本發(fā)明涉及一種滾筒用腐蝕裝置，該滾筒用腐蝕裝置用于在制作長條狀的滾筒，例如用于凹版印刷的中空圓筒狀的凹版滾筒(也稱為制版卷筒)時(shí)，對形成版面用的版材的被處理滾筒進(jìn)行腐蝕。

背景技術(shù)：

在凹版印刷中，對被處理滾筒形成有對應(yīng)于制版信息的微小凹部(格)來制作版面，并在該格填充油墨向被印刷物轉(zhuǎn)印。一般的凹版滾筒以圓筒狀的鐵芯或鋁芯(中空卷筒)為基材，在該基材的外周表面上形成基底層、剝離層等多個(gè)層，在其上形成有形成版面用的銅鍍層(版材)。然后對該銅鍍層進(jìn)行曝光、顯像、腐蝕以形成凹版格，其后實(shí)施用于增加凹版滾筒的耐刷力的鍍鉻等完成制版(版面制作)。

作為滾筒用腐蝕裝置，例如有專利文獻(xiàn)1所記載的被制版卷筒的腐蝕裝置。在該專利文獻(xiàn)1的腐蝕裝置中，不論被制版卷筒的直徑如何，只要能將噴嘴與被制版卷筒的距離確保為恒定尺寸，并適當(dāng)調(diào)整腐蝕液接觸露出金屬面的力，即可制版出將側(cè)邊腐蝕抑制得較小的網(wǎng)點(diǎn)凹版。

但是，在專利文獻(xiàn)1中，使噴射腐蝕液的噴嘴水平或超斜下方地朝向被制版卷筒，因此腐蝕液的流動(dòng)較差，會(huì)有腐蝕不均勻的擔(dān)心。另外，當(dāng)使噴嘴水平或朝向斜下方時(shí)，由于重力而使腐蝕液供給管內(nèi)的殘留腐蝕液從噴嘴滴落，還存在污染被處理滾筒的問題。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開平9-268384

專利文獻(xiàn)2：WO2012/043515號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的課題

本發(fā)明是有鑒于上述以往技術(shù)的問題點(diǎn)而完成的，其目的在于提供一種滾筒用腐蝕裝置，該滾筒用腐蝕裝置的腐蝕比以往均勻，且可以解決腐蝕液供給管內(nèi)的殘留腐蝕液滴落的問題。

用于解決課題的手段

本發(fā)明的滾筒用腐蝕裝置包含：處理槽；夾持機(jī)構(gòu)，其以使被處理滾筒能夠旋轉(zhuǎn)的方式把持所述被處理滾筒的長邊方向兩端并將其收納于所述處理槽；至少一個(gè)腐蝕液供給管，其從所述被處理滾筒的長邊方向外周面間隔規(guī)定距離而設(shè)置，且與所述長邊方向外周面平行；以及多個(gè)噴出噴嘴，其排列設(shè)置于所述腐蝕液供給管，用于從所述腐蝕液供給管噴出腐蝕液，所述滾筒用腐蝕裝置使通過所述腐蝕液供給管的內(nèi)部并從噴出噴嘴噴出的所述腐蝕液與所述被處理滾筒的表面接觸，從而對所述被處理滾筒的表面實(shí)施腐蝕，其特征在于，所述噴出噴嘴相對于水平方向朝向斜上方，所述噴出噴嘴的噴出方向?yàn)閺乃霰惶幚頋L筒的斜下方朝向所述被處理滾筒的旋轉(zhuǎn)中心，所述噴出噴嘴設(shè)置為能夠接近或遠(yuǎn)離所述被處理滾筒的表面。

