本公開涉及濾光片領(lǐng)域，更具體地涉及一種短波通紫外濾光片的制備方法。

背景技術(shù)：

1、濾光片是一種可以用來選取所需輻射波段的光學(xué)器件。濾光片的作用是通過選擇性地控制不同波長的光透射，其在生活中的分布非常廣泛，包括手機(jī)、汽車電子、醫(yī)療影像、傳感器、視聽/數(shù)碼電子產(chǎn)品等等多個(gè)領(lǐng)域。

2、濾光片一般根據(jù)光譜波段可分為紫外濾光片、可見濾光片和紅外濾光片。紫外濾光片可以吸收可見光，又允許紫外光通過，也允許部分近紅外光通過。紫外帶通濾光片上已在業(yè)界展開研制，但是依然需要進(jìn)一步深入開發(fā)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于背景技術(shù)中存在的問題，本公開的一目的在于提供一種短波通紫外濾光片的制備方法，其在測試角度為0°紫外光段到可見光波段在透過段360-460nm的平均透過率為98％以上、截止段530-560nm的平均透過小于0.1％。

2、由此，一種短波通紫外濾光片的制備方法包括步驟：s1，將作為鏡片的玻璃基底的產(chǎn)品的表面進(jìn)行清潔處理；s2，將處理好的鏡片放入工裝夾具，裝好后的鏡片掛入真空鍍膜機(jī)腔體內(nèi)，腔體的溫度設(shè)定為150℃；s3，真空鍍膜機(jī)啟動抽真空，真空度達(dá)到1.0×10-3pa，打開真空鍍膜機(jī)的輔助鍍膜的射頻離子源進(jìn)行清洗，清洗時(shí)間為6min，射頻離子源的參數(shù)為：出射離子加速電壓750v、出射離子電流為750ma、網(wǎng)柵離子偏轉(zhuǎn)電壓600v、氬氣流量8sccm、氧氣流量75sccm；s4，在鏡片的第一面鍍制短波通膜系，短波通膜系為80.04h90.05l?75.25h?79.63l?66.91h?101.42l?52.56h?105.14l?59.19h92.56l?62.15h?98.59l55.4h?102.89l?58.89h?95.45l?63.02h?98.14l?60.9h107.93l?58.64h?55.22l，其中，h表示一個(gè)λ0/4光學(xué)厚度的ta2o5膜層，l表示一個(gè)λ0/4光學(xué)厚度的sio2膜層，λ0為入射光波長，h與l前的數(shù)字為膜層的單位為nm的厚度，ta2o5和sio2膜層均使用電子束蒸鍍且采用射頻離子源輔助蒸鍍，ta2o5膜層的沉積速率為0.4nm/s，sio2膜層的沉積速率為1nm/s；s5，在鏡片的第一面鍍制短波通膜系完成后，待腔體冷卻至50-60℃以下將工裝夾具連同產(chǎn)品取出；s6，重復(fù)步驟s1至步驟s3；s7，在鏡片的第二面鍍制增透膜系，增透膜系為16.53h?26.98l28.44h?76.55l，其中，h表示一個(gè)λ0/4光學(xué)厚度的ta2o5膜層，l表示一個(gè)λ0/4光學(xué)厚度的sio2膜層，λ0為入射光波長，h與l前的數(shù)字為膜層的單位為nm的厚度，ta2o5和sio2膜層均使用電子束蒸鍍且采用射頻離子源輔助蒸鍍，ta2o5膜層的沉積速率為0.4nm/s，sio2膜層的沉積速率為1nm/s；s8，在鏡片的第二面鍍制增透膜系完成后，待腔體冷卻至50-60℃以下將工裝夾具連同產(chǎn)品取出。

3、本公開的有益效果如下：在根據(jù)本公開的短波通紫外濾光片的制備方法中，通過在鏡片的第一面鍍制ta2o5和sio2的22層構(gòu)成的短波通膜系的步驟s4以及在鏡片的第二面鍍制ta2o5和sio2的4層構(gòu)成的增透膜系的步驟s7，并結(jié)合步驟s1以及步驟s6的表面清潔、步驟s2以及步驟s6的腔體溫度、步驟s3以及步驟s6的離子源清洗以及步驟s5和步驟s8的降溫，測試角度為0°紫外光段到可見光波段在透過段360-460nm的平均透過率為98％以上、截止段530-560nm的平均透過小于0.1％。

技術(shù)特征：

1.一種短波通紫外濾光片的制備方法，其特征在于，包括步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的短波通紫外濾光片的制備方法，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的短波通紫外濾光片的制備方法，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的短波通紫外濾光片的制備方法，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的短波通紫外濾光片的制備方法，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
一種短波通紫外濾光片的制備方法包括步驟：S1，作為鏡片的玻璃基底的產(chǎn)品清潔；S2，將鏡片放入工裝夾具，掛入鍍膜機(jī)；S3，抽真空，射頻離子源清洗；S4，鏡片的第一面鍍短波通膜系80.04H?90.05L?75.25H?79.63L66.91H?101.42L?52.56H?105.14L?59.19H?92.56L?62.15H?98.59L?55.4H?102.89L58.89H?95.45L?63.02H?98.14L?60.9H?107.93L?58.64H?55.22L，H表示Ta<subgt;2</subgt;O<subgt;5</subgt;膜層，L表示SiO<subgt;2</subgt;膜層，均使用電子束蒸鍍且射頻離子源輔助，Ta<subgt;2</subgt;O<subgt;5</subgt;沉積速率為0.4nm/s，SiO<subgt;2</subgt;沉積速率為1nm/s；S5，冷卻取出；S6，重復(fù)S1至S3；S7，鏡片的第二面鍍增透膜系16.53H?26.98L?28.44H?76.55L；S8，冷卻取出。

技術(shù)研發(fā)人員：梁獻(xiàn)波,呼亞龍,劉克武
受保護(hù)的技術(shù)使用者：安徽光智科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9