本實用新型涉及一種布氣裝置。
背景技術:
膜層均勻性在大面積磁控濺射鍍膜設備中,是一項非常重要的指標。影響磁控濺射鍍膜均勻性的因素有很多,比如磁場分布、布氣分布、電場分布和濺射擋板開口等因素。目前,提高膜層均勻性的主要方法是,保證設備的磁場均勻性、布氣的均勻性和調(diào)節(jié)濺射擋板的開口尺寸等方法,及綜合使用這幾種方法。布氣的均勻性非常重要,但是,在一些對膜層均勻性要求非??量痰墓に囍校R?guī)的布氣設計無法實現(xiàn)工藝要求的均勻性,或即使能實現(xiàn)布氣的均勻性,但由于成本太過昂貴而無法在市場全面推廣,或造成由于結構尺寸太大而無法集成到陰極上。
常規(guī)布氣方式容易造成布氣的不均,在兩個進氣口附近形成較多的氣體,從而在造成產(chǎn)品膜層的不均勻?;蛘邥沟谜麄€布氣板的高度很高,成本很高,且會由于尺寸太大的原因,而不能得到應用。
技術實現(xiàn)要素:
本實用新型的目的之一是為了克服現(xiàn)有技術中的不足,提供一種布氣均勻分布且結構簡單的布氣裝置。
為實現(xiàn)以上目的,本實用新型通過以下技術方案實現(xiàn):
布氣裝置,其特征在于,包括:
基板,所述基板為長方體形狀,其具有前表面、后表面、上表面、下表面及兩個側表面;所述上表面上開設有第一進氣口和第二進氣口;所述基板設置有第一氣體通道和第二氣體通道,所述第一進氣口與所述第一氣體通道連通,所述第一氣體通道設置所述前表面;所述第二氣體通道與第二進氣口連通,所述第二氣體通道設置在所述后表面;
第一密封板;所述第一密封板與所述基板連接,并位于所述前表面一側;所述第一密封板上設置有多個第一通孔;所述第一通孔與所述第一氣體通道連通;
第一布氣板,所述第一布氣板位于所述第一密封板一側;第一布氣板與所述第一密封板之間設置第三氣體通道,所述第三氣體通道一端與第一通孔連通,另一端朝下設置有第一出氣口;
第二密封板,所述第二密封板與所述基板連接,并位于所述后表面一側;所述第二密封板上設置有多個第二通孔;所述第二通孔與所述第二氣體通道連通;
第二布氣板,所述第二布氣板位于所述第二密封板一側;第二布氣板與所述第二密封板之間設置第四氣體通道,所述第四氣體通道一端與第二通孔連通,另一端朝下設置有第二出氣口;
自第一進氣口進入的氣體經(jīng)第一氣體通道、第三氣體通道或者兩者的組合均分為多路后,自第一出氣口流出;自第二進氣口進入的氣體經(jīng)第二氣體通道、第四氣體通道或者兩者的組合均分為多路后,自第二出氣口流出。
根據(jù)本實用新型的一個實施例,所述第一氣體通道為第一通氣槽,所述第一通氣槽設置在所述基板前表面,所述第一進氣口與所述第一通氣槽連通;所述第二氣體通道為第二通氣槽,所述第二通氣槽設置在所述基板后表面,所述第二進氣口與所述第二通氣槽連通。
根據(jù)本實用新型的一個實施例,所述第三氣體通道為第三通氣槽,所述第三通氣槽設置在所述第一布氣板或第一密封板上;所述第三通氣槽與所述第一通孔連通。
根據(jù)本實用新型的一個實施例,所述第四氣體通道為第四通氣槽,所述第四通氣槽設置在所述第二布氣板或第二密封板上;所述第四通氣槽與所述第二通孔連通。
根據(jù)本實用新型的一個實施例,還包括布氣擋罩,所述布氣擋罩設置有多個第三通孔;所述布氣擋罩覆蓋所述基板、第一密封板、第二密封板、第一布氣板和第二布氣板下表面;所述第一出氣口與所述第二出氣口均與所述第三通孔連通。
根據(jù)本實用新型的一個實施例,所述第一密封板上設置有八個第一通孔,經(jīng)第一進氣口進入的氣體經(jīng)第一氣體通道均分為八路后,分別自八個第一通孔內(nèi)進入八個第三氣體通道內(nèi),再經(jīng)八個第三氣體通道均分為六十四路后經(jīng)六十四個第一出氣口流出。