這樣，本發(fā)明中，所述噴出噴嘴相對于水平方向朝向斜上方，所述噴出噴嘴的噴出方向?yàn)閺乃霰惶幚頋L筒的斜下方朝向所述被處理滾筒的旋轉(zhuǎn)中心。因此，被處理滾筒表面上的腐蝕液的流動(dòng)良好，腐蝕均勻。需要說明的是，不會(huì)發(fā)生腐蝕液供給管內(nèi)的殘留腐蝕液因重力從噴嘴滴落而污染被處理滾筒的問題。

作為所述被處理滾筒，優(yōu)選凹版滾筒用的被處理滾筒。

優(yōu)選為，連結(jié)所述被處理滾筒的旋轉(zhuǎn)中心與所述噴出噴嘴的噴出方向的線相對于通過所述被處理滾筒的旋轉(zhuǎn)中心的鉛垂線呈45°±15°。

優(yōu)選為，將排列設(shè)置有多個(gè)所述噴出噴嘴的腐蝕液供給管沿所述被處理滾筒的周向設(shè)置多個(gè)，以從多個(gè)方向朝向所述被處理滾筒的旋轉(zhuǎn)中心的方式噴出所述腐蝕液。

更優(yōu)選為，所述腐蝕液供給管的全長比所述被處理滾筒的全長長，且所述腐蝕液供給管的前端部形成為排出口，將通過所述腐蝕液供給管的內(nèi)部的腐蝕液中的、未從所述噴出噴嘴噴出的腐蝕液從所述排出口排出，從而調(diào)節(jié)通過所述腐蝕液供給管的內(nèi)部的腐蝕液的流量。

本發(fā)明的滾筒用腐蝕方法的特征在于，使用所述滾筒用腐蝕裝置對所述被處理滾筒的表面實(shí)施腐蝕。

另外，本發(fā)明的滾筒的特征在于，通過所述滾筒用腐蝕方法而被腐蝕。作為滾筒，優(yōu)選凹版滾筒。

本發(fā)明的滾筒用腐蝕裝置可以單獨(dú)使用，但也能夠適宜用于例如專利文獻(xiàn)2所公開的全自動(dòng)凹版制版用處理系統(tǒng)的腐蝕處理。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，實(shí)現(xiàn)腐蝕比以往均勻，并且還能夠解決腐蝕液供給管內(nèi)的殘留腐蝕液滴落的問題的效果。

另外，若將本發(fā)明的滾筒用腐蝕裝置組裝于全自動(dòng)凹版制版用處理系統(tǒng)而使用，還實(shí)現(xiàn)能夠提供腐蝕比以往均勻并且還能夠解決腐蝕液供給管內(nèi)的殘留腐蝕液滴落的問題的全自動(dòng)凹版制版用處理系統(tǒng)的效果。

附圖說明

圖1是表示本發(fā)明滾筒用腐蝕裝置的一個(gè)實(shí)施方式的概略側(cè)視示意圖。

圖2是表示本發(fā)明滾筒用腐蝕裝置的一個(gè)實(shí)施方式的概略立體示意圖。

圖3是表示本發(fā)明滾筒用腐蝕裝置的一個(gè)實(shí)施方式的概略模式圖。

具體實(shí)施方式

以下根據(jù)附圖說明本發(fā)明的實(shí)施方式，但圖示例只是舉例表示，只要不脫離本發(fā)明技術(shù)的思想可以進(jìn)行各種變形此點(diǎn)無須說明。

在圖1及圖2中，附圖標(biāo)記10表示本發(fā)明滾筒用腐蝕裝置的一個(gè)實(shí)施方式。

滾筒用腐蝕裝置10包含：處理槽12；以使被處理滾筒14能夠旋轉(zhuǎn)的方式把持被處理滾筒14的長邊方向兩端并將其收納在該處理槽12的夾持機(jī)構(gòu)16；從該被處理滾筒14的長邊方向外周面間隔規(guī)定距離設(shè)置，且與該長邊方向外周面平行的至少一個(gè)腐蝕液供給管18(圖示例中為2個(gè))；排列設(shè)置在該腐蝕液供給管18上用于從該腐蝕液供給管18噴出腐蝕液19的多個(gè)噴出噴嘴20，使通過該腐蝕液供給管18的內(nèi)部從噴出噴嘴20噴出的該腐蝕液19與該被處理滾筒14的表面接觸，從而對該被處理滾筒14的表面實(shí)施腐蝕。

