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一種磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置的制作方法

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一種磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置的制作方法

本實(shí)用新型涉及一種磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置,特別涉及對(duì)光學(xué)元件平面多級(jí)真空吸附下的磨料半固著磁流變研磨拋光。



背景技術(shù):

隨著航空航天、精密儀器、光學(xué)技術(shù)的迅速發(fā)展,以及人造衛(wèi)星姿態(tài)控制和遙測(cè)器件、光刻和光電子器件等各種高精度平面、曲面和復(fù)雜形狀零件加工需求日益迫切,光電器件應(yīng)用的日益廣泛對(duì)光電元件加工的形狀精度和表面精度提出了更高的要求。超精密加工技術(shù)是光電器件制造業(yè)的支撐技術(shù),廣泛應(yīng)用于信息技術(shù)、航天航空技術(shù)、激光技術(shù)、電子通信、醫(yī)療保健、生物工程、加工制造業(yè)等領(lǐng)域,并取得了長(zhǎng)足的發(fā)展,已經(jīng)成為高新技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)中重要的競(jìng)爭(zhēng)領(lǐng)域。

電子信息制造業(yè)是國(guó)家基礎(chǔ)性和戰(zhàn)略性的產(chǎn)業(yè),其技術(shù)水平和發(fā)展規(guī)模已經(jīng)成為一個(gè)國(guó)家技術(shù)創(chuàng)新水平和綜合國(guó)力的標(biāo)志之一,其中最能體現(xiàn)其核心價(jià)值和技術(shù)難度的當(dāng)屬微電子和光電子制造,以超精密加工技術(shù)為支撐的半導(dǎo)體器件,為電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了基礎(chǔ),光電子器件的加工制造技術(shù)一直受到超精密加工技術(shù)發(fā)展的制約,提高超精密加工水平、解決光電子制造的瓶頸已成為當(dāng)前研究熱點(diǎn)之一。隨著光電產(chǎn)品使用性能的不斷提高,對(duì)光學(xué)元件形狀精度、表面精度和表面完整性要求也愈來(lái)愈高,而磁流變拋光方式具有拋光效果好、不產(chǎn)生次表面損傷、適合復(fù)雜表面加工等傳統(tǒng)拋光所不具備的優(yōu)點(diǎn),已成為光學(xué)元件超精密加工的重要方法。

隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,要求其元器件加工成本不斷下降,并且光學(xué)元件的直徑越做越大(如微電子行業(yè)的單晶硅片加工,已經(jīng)發(fā)展到目前主流的8英寸,并且還在逐漸向12英寸發(fā)展),因此其表面的超光滑拋光成為超精密加工技術(shù)的一個(gè)新挑戰(zhàn),

專利CN200610132495.9將多個(gè)磁性體有序地陣列在抗磁材料拋光盤(pán)基體上,實(shí)現(xiàn)集群磁流變效應(yīng)平面拋光,提高了拋光效率和拋光區(qū)域,實(shí)現(xiàn)了對(duì)大尺寸工件進(jìn)行加工,但集群磁流變平面拋光的工件有效夾持問(wèn)題一直得不到很好解決。目前使用得比較廣泛的方式是貼蠟,但是該方式難以保證蠟層粘貼厚度的均勻性,造成工件表面不平整,并且工件在拆除過(guò)程容易受熱不均勻而發(fā)生破碎;保證夾持零件的基體表面不被磨損,在磁流變拋光過(guò)程中,當(dāng)磁流變?nèi)嵝話伖鈮|以一定間隙加工工件時(shí),由于工件的厚度較薄,柔性拋光墊也能和夾持零件的基體保持接觸,在磨料顆粒的作用下對(duì)該基體進(jìn)行磨損,從而影響夾持零件的基體的表面精度。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的在于考慮上述問(wèn)題而提供的一種磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置。本實(shí)用新型能在不磨損零件夾持基體表面的情況下對(duì)不同尺寸的光學(xué)元件、半導(dǎo)體基片等硬脆材料采用真空吸附的方式進(jìn)行夾持,該方式方便實(shí)用,拆裝方便,能實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的高效率磁流變拋光。本實(shí)用新型高效率,成本低,獲得的工件表面質(zhì)量好,而且無(wú)表面和亞表面損傷、均勻化。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:本實(shí)用新型的磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置,包括真空吸附發(fā)生裝置、不同級(jí)數(shù)轉(zhuǎn)換裝置、真空吸附裝置,真空吸附發(fā)生裝置包括有導(dǎo)氣管、旋轉(zhuǎn)接頭、基體、主軸、導(dǎo)氣接頭,不同級(jí)數(shù)轉(zhuǎn)換裝置包括有連接套、端蓋、手動(dòng)球閥、連接管,真空吸附裝置包括有三級(jí)固定件、三級(jí)多孔陶瓷盤(pán)、二級(jí)固定件、二級(jí)多孔陶瓷盤(pán)、一級(jí)固定件、一級(jí)多孔陶瓷盤(pán),其中導(dǎo)氣管與旋轉(zhuǎn)接頭固定在一起,旋轉(zhuǎn)接頭固定在主軸的上方,主軸通過(guò)基體進(jìn)行固定,連接套裝設(shè)在主軸的底部,且與主軸固定在一起,端蓋安裝在連接套的外側(cè),一級(jí)固定件裝設(shè)在連接套的下部,二級(jí)固定件套裝在一級(jí)固定件的外側(cè),三級(jí)固定件套裝在二級(jí)固定件的外側(cè),連接管固定在一級(jí)固定件和連接套的內(nèi)孔,將一級(jí)固定件和連接套固定在一起;氣路控制閥安裝在端蓋的氣路中,一級(jí)多孔陶瓷盤(pán)、二級(jí)多孔陶瓷盤(pán)、三級(jí)多孔陶瓷盤(pán)分別固定在一級(jí)固定件、二級(jí)固定件、三級(jí)固定件所設(shè)的內(nèi)孔中,一級(jí)固定件只具有旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),二級(jí)固定件和三級(jí)固定件具有旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)和軸向方向的上下位移。