根據(jù)本實用新型的一個實施例,所述第二進氣口數(shù)目為多個,經(jīng)多個第二進氣口進入的氣體均分為相同或不同數(shù)目的多路氣體。
根據(jù)本實用新型的一個實施例,所述第二進氣口數(shù)目為五個,第二氣體通道及第四氣體通道數(shù)目與第二進氣口數(shù)目相同;經(jīng)其中四個第二進氣口進入的氣體被第二氣體通道、第四氣體通道或者兩者的組合均分為八路氣體后流出;經(jīng)其中一個第二進氣口進入的氣體被第二氣體通道、第四氣體通道或者兩者的組合均分為十六路氣體后流出。
與現(xiàn)有技術相比,本實用新型中的布氣裝置通過采用錯位分布式二元布氣設計,能夠?qū)崿F(xiàn)工藝氣體沿靶材長度方向分布的均勻性,同時結構緊湊,且在此結構上同時設置了分段供氣結構,以便通過調(diào)節(jié)各段氣體的數(shù)量達到彌補其它因素造成的膜層不均勻現(xiàn)象。本實用新型中的布氣裝置布氣均勻,結構緊湊,制造成本低,能夠?qū)崿F(xiàn)苛刻膜層均勻性的要求,保證了鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。
本實用新型中,基板的兩側分別設置有氣體通道,可充分利用基板的結構空間。采用第一通氣槽、第二通氣槽,分別配合第一密封板、第二密封板及第一布氣板、第二布氣板,使其加工方便,易于生產(chǎn)。第一出氣口與第二出氣口分別錯開設置,使得本實用新型中的布氣更加均勻。
附圖說明
圖1為本實用新型中布氣裝置應用于旋轉陰極的結構示意圖。
圖2為本實用新型中的布氣裝置結構示意圖。
圖3為從另一角度觀察的布氣裝置結構示意圖。
圖4為圖3中的布氣裝置省略擋氣罩后的結構示意圖。
圖5為本實用新型中的基板前表面結構示意圖。
圖6為本實用新型中的基板后表面結構示意圖。
圖7為本實用新型中的基板與第一密封板配合關系示意圖。
圖8為本實用新型中的第一布氣板結構示意圖。
圖9為本實用新型中的基板與第二密封板配合關系示意圖。
圖10為本實用新型中的第二布氣板結構示意圖。
圖11為圖1的側視圖。
具體實施方式
以下結合實施例和附圖對本實用新型進一步說明。
請參閱圖1和圖11,其為旋轉陰極的結構示意圖。所述旋轉陰極包括陰極蓋板1和兩個靶材3。陰極蓋板上分別設置有兩個陰極端頭2和兩個支撐座12。每個靶材3內(nèi)部安裝有磁棒(圖中未示出)。每個靶材3一端與陰極端頭2連接,另一端支撐在支撐座12上。陰極端頭2實現(xiàn)靶材轉動的驅(qū)動功能、靶材冷卻水的傳輸和水動密封功能,即真空動密封功能。在工作的過程中,陰極端頭2帶動靶材3轉動,支撐座12在靶材的另外一側起到支撐和絕緣的作用。陰極端頭2、支撐座12、靶材3、安裝在靶材3內(nèi)部的磁棒及陰極蓋板1的功能都為本領域人員所習知的技術,本文不再贅述。
兩個靶材3間隔設置,兩個靶材3之間設置有布氣裝置4。布氣裝置4,其結構包括基板5、第一密封板6、第二密封板7、第一布氣板8和第二布氣板9。
如圖2至圖10所示,所述基板5為長方體形狀,其具有前表面51、后表面52、上表面53、下表面54及兩個側表面;所述上表面53上開設有第一進氣口55和第二進氣口56;所述基板5設置有第一氣體通道和第二氣體通道,所述第一進氣口55與所述第一氣體通道連通;所述第二氣體通道與第二進氣口56連通。在如圖所示的示例中,所述第一氣體通道為第一通氣槽57,所述第一通氣槽57設置在所述基板前表面51,所述第一進氣口55與所述第一通氣槽57連通;所述第二氣體通道為第二通氣槽58,所述第二通氣槽58設置在所述基板后表面52,所述第二進氣口56與所述第二通氣槽58連通。
