專利名稱：單管直流濺射玻璃鍍膜設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種鍍膜設(shè)備，特別是一種單管直流濺射玻璃鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)：
真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類， 包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材?；c靶材同在真空腔中。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。目前建筑玻璃LOWE鍍膜的濺射方式主要有平面直流濺射，雙管旋轉(zhuǎn)交流濺射。在此兩種方法中，平面濺射設(shè)備投資成本低，但濺射效率只有30 %，且對非金屬材料濺射效果不好；而雙管旋轉(zhuǎn)交流濺射效率高，但設(shè)備投資較高。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題是提供一種可大幅度降低成本卻不影響濺射效果的單管直流濺射玻璃鍍膜設(shè)備。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型所述的單管直流濺射玻璃鍍膜設(shè)備主要包括單管旋轉(zhuǎn)陰極；所述單管旋轉(zhuǎn)陰極主要由陰極靶材、旋轉(zhuǎn)端頭、陰極蓋板組成；所述陰極蓋板構(gòu)成框體，陰極靶材安裝在一對旋轉(zhuǎn)端頭之間，旋轉(zhuǎn)端頭連接在陰極蓋板下方，陰極蓋板一端設(shè)有電源接口，冷卻水接口，控制回路接口和供氣接口 ；電源接口上連接有直流電源；陰極蓋板內(nèi)設(shè)有氣體流量計(jì)，上部供氣口，控制部分和旋轉(zhuǎn)電機(jī)。本實(shí)用新型所具有的積極效果是與雙管交流濺射相比，節(jié)約投資，需要的端頭， 磁鋼，靶材，靶材冷卻設(shè)備只有雙管交流濺射的一半，可節(jié)省設(shè)備投資50% ；產(chǎn)品質(zhì)量好，靶材利用效率更高。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。


圖1單管直流濺射鍍膜玻璃設(shè)備示意圖。圖中1直流電源2電源接口3冷卻水接口4控制回路接口5旋轉(zhuǎn)端頭6陰極靶材7陰極蓋板8供氣接口9氣體流量計(jì)10上部供氣口11控制部分12旋轉(zhuǎn)電機(jī)具體實(shí)施方式
如
圖1所示，本實(shí)用新型所述的單管直流濺射玻璃鍍膜設(shè)備主要包括單管旋轉(zhuǎn)陰極；所述單管旋轉(zhuǎn)陰極主要由旋轉(zhuǎn)端頭5、陰極靶材6、陰極蓋板7組成；所述陰極蓋板 7構(gòu)成框體，陰極靶材6安裝在一對旋轉(zhuǎn)端頭5之間，旋轉(zhuǎn)端頭5連接在陰極蓋板7下方， 陰極蓋板7—端設(shè)有電源接口 2，冷卻水接口 3，控制回路接口 4和供氣接口 8 ；電源接口 2 上連接直流電源1 ；陰極蓋板7內(nèi)側(cè)設(shè)有氣體流量計(jì)8，陰極蓋板7下板上設(shè)有上部供氣口 10，控制部分11和旋轉(zhuǎn)電機(jī)12。本實(shí)用新型所具有的積極效果是與雙管交流濺射相比，節(jié)約投資，需要的端頭， 磁鋼，靶材，靶材冷卻設(shè)備只有雙管交流濺射的一半，可節(jié)省設(shè)備投資50% ；產(chǎn)品質(zhì)量好，靶材利用效率更高。采用該設(shè)備及方法濺射出鍍膜玻璃與雙管濺射出鍍膜玻璃性能對比如下產(chǎn)品光學(xué)性能對比如下可見光透過率Delta T = 0. 8% ；可見光玻璃面Delta R = 0. 5% ；可見光玻璃面色坐標(biāo)Delta E = 0. 9 ；玻璃的輻射率基本無變化；后續(xù)工序?qū)ν庥^性能的影響，機(jī)械性能與雙管濺射對比無差別。
權(quán)利要求1.一種單管直流濺射鍍膜玻璃設(shè)備，其特征在于所述的單管直流濺射玻璃鍍膜設(shè)備主要包括單管旋轉(zhuǎn)陰極；所述單管旋轉(zhuǎn)陰極主要由陰極靶材、旋轉(zhuǎn)端頭、陰極蓋板組成；所述陰極蓋板構(gòu)成框體，陰極靶材安裝在一對旋轉(zhuǎn)端頭之間，旋轉(zhuǎn)端頭連接在陰極蓋板下方，陰極蓋板一端設(shè)有電源接口，冷卻水接口，控制回路接口和供氣接口 ；陰極蓋板內(nèi)設(shè)有氣體流量計(jì)，上部供氣口，控制部分和旋轉(zhuǎn)電機(jī)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單管直流濺射鍍膜玻璃設(shè)備，其特征在于所述電源接口連接直流電源。
專利摘要本說明書公開了一種通過改進(jìn)生產(chǎn)設(shè)備，可大幅度節(jié)省設(shè)備投資卻不影響濺射效果的單管直流濺射玻璃鍍膜設(shè)備。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型主要包括單管旋轉(zhuǎn)陰極；所述單管旋轉(zhuǎn)陰極主要由陰極靶材、旋轉(zhuǎn)端頭、陰極蓋板組成；所述陰極蓋板構(gòu)成框體，陰極靶材安裝在一對旋轉(zhuǎn)端頭之間，旋轉(zhuǎn)端頭連接在陰極蓋板下方，陰極蓋板一端設(shè)有電源接口，冷卻水接口，控制回路接口和供氣接口；電源接口上連接有直流電源；陰極蓋板內(nèi)設(shè)有氣體流量計(jì)，上部供氣口，控制部分和旋轉(zhuǎn)電機(jī)。本實(shí)用新型提高了靶材的利用率并且節(jié)省設(shè)備投資。
文檔編號C23C14/34GK202226911SQ20112032681
公開日2012年5月23日 申請日期2011年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月2日
發(fā)明者康延坡, 李忠祥, 楊宏斌 申請人:北京物華天寶鍍膜科技有限公司