本實(shí)用新型的磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置采用真空吸附的方式對(duì)工件進(jìn)行夾持,該夾持方式方便實(shí)用,不易由于人為因素造成工件的破損而報(bào)廢。本實(shí)用新型只需一次吸氣就能實(shí)現(xiàn)不同級(jí)數(shù)的轉(zhuǎn)換以及對(duì)多孔陶瓷盤(pán)下端的工件進(jìn)行真空吸附的全過(guò)程,通過(guò)控制不同位置上手動(dòng)球閥的開(kāi)閉情況實(shí)現(xiàn)不同級(jí)數(shù)的轉(zhuǎn)換,達(dá)到對(duì)不同工件尺寸的裝夾,當(dāng)手動(dòng)球閥打開(kāi)時(shí)可以分別降低相應(yīng)二級(jí)固定件和三級(jí)固定件上方的氣壓實(shí)現(xiàn)兩者向上運(yùn)動(dòng),多孔陶瓷盤(pán)粘貼在二級(jí)固定件和三級(jí)固定件的下端,也會(huì)隨著二級(jí)固定件或三級(jí)固定件同時(shí)向上運(yùn)動(dòng),避免了柔性拋光墊接觸到多孔陶瓷盤(pán)未夾持工件的區(qū)域,從而解決了工件在磁流變拋光過(guò)程中會(huì)磨損多孔陶瓷盤(pán)的問(wèn)題,當(dāng)二級(jí)固定件或三級(jí)固定件向上運(yùn)動(dòng)后阻斷了一級(jí)固定件與二級(jí)固定件和三級(jí)固定件之間的連通,從而只能對(duì)一級(jí)多孔陶瓷盤(pán)上的工件進(jìn)行真空吸附。本實(shí)用新型通過(guò)旋轉(zhuǎn)的主軸在連接套的作用下帶動(dòng)下端真空吸附部分進(jìn)行同步旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),采用主軸上的卡環(huán),避免了導(dǎo)氣管軸向方向的運(yùn)動(dòng),各個(gè)相應(yīng)的零件內(nèi)部均開(kāi)有氣路,相鄰的零件所對(duì)應(yīng)的氣路對(duì)齊,可以合理地實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的真空吸附。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)了在不磨損多孔陶瓷盤(pán)的情況下能對(duì)不同尺寸的光學(xué)元件通過(guò)真空吸附的方式進(jìn)行裝夾,該裝置成本低、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,對(duì)工件夾持可靠,方便實(shí)用,可適用于不同尺寸光學(xué)元件平面的超光滑磁流變拋光。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置的三維示意圖;

圖2是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置的全剖主視圖;

圖3是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置的上視圖;

圖4是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置的局部剖視圖;

