帶的輸送方向 相垂直,所述輸送帶上方設(shè)有由第一動力裝置驅(qū)動的滾壓漉。
[0023] 在本發(fā)明的所述不誘鋼托盤的蝕刻方法中,作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案,步驟(2) 中,所述滾壓漉往復(fù)滾壓于所述輸送帶上。
[0024] 在本發(fā)明的所述不誘鋼托盤的蝕刻方法中,作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案,步驟(2) 中,所述放卷漉與輸送帶之間W及所述輸送帶與收卷漉之間均設(shè)有導(dǎo)引漉,兩所述導(dǎo)引漉 的上表面與所述輸送帶上不誘鋼片的上表面齊平。
[0025] 在本發(fā)明的所述不誘鋼托盤的蝕刻方法中,步驟(3)的顯影是本領(lǐng)域中的常規(guī)技 術(shù)手段,在此不再進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0026] 在本發(fā)明的所述不誘鋼托盤的蝕刻方法中,步驟(4)中,所述蝕刻液包括Ξ氯化 鐵、鹽酸、帕加2〇5(亞銘酸銅)、氣化錠、絡(luò)合劑、助劑、穩(wěn)定劑和去離子水。
[0027] 其中,在所述蝕刻液中,各個組分的濃度如下: 王氯化鐵 40-50 g/L 鹽酸 1-2 g/L 亞絡(luò)酸銅 10-18 g/L
[002引 氣化按 0.4-0.8 g/L 絡(luò)合劑 4-6 g/L 助劑 8-10 g/L 穩(wěn)定劑 2.5-3 g/L
[0029] 目P,在整個所述蝕刻液中,由于體積量最大的是去離子水,所W除了去離子水外的 其它組分在最終每升化)所述蝕刻液中存在的質(zhì)量(W克(g)計(jì)量)如上面所示。
[003