專利名稱：鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備，特別是涉及一種挾持彩色鼓輪濾光片(color drum filter)的鍍膜治具的鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備(MASK FOR COATING JIG AND COATING APPARATUS THEREOF)。
背景技術：
鍍膜制程在工業(yè)界的應用極廣，一般常使用在金屬加工業(yè)、半導體業(yè)以及光電產(chǎn)業(yè)等等。近幾年來，又由于半導體業(yè)與光電產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，使得鍍膜技術亦有重大的進展。
請參閱圖1所示，是一現(xiàn)有習知的鍍膜設備的結(jié)構(gòu)示意圖?，F(xiàn)有習知的鍍膜設備1，其包括一馬達11、一傘具式承載座12、一遮板13以及一鍍膜源14。其中，傘具式承載座12是軸設于馬達11的軸心，而且傘具式承載座12的形狀是類似傘狀，其通常由四片承載座所組成，因此，此鍍膜設備1又稱為傘具式鍍膜機臺，遮板13是設置于鄰近傘具式承載座12的位置；而鍍膜源14是與傘具式承載座12相對而設。其中，鍍膜設備1是適用于在平板狀的基板60上形成鍍膜層，以制造平板狀的彩色濾光片。
承上所述，當使用鍍膜設備1來進行鍍膜制程時，通常是先將復數(shù)個基板60固定在傘具式承載座12上，然后啟動馬達11以旋轉(zhuǎn)傘具式承載座12，最后再利用真空蒸鍍方式或濺鍍方式等方式將鍍膜源14鍍至該等基板60上；如圖1所示，由于鍍膜源14中的物質(zhì)是在三維空間中行進然后才遇到該等基板60，并鍍在該等基板60上，由于鍍膜源14的物質(zhì)的行進方向是如圖1所示的箭號來表示，因此各基板60所鍍上的鍍膜層的厚度便會依據(jù)各基板60的位置而有所不同。
為了解決上述問題，熟知此項技術者便利用遮板13的設計來盡量避免各基板60的鍍膜層厚度不均的情形。舉例而言，遮板13的形狀是依據(jù)鍍膜源14的物質(zhì)在傘具式承載座12的不同位置的濃度來決定，其形狀通常為類似葉子狀。
承上所述，平板狀的彩色濾光片是用以構(gòu)成現(xiàn)有習知的色輪(colorwheel)，其是制造DLP式投影機的重要元件之一，然而，隨著科技不斷地發(fā)展演進，目前已經(jīng)研究發(fā)展出一種有別于一般色輪結(jié)構(gòu)的光學元件，其不采用現(xiàn)有習知的彩色濾光片，而是使用新式的彩色鼓輪濾光片20(colordrum filter)，請參閱圖2所示，是一現(xiàn)有習知的彩色鼓輪濾光片的結(jié)構(gòu)示意圖，該彩色鼓輪濾光片20是為一具有弧面結(jié)構(gòu)設計的濾光片；結(jié)果發(fā)現(xiàn)，使用彩色鼓輪濾光片20可以令DLP式投影機大幅提升其耐用度、亮度及對比度，并能有效的增強影像色彩的精確度與飽和度。
因此，目前鍍膜設備制造商已著手研發(fā)能夠挾持彩色鼓輪濾光片的鍍膜設備，且同時潛心研究如何提高基板鍍膜層的均勻性。
由此可見，上述現(xiàn)有的鍍膜設備在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。為了解決鍍膜設備存在的問題，相關廠商莫不費盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設計被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品又沒有適切的結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題，此顯然是相關業(yè)者急欲解決的問題。
綜上所述可知，如何提供一種鍍膜治具遮罩，應用于挾持彩色鼓輪濾光片的鍍膜設備，使鍍膜設備在高速旋轉(zhuǎn)時，提高鍍膜物質(zhì)形成于基板上的均勻性，確實為當前鍍膜制程技術的重要課題之一。
有鑒于上述現(xiàn)有的鍍膜設備存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設計制造多年豐富的實務經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學理的運用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設一種新型結(jié)構(gòu)的鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備，能夠改進一般現(xiàn)有的鍍膜設備，使其更具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設計，并經(jīng)反復試作樣品及改進后，終于創(chuàng)設出確具實用價值的本發(fā)明。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有的鍍膜設備存在的缺陷，而提供一種新型結(jié)構(gòu)的可以有效提高鍍膜制程均勻性的鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備，從而更加適于實用。