圖5是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置一級(jí)真空吸附的原理圖;

圖6是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置二級(jí)真空吸附的原理圖;

圖7是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置三級(jí)真空吸附的原理圖;

圖8是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置一級(jí)固定件的示意圖;

圖9是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置二級(jí)固定件的示意圖;

圖10是本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置三級(jí)固定件的示意圖;

圖11本實(shí)用新型磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置三級(jí)固定件的示意圖。

圖中:1.導(dǎo)氣管,2. 旋轉(zhuǎn)接頭,3. 基體,4. 連接套,5. 端蓋,6. 三級(jí)固定件,7. 三級(jí)多孔陶瓷盤(pán),8. 二級(jí)固定件,9. 二級(jí)多孔陶瓷盤(pán),10. 一級(jí)固定件,11. 一級(jí)多孔陶瓷盤(pán),12. 手動(dòng)球閥,13. 手動(dòng)球閥,14. 連接管,15. 緊定螺釘,16. 主軸,17.卡環(huán),18. 導(dǎo)氣接頭,19. 隔離環(huán),20. 凹槽,21. 定位壁,22. 一級(jí)定位環(huán),23. 二級(jí)定位環(huán),24. 二級(jí)氣路,25. 三級(jí)氣路,26. 工件,27. 磁流變液,28.拋光盤(pán),29.柔性微磨頭。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明,但實(shí)際可實(shí)現(xiàn)的工藝不限于本實(shí)施例:

實(shí)施例一:

如圖1~圖3所示,本實(shí)用新型的磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置,包括真空吸附發(fā)生裝置、不同級(jí)數(shù)轉(zhuǎn)換裝置、真空吸附裝置,真空吸附發(fā)生裝置包括有導(dǎo)氣管1、旋轉(zhuǎn)接頭2、基體3、主軸16、導(dǎo)氣接頭18,不同級(jí)數(shù)轉(zhuǎn)換裝置包括有連接套4、端蓋5、手動(dòng)球閥13、連接管14,真空吸附裝置包括有三級(jí)固定件6、三級(jí)多孔陶瓷盤(pán)7、二級(jí)固定件8、二級(jí)多孔陶瓷盤(pán)9、一級(jí)固定件10、一級(jí)多孔陶瓷盤(pán)11,其中導(dǎo)氣管1與旋轉(zhuǎn)接頭2固定在一起,旋轉(zhuǎn)接頭2固定在主軸16的上方,主軸16通過(guò)基體3進(jìn)行固定,連接套4裝設(shè)在主軸16的底部,且與主軸16固定在一起,端蓋5安裝在連接套4的外側(cè),一級(jí)固定件(10)裝設(shè)在連接套4的下部,二級(jí)固定件8套裝在一級(jí)固定件10的外側(cè),三級(jí)固定件6套裝在二級(jí)固定件8的外側(cè),連接管14固定在一級(jí)固定件10和連接套4的內(nèi)孔,將一級(jí)固定件10和連接套4固定在一起;氣路控制閥安裝在端蓋5的氣路中,一級(jí)多孔陶瓷盤(pán)11、二級(jí)多孔陶瓷盤(pán)9、三級(jí)多孔陶瓷盤(pán)7分別固定在一級(jí)固定件10、二級(jí)固定件8、三級(jí)固定件6所設(shè)的內(nèi)孔中,一級(jí)固定件10只具有旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6具有旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)和軸向方向的上下位移。本實(shí)用新型只安裝有一條導(dǎo)氣管1實(shí)現(xiàn)不同級(jí)數(shù)的轉(zhuǎn)換以及對(duì)工件26的真空吸附,各個(gè)零件內(nèi)部均開(kāi)有氣路,工作時(shí)相互接觸的不同零件的氣路對(duì)齊,整個(gè)氣路在徑向?qū)ΨQ方向至少為一條。

本實(shí)施例中,上述導(dǎo)氣管1通過(guò)導(dǎo)氣接頭18利用螺紋和旋轉(zhuǎn)接頭2固定在一起。

本實(shí)施例中,上述主軸16上設(shè)有卡環(huán)17,主軸16通過(guò)其上設(shè)有的卡環(huán)17對(duì)旋轉(zhuǎn)接頭2進(jìn)行軸向定位,使旋轉(zhuǎn)接頭2保持靜止。