并且，使所述噴出噴嘴20相對水平方向朝向斜上方，所述噴出噴嘴20的噴出方向從所述被處理滾筒14的斜下方朝向所述被處理滾筒14的旋轉(zhuǎn)中心，所述噴出噴嘴20設(shè)置為能夠自動(dòng)地接近或遠(yuǎn)離所述被處理滾筒14的表面。另外，作為夾持機(jī)構(gòu)16，可以采用專利文獻(xiàn)1或?qū)＠墨I(xiàn)2記載的公知機(jī)構(gòu)。

作為將所述噴出噴嘴設(shè)置為能夠接近或遠(yuǎn)離所述被處理滾筒14的表面的結(jié)構(gòu)，如圖1表示，使所述腐蝕液供給管18能夠以支點(diǎn)22為中心旋轉(zhuǎn)，從而能夠接近或遠(yuǎn)離所述被處理滾筒14的表面。另外，如圖1所示，設(shè)置有用于使所述腐蝕液供給管18轉(zhuǎn)動(dòng)的連結(jié)桿23。需要說明的是，圖2的附圖標(biāo)記21表示支承腐蝕液供給管18的框。

如此，不論被處理滾筒14的直徑如何，只要能將噴出噴嘴20與被處理滾筒14的距離確保為恒定尺寸，并適當(dāng)調(diào)整腐蝕液接觸露出金屬面的力，即能夠制作將側(cè)邊腐蝕抑制得較小的凹版滾筒(凹版制版卷筒)。

并且，優(yōu)選為，使所述噴出噴嘴20相對水平方向朝向斜上方，所述噴出噴嘴20的噴出方向從所述被處理滾筒14的斜下方朝向所述被處理滾筒14的旋轉(zhuǎn)中心，連結(jié)所述被處理滾筒14的旋轉(zhuǎn)中心與所述噴出噴嘴20的噴出方向的線O相對于通過所述被處理滾筒14的旋轉(zhuǎn)中心的鉛垂線P呈45°±15°。在圖示例子中，如圖1所示，示出連結(jié)所述被處理滾筒14的旋轉(zhuǎn)中心與所述噴出噴嘴20的噴出方向的線O相對于通過所述被處理滾筒14的旋轉(zhuǎn)中心的鉛垂線P呈45°(θ＝45°)的例子。

另外，構(gòu)成為，將排列設(shè)置有多個(gè)所述噴出噴嘴20的腐蝕液供給管18沿所述被處理滾筒14的周向設(shè)置多個(gè)(圖示例中為2個(gè))，并以從多個(gè)方向朝所述被處理滾筒14的旋轉(zhuǎn)中心的方式噴出所述腐蝕液。

接著，根據(jù)圖3說明本發(fā)明滾筒用腐蝕裝置10的腐蝕液供給管18的實(shí)施方式。

如圖3所示，所述腐蝕液供給管18的全長比所述被處理滾筒14的全長長，且所述腐蝕液供給管18的前端部24形成為排出口26，將通過所述腐蝕液供給管18的內(nèi)部的腐蝕液中的、未從所述噴出噴嘴20噴出的腐蝕液從所述排出口26排出。這樣，通過將未從所述噴出噴嘴20噴出的腐蝕液從所述排出口26排出，所述腐蝕液供給管18的內(nèi)部壓力變均勻，通過所述腐蝕液供給管18的內(nèi)部從噴出噴嘴20噴出的腐蝕液的流量恒定。即，可以調(diào)節(jié)通過所述腐蝕液供給管18的內(nèi)部從噴出噴嘴20噴出的腐蝕液的流量。