所述第一密封板6與所述基板5連接,并位于所述前表面51一側;所述第一密封板6上設置有多個第一通孔61;所述第一通孔61與所述第一通氣槽57位置相對。所述第一布氣板8位于所述第一密封板6一側;第一布氣板8與所述第一密封板6之間設置第三氣體通道,所述第三氣體通道一端與第一通孔61連通,另一端朝下設置有第一出氣口81。在如圖所示的示例中,所述第三氣體通道為第三通氣槽82,所述第三通氣槽82設置在所述第一布氣板8上;所述第三通氣槽82與所述第一通孔61連通。
在入圖所示的示例中,所述第一密封板6上設置有八個第一通孔61,經(jīng)第一進氣口55進入的氣體經(jīng)第一通氣槽57均分為八路后,分別自八個第一通孔61內(nèi)進入八個第三通氣槽82內(nèi),再經(jīng)八個第三通氣槽82均分為六十四路后經(jīng)六十四個第一出氣口71流出。
所述第二密封板7與所述基板5連接,并位于所述后表面52一側;所述第二密封板7上設置有多個第二通孔71;所述第二通孔71與所述第二通氣槽58位置相對。所述第二布氣板9位于所述第二密封板7一側;第二布氣板9與所述第二密封板7之間設置第四氣體通道,所述第四氣體通道一端與第二通孔71連通,另一端朝下設置有第二出氣口91。在如圖所示的示例中,所述第四氣體通道為第四通氣槽92,所述第四通氣槽92設置在所述第二布氣板9上;所述第四通氣槽92與所述第二通孔71連通。
在如圖所示的示例中,所述第二進氣口56數(shù)目為五個,經(jīng)五個第二進氣口56進入的氣體均分為相同或不同數(shù)目的多路氣體。第二通氣槽58及第四通氣槽92數(shù)目為6個,經(jīng)其中四個第二進氣口56進入的氣體被第二通氣槽58、第四通氣槽92或兩者的組合均分為八路氣體后流出;經(jīng)其中一個第二進氣口56進入的氣體被第二通氣槽58、第四通氣槽92或者兩者的組合均分為二十四路后經(jīng)二十四個第二出氣口91流出。
所述布氣裝置4還包括布氣擋罩10,所述布氣擋罩10設置有多個第三通孔11;所述布氣擋罩10覆蓋所述基板5、第一密封板6、第二密封板7、第一布氣板8和第二布氣板9下表面。所述第一出氣口81與所述第二出氣口91均與所述第三通孔11連通。
本實用新型使用時,自第一進氣口55進入的氣體經(jīng)第一氣體通道、第二氣體通道或者兩者的組合均分為多路后,自第一出氣口81流出;自第二進氣口56進入的氣體經(jīng)第二氣體通道、第四氣體通道或者兩者的組合均分為多路后,自第二出氣口91流出。自第一出氣口81流出的氣體和自第二出氣口91流出的氣體均自第三通孔11流出。
與現(xiàn)有技術相比,本實用新型中的布氣裝置通過采用錯位分布式二元布氣設計,能夠?qū)崿F(xiàn)工藝氣體沿靶材長度方向分布的均勻性,同時結構緊湊,且在此結構上同時設置了分段供氣結構,以便通過調(diào)節(jié)各段氣體的數(shù)量達到彌補其它因素造成的膜層不均勻現(xiàn)象。本實用新型中的布氣裝置布氣均勻,結構緊湊,制造成本低,能夠?qū)崿F(xiàn)苛刻膜層均勻性的要求,保證了鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。
本實用新型中的實施例僅用于對本實用新型進行說明,并不構成對權利要求范圍的限制,本領域內(nèi)技術人員可以想到的其他實質(zhì)上等同的替代,均在本實用新型保護范圍內(nèi)。