本實(shí)施例中,上述連接套4及一級(jí)固定件10通過(guò)螺紋與連接管14連接,實(shí)現(xiàn)同步旋轉(zhuǎn);端蓋5通過(guò)螺紋和連接套4固定在一起;一級(jí)固定件10上設(shè)有若干個(gè)一級(jí)定位環(huán)22,二級(jí)固定件8上設(shè)有若干個(gè)二級(jí)定位環(huán)23,端蓋5上設(shè)有定位壁21,一級(jí)固定件10、二級(jí)固定件8、三級(jí)固定件6之間通過(guò)一級(jí)定位環(huán)22、二級(jí)定位環(huán)23以及定位壁21進(jìn)行定位,二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6分別利用一級(jí)定位環(huán)22和二級(jí)定位環(huán)23定位向下的運(yùn)動(dòng),利用端蓋5的定位壁(21)定位向上的運(yùn)動(dòng)。

上述一級(jí)定位環(huán)22和二級(jí)定位環(huán)23保證二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6只進(jìn)行軸向的上下位移,并且?guī)?dòng)兩者進(jìn)行軸向同步旋轉(zhuǎn)。當(dāng)需要二級(jí)真空吸時(shí),一級(jí)固定件10位置處于下端,利用一級(jí)固定件10上的一級(jí)定位環(huán)22的上表面定位二級(jí)固定件8向下的運(yùn)動(dòng),當(dāng)需要三級(jí)真空吸時(shí),二級(jí)固定件8的位置處于下端,利用二級(jí)固定件8上的二級(jí)定位環(huán)22的上表面定位三級(jí)固定件8向下的運(yùn)動(dòng)。

本實(shí)施例中,上述一級(jí)固定件10、二級(jí)固定件8、三級(jí)固定件6作為整體通過(guò)連接管14和連接套4固定在一起,連接套4通過(guò)緊定螺釘15固定在主軸16上,主軸固定在機(jī)床基體3上,從而實(shí)現(xiàn)一級(jí)固定件10、二級(jí)固定件8、三級(jí)固定件6的固定;連接管14的結(jié)構(gòu)為內(nèi)部空心的螺柱。

本實(shí)施例中,上述氣路控制閥包括有第一手動(dòng)球閥12和第二手動(dòng)球閥13,端蓋5上設(shè)有二級(jí)氣路24和三級(jí)氣路25,手動(dòng)球閥12和手動(dòng)球閥13分別裝設(shè)在端蓋5所設(shè)的二級(jí)氣路24和三級(jí)氣路25中,第一手動(dòng)球閥12和第二手動(dòng)球閥13分別控制端蓋5所設(shè)二級(jí)氣路24和三級(jí)氣路25的通斷。

本實(shí)施例中,上述端蓋5上設(shè)有隔離環(huán)19,二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6上方的密閉區(qū)域利用端蓋5所設(shè)的隔離環(huán)19進(jìn)行分離,實(shí)現(xiàn)兩部分的空間相對(duì)獨(dú)立,二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6均開(kāi)有凹槽20,保證兩者可以向上運(yùn)動(dòng)。

上述凹槽20在一級(jí)定位環(huán)22和二級(jí)定位環(huán)23的作用下可以保證二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6沿著軸向方向進(jìn)行直線上下運(yùn)動(dòng)。為了實(shí)現(xiàn)不同級(jí)數(shù)的轉(zhuǎn)換,二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6上方的密閉區(qū)域需要相對(duì)獨(dú)立,如圖11所示,端蓋5設(shè)有圓環(huán)形的隔離環(huán)19,在進(jìn)行級(jí)數(shù)轉(zhuǎn)換時(shí),端蓋5不進(jìn)行上下運(yùn)動(dòng),依靠上方區(qū)域氣壓實(shí)現(xiàn)二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6的上下運(yùn)動(dòng),二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6的上端直徑較小,圖2為三部分的真空吸盤(pán)運(yùn)動(dòng)到最下方的位置,因此,在二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6進(jìn)行上下運(yùn)動(dòng)時(shí),隔離環(huán)19始終能將兩部分區(qū)域分離。

本實(shí)施例中,通過(guò)控制二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6上方區(qū)域的氣壓實(shí)現(xiàn)不同級(jí)數(shù)的轉(zhuǎn)換,通過(guò)一級(jí)固定件10、二級(jí)固定件8、三級(jí)固定件6的氣路實(shí)現(xiàn)對(duì)工件26的真空吸附;三級(jí)固定件6和多孔陶瓷盤(pán)7的級(jí)數(shù)至少為兩級(jí)。三級(jí)固定件6和多孔陶瓷盤(pán)7的級(jí)數(shù)至少為兩級(jí)。