需要說明的是，如圖2及圖3所示，在滾筒用腐蝕裝置10中設(shè)置有多個(gè)水洗噴射噴嘴32，該水洗噴射噴嘴32用于通過使水洗水28通過水洗水供給管30內(nèi)部并從水洗噴射噴嘴32噴射水，從而對被處理滾筒14進(jìn)行水洗。

另外，如圖2及圖3所示，在滾筒用腐蝕裝置10中設(shè)置有多個(gè)鹽酸噴射噴嘴38，該鹽酸噴射噴嘴38用于通過使鹽酸輔助槽34內(nèi)的鹽酸通過鹽酸供給管36內(nèi)部從鹽酸噴射噴嘴38噴出鹽酸，從而對被處理滾筒14進(jìn)行鹽酸清洗。

此外，如圖3所示，處理槽12內(nèi)的腐蝕液19通過液位計(jì)40而被監(jiān)視液位。另外，水42經(jīng)由水供給管44自動(dòng)地適當(dāng)供給。此外，從處理槽12溢出的液體被回收槽46回收。

此外，處理槽12內(nèi)的腐蝕液19通過循環(huán)泵50經(jīng)由帶有過濾器的吸入口48被汲取，然后再次向腐蝕液供給管18輸送。

實(shí)施例

以下舉出實(shí)施例更加具體地說明本發(fā)明，但這些實(shí)施例僅只是舉例而不應(yīng)作限定性的解釋，此點(diǎn)無庸置疑。

作為腐蝕裝置，使用組裝有與上述的滾筒用腐蝕裝置10相同結(jié)構(gòu)的裝置的NewFX(Think Laboratory Co.，Ltd.制全自動(dòng)激光制版系統(tǒng))置，制作凹版滾筒(制版卷筒)。作為腐蝕液，使用含有氯化銅濃度160g/L、鹽酸濃度35g/L的氯化銅腐蝕液。

(實(shí)施例1)

作為被處理滾筒，使用圓周600mm、全長1100mm的鋁芯的圓筒形基材，夾持被處理滾筒的兩端將其安裝于腐蝕槽，通過被計(jì)算機(jī)控制的轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)使腐蝕管接近被處理滾筒側(cè)面直至相距100mm，并噴射腐蝕液。將被處理滾筒的旋轉(zhuǎn)速度設(shè)為60rpm、液體溫度為35℃。在該條件下進(jìn)行腐蝕直至深度達(dá)到20μm。腐蝕處理所需的時(shí)間為120秒。通過激光顯微鏡測定被腐蝕處理的滾筒的深度。能夠在被處理滾筒的全長范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)深度均勻的腐蝕。之后，再實(shí)施鍍鉻進(jìn)行制版，制造出凹版滾筒。

在上述發(fā)明的實(shí)施方式中，說明了對凹版滾筒實(shí)施腐蝕的例子，但本發(fā)明并不限定于本例，也能夠同樣應(yīng)用于對其他滾筒狀的被腐蝕物進(jìn)行腐蝕的情況。

附圖標(biāo)記說明

10：本發(fā)明的滾筒用腐蝕裝置

12：處理槽

14：被處理滾筒

16：夾持機(jī)構(gòu)

18：腐蝕液供給管

19：腐蝕液

20：噴出噴嘴

21：框

22：支點(diǎn)

23：連結(jié)桿

24：前端部

26：排出口

28：水洗水

30：水洗水供給管

32：水洗噴射噴嘴

34：鹽酸輔助槽

36：鹽酸供給管

38：鹽酸噴射噴嘴

40：液位計(jì)

42：水

44：水供給管

46：回收槽

48：帶有過濾器的吸入口

50：循環(huán)泵

O：連結(jié)被處理滾筒的旋轉(zhuǎn)中心與噴出噴嘴的噴出方向的線

P：通過被處理滾筒的旋轉(zhuǎn)中心的鉛垂線