當(dāng)需要一級(jí)真空吸時(shí),打開(kāi)手動(dòng)球閥12和手動(dòng)球閥13,通過(guò)導(dǎo)氣管1對(duì)該裝置向上抽氣,使二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6在上下表面氣壓差的作用下運(yùn)動(dòng)到上方;二級(jí)真空吸裝置,首先打開(kāi)手動(dòng)球閥12和手動(dòng)球閥13,通過(guò)導(dǎo)氣管1對(duì)該裝置向上抽氣,使二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6在上下表面氣壓差的作用下運(yùn)動(dòng)到上方,然后打開(kāi)手動(dòng)球閥12,關(guān)閉手動(dòng)球閥13通過(guò)導(dǎo)氣管1向該裝置輸氣,使二級(jí)固定件8運(yùn)動(dòng)到下方;打開(kāi)手動(dòng)球閥12和手動(dòng)球閥13,通過(guò)導(dǎo)氣管1對(duì)該裝置向下輸氣,使二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6運(yùn)動(dòng)到下方。

氣壓大小的具體數(shù)值不需要確定,當(dāng)一直向密閉區(qū)域通氣或者抽氣時(shí),該區(qū)域的氣壓會(huì)一直增加或減小,當(dāng)氣壓增加或減小到一定數(shù)值時(shí)(大于或者小于大氣壓時(shí)),二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6就會(huì)向下或向上運(yùn)動(dòng)。

上述三級(jí)固定件6和多孔陶瓷盤(pán)7的級(jí)數(shù)至少為兩級(jí),級(jí)數(shù)是針對(duì)工件26的尺寸來(lái)提出的,工件26的尺寸越大,級(jí)數(shù)越高,指的是三級(jí)固定件6和多孔陶瓷盤(pán)7下端面所形成的吸附工件26的整個(gè)平面。

本實(shí)施例中,磁流變液27的配制方法為:在基載液硅油或者去離子水中加入質(zhì)量百分比為15~30%、平均粒徑為1~20微米的鐵粉,質(zhì)量百分比2~10%、平均粒徑為1~30微米的磨料顆粒、質(zhì)量百分比為1~10%的甘油、以及質(zhì)量百分比1~10%的防銹劑。

本實(shí)施例中,磁流變液27的配制方法為:在基載液去離子水中加入質(zhì)量百分比為16%、平均粒徑為1微米的羰基鐵粉,質(zhì)量百分比為4%、平均粒徑為3.5微米的金剛石磨料、質(zhì)量百分比為4%的甘油、以及質(zhì)量百分比2%的防銹劑。

本實(shí)施例中,上述一級(jí)固定件10只具有旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6具有旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)和軸向方向的上下位移,一級(jí)多孔陶瓷盤(pán)11、二級(jí)多孔陶瓷盤(pán)9、三級(jí)多孔陶瓷盤(pán)7分別粘固在一級(jí)固定件10、二級(jí)固定件8、三級(jí)固定件6的內(nèi)孔中,二級(jí)固定件8位于一級(jí)固定件10的外部和三級(jí)固定件10的內(nèi)部。

如圖5所示,本實(shí)施例中的工件26是兩英寸的單晶6H-SiC,工作時(shí),在一級(jí)多孔陶瓷盤(pán)11的真空吸附下帶動(dòng)工件26進(jìn)行旋轉(zhuǎn),工件26和柔性微磨頭29保持接觸,二級(jí)多孔陶瓷盤(pán)9和三級(jí)多孔陶瓷盤(pán)7運(yùn)動(dòng)到上方,避免和柔性微磨頭29接觸而磨損表面。

本實(shí)施例中,上述的磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置對(duì)工件26進(jìn)行平面加工的方法如下,本實(shí)施例中,工件26是單晶6H-SiC基片:

1)將磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置安裝在數(shù)控銑床上,設(shè)定主軸16的轉(zhuǎn)速為350r/min,調(diào)節(jié)工件26的下表面和拋光盤(pán)28的上表面之間的間隙為0.8mm;

2)根據(jù)工件26的尺寸,可以確定應(yīng)該使用一級(jí)真空吸裝置,打開(kāi)手動(dòng)球閥12和手動(dòng)球閥13,通過(guò)導(dǎo)氣管1對(duì)該裝置向上抽氣,使二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6在上下表面氣壓差的作用下運(yùn)動(dòng)到上方;

3)關(guān)閉手動(dòng)球閥12,通過(guò)導(dǎo)氣管1繼續(xù)對(duì)該裝置向上抽氣,將工件26安裝到多孔陶瓷盤(pán)的中心位置,在真空吸附的作用下對(duì)工件26進(jìn)行夾持,使工件26和拋光盤(pán)28的上表面平行,添加磁流變液27到拋光盤(pán)28的上方,在磁場(chǎng)力的作用下磁流變液會(huì)沿著磁感線方向迅速形成柔性微磨頭29;

4)啟動(dòng)數(shù)控銑床,保證在不磨損多孔陶瓷盤(pán)的下表面的情況下,對(duì)工件26進(jìn)行磁流變拋光60min后,可獲得表面粗糙度為0.007um表面超光滑的單晶6H-SiC基片。

實(shí)施例二:

本實(shí)用新型與實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)相同,不同之處在于工件26為三英寸的單晶藍(lán)寶石。

如圖6所示,工作時(shí),一級(jí)多孔陶瓷盤(pán)11和二級(jí)多孔陶瓷盤(pán)9的真空吸附下帶動(dòng)工件26進(jìn)行旋轉(zhuǎn),工件26和柔性微磨頭29保持接觸,三級(jí)多孔陶瓷盤(pán)7運(yùn)動(dòng)到上方,避免和柔性微磨頭29接觸而磨損表面。

本實(shí)施例中,磁流變液27的配制方法為:在基載液去離子水中加入質(zhì)量百分比為18%、平均粒徑為3.5微米的羰基鐵粉,質(zhì)量百分比為6%、平均粒徑為5微米的金剛石磨料、質(zhì)量百分比為5%的甘油、以及質(zhì)量百分比3%的防銹劑。

本實(shí)施例中,上述的磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置對(duì)工件(26)進(jìn)行平面加工的方法如下,本實(shí)施例中,工件26是單晶藍(lán)寶石:

1)將磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置安裝在數(shù)控銑床上,設(shè)定主軸16的轉(zhuǎn)速為400r/min,調(diào)節(jié)工件26的下表面和拋光盤(pán)28的上表面之間的間隙為1mm;

2)根據(jù)工件26的尺寸,可以確定應(yīng)該使用二級(jí)真空吸裝置,首先打開(kāi)手動(dòng)球閥12和手動(dòng)球閥13,通過(guò)導(dǎo)氣管1對(duì)該裝置向上抽氣,使二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6在上下表面氣壓差的作用下運(yùn)動(dòng)到上方,然后打開(kāi)手動(dòng)球閥12,關(guān)閉手動(dòng)球閥13通過(guò)導(dǎo)氣管1向該裝置輸氣,使二級(jí)固定件8運(yùn)動(dòng)到下方;

3)關(guān)閉手動(dòng)球閥12,通過(guò)導(dǎo)氣管1向該裝置輸氣,將工件26安裝到多孔陶瓷盤(pán)的中心位置,在真空吸附的作用下對(duì)工件(26)進(jìn)行夾持,使工件26和拋光盤(pán)28的上表面平行,添加磁流變液27到拋光盤(pán)28的上方,在磁場(chǎng)力的作用下磁流變液會(huì)沿著磁感線方向迅速形成柔性微磨頭29;

4)啟動(dòng)數(shù)控銑床,保證在不磨損多孔陶瓷盤(pán)的下表面的情況下,對(duì)工件26進(jìn)行磁流變拋光50min后,可獲得表面粗糙度為0.006um表面超光滑的單晶藍(lán)寶石。

實(shí)施例三:

本實(shí)用新型與實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)相同,不同之處在于工件26為四英寸的單晶硅。

如圖7所示,工作時(shí),在一級(jí)多孔陶瓷盤(pán)11、二級(jí)多孔陶瓷盤(pán)9和三級(jí)多孔陶瓷盤(pán)7的真空吸附下帶動(dòng)工件26進(jìn)行旋轉(zhuǎn),工件26和柔性微磨頭29保持接觸。

本實(shí)施例中,磁流變液27的配制方法為:在基載液去離子水中加入質(zhì)量百分比為20%、平均粒徑為3.5微米的羰基鐵粉,質(zhì)量百分比為6%、平均粒徑為1微米的氧化鋁磨料、質(zhì)量百分比為6%的甘油、以及質(zhì)量百分比4%的防銹劑。

本實(shí)施例中,上述的磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置對(duì)工件26進(jìn)行平面加工的方法如下,本實(shí)施例中,工件26是單晶硅:

1)將磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置安裝在數(shù)控銑床上,設(shè)定主軸16的轉(zhuǎn)速為450r/min,調(diào)節(jié)工件26的下表面和拋光盤(pán)28的上表面之間的間隙為1.2mm;

2)根據(jù)工件26的尺寸,可以確定應(yīng)該使用三級(jí)真空吸裝置,打開(kāi)手動(dòng)球閥12和手動(dòng)球閥13,通過(guò)導(dǎo)氣管1對(duì)該裝置向下輸氣,使二級(jí)固定件8和三級(jí)固定件6運(yùn)動(dòng)到下方;

3)關(guān)閉手動(dòng)球閥12,將工件26安裝到多孔陶瓷盤(pán)的中心位置,在真空吸附的作用下對(duì)工件26進(jìn)行夾持,使工件26和拋光盤(pán)28的上表面平行,添加磁流變液27到拋光盤(pán)28的上方,在磁場(chǎng)力的作用下磁流變液會(huì)沿著磁感線方向迅速形成柔性微磨頭29;

4)啟動(dòng)數(shù)控銑床,保證在不磨損多孔陶瓷盤(pán)的下表面的情況下,對(duì)工件26進(jìn)行磁流變拋光40min后,可獲得表面粗糙度為0.005um表面超光滑的單晶硅基片。

從上述實(shí)施例可以看出,本實(shí)用新型的磁流變平面拋光用多級(jí)真空吸附裝置采用多級(jí)真空吸附的方式對(duì)不同直徑的工件進(jìn)行夾持,可以有效對(duì)不同直徑的工件進(jìn)行吸附并解決集群磁流變平面拋光過(guò)程中對(duì)真空吸附裝置的破壞。本實(shí)用新型只需一次吸氣就能實(shí)現(xiàn)不同級(jí)數(shù)的轉(zhuǎn)換以及對(duì)多孔陶瓷盤(pán)下端的工件進(jìn)行真空吸附的全過(guò)程,通過(guò)控制不同位置上手動(dòng)球閥的開(kāi)閉情況實(shí)現(xiàn)不同級(jí)數(shù)的轉(zhuǎn)換,達(dá)到對(duì)不同工件尺寸的裝夾,當(dāng)手動(dòng)球閥打開(kāi)時(shí)可以分別降低相應(yīng)二級(jí)固定件和三級(jí)固定件上方的氣壓實(shí)現(xiàn)兩者向上運(yùn)動(dòng),多孔陶瓷盤(pán)粘貼在二級(jí)固定件和三級(jí)固定件的下端,也會(huì)隨著二級(jí)固定件或三級(jí)固定件同時(shí)向上運(yùn)動(dòng),避免了柔性拋光墊接觸到多孔陶瓷盤(pán)未夾持工件的區(qū)域,從而解決了工件在磁流變拋光過(guò)程中會(huì)磨損多孔陶瓷盤(pán)的問(wèn)題,當(dāng)二級(jí)固定件或三級(jí)固定件向上運(yùn)動(dòng)后阻斷了一級(jí)固定件與二級(jí)固定件和三級(jí)固定件之間的連通,從而只能對(duì)一級(jí)多孔陶瓷盤(pán)上的工件進(jìn)行真空吸附。本實(shí)用新型通過(guò)旋轉(zhuǎn)的主軸在連接套的作用下帶動(dòng)下端真空吸附部分進(jìn)行同步旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),采用主軸上的卡環(huán),避免了導(dǎo)氣管軸向方向的運(yùn)動(dòng),各個(gè)相應(yīng)的零件內(nèi)部均開(kāi)有氣路,相鄰的零件所對(duì)應(yīng)的氣路對(duì)齊,可以合理地實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的真空吸附。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)了在不磨損多孔陶瓷盤(pán)的情況下能對(duì)不同尺寸的光學(xué)元件通過(guò)真空吸附的方式進(jìn)行裝夾,該裝置成本低、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,對(duì)工件夾持可靠,方便實(shí)用,可適用于不同尺寸光學(xué)元件平面的超光滑磁流變拋光。

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