本發(fā)明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種鍍膜治具遮罩，是用于遮蓋一鍍膜治具，該鍍膜治具設置于一鍍膜設備中，且該鍍膜治具挾持至少一基板以進行鍍膜制程，并形成至少一鍍膜層于該基板上，該鍍膜治具遮罩包括一第一遮板；至少二第二遮板，其分別連設于該第一遮板的相對兩側(cè)邊；以及一第三遮板，其具有至少一開口，并分別與該等第二遮板連接，其中該第三遮板與該第一遮板相對而設，該第一遮板、該等第二遮板及該第三遮板形成一容納空間，該容納空間容置該鍍膜治具，該開口是至少暴露出部分的該基板。
本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。
前述的鍍膜治具遮罩，其中所述的鍍膜治具遮罩是以一連接件連結(jié)該鍍膜設備。
前述的鍍膜治具遮罩，其中所述的鍍膜治具遮罩是連結(jié)該鍍膜設備的一旋轉(zhuǎn)軸承，該旋轉(zhuǎn)軸承帶動該鍍膜治具，且該鍍膜治具與該鍍膜治具遮罩是為相對轉(zhuǎn)動。
前述的鍍膜治具遮罩，其中所述的開口是用以修正該鍍膜層的厚度，該開口是為一狹縫。
前述的鍍膜治具遮罩，其更包括一蓋板，其是設置于該容納空間的一端，該蓋板具有一開孔。
本發(fā)明的目的及解決其技術問題還采用以下的技術方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的一種鍍膜設備，其包括一鍍膜治具，其是挾持至少一基板以進行鍍膜制程，并形成至少一鍍膜層于該基板上；以及一鍍膜治具遮罩，其具有一第一遮板、至少二第二遮板以及一第三遮板，該等第二遮板分別連設于該第一遮板的相對兩側(cè)邊，該第三遮板具有至少一開口，并分別與該等第二遮板連接，其中該第三遮板與該第一遮板相對而設，該第一遮板、該等第二遮板及該第三遮板是形成一容納空間，該容納空間容置該鍍膜治具，該開口是至少暴露出部分的該基板。
本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。
前述的鍍膜設備，其更包括一連接件，其是鄰設于該鍍膜治具遮罩，其中該鍍膜治具遮罩以該連接件連結(jié)該鍍膜設備。
前述的鍍膜設備，其中所述的鍍膜治具遮罩是連結(jié)該鍍膜設備的一旋轉(zhuǎn)軸承，該旋轉(zhuǎn)軸承帶動該鍍膜治具，且該鍍膜治具與該鍍膜治具遮罩是為相對轉(zhuǎn)動。
前述的鍍膜設備，其中所述的開口是用以修正該鍍膜層的厚度，該開口是為一狹縫。
前述的鍍膜設備，更包括一蓋板，其是設置于該容納空間的一端，該蓋板具有一開孔。
本發(fā)明的目的及解決其技術問題還采用以下的技術方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的一種鍍膜設備，其包括一鍍膜治具，其是挾持至少一基板以進行鍍膜制程；以及一鍍膜治具遮罩，其具有至少一開口以及一容納空間，該容納空間容置該鍍膜治具，以透過該開口形成至少一鍍膜層于該基板上。
本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。
前述的鍍膜設備，其更包括一連接件，其是鄰設于該鍍膜治具遮罩，其中該鍍膜治具遮罩是以該連接件連結(jié)該鍍膜設備。
前述的鍍膜設備，其中所述的鍍膜治具遮罩是連結(jié)該鍍膜設備的一旋轉(zhuǎn)軸承，該旋轉(zhuǎn)軸承帶動該鍍膜治具，且該鍍膜治具與該鍍膜治具遮罩是為相對轉(zhuǎn)動。
前述的鍍膜設備，其中所述的開口是用以控制該鍍膜層的厚度，該開口是為一狹縫。
前述的鍍膜設備，其中所述的容納空間是為一長方體或為一圓柱體。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。由以上技術方案可知，為了達到前述發(fā)明目的，本發(fā)明的主要技術內(nèi)容如下本發(fā)明提出一種鍍膜治具遮罩，其是用于遮蓋一鍍膜治具，該鍍膜治具設置于一鍍膜設備中，且該鍍膜治具挾持至少一基板以進行鍍膜制程，并形成至少一鍍膜層于基板上，該鍍膜治具遮罩包括一第一遮板、至少二第二遮板以及一第三遮板。其中，第二遮板是分別連設于第一遮板的相對兩側(cè)邊；第三遮板是具有至少一開口，并分別與該等第二遮板連接，其中第三遮板是與第一遮板相對而設，第一遮板、該等第二遮板及第三遮板是形成一容納空間，該容納空間是容置鍍膜治具，開口則是至少暴露出部分的基板。
又，為了達到上述目的，本發(fā)明提出一種鍍膜設備，其包括一鍍膜治具以及一鍍膜治具遮罩，其中鍍膜治具是挾持至少一基板以進行鍍膜制程，并形成至少一鍍膜層于基板上；鍍膜治具遮罩具有一第一遮板、至少二第二遮板以及一第三遮板，該等第二遮板分別連設于第一遮板的相對兩側(cè)邊，第三遮板是具有至少一開口，并分別與該等第二遮板連接，其中第三遮板是與第一遮板相對而設，第一遮板、該等第二遮板及第三遮板是形成一容納空間，該容納空間是容置鍍膜治具，該開口是至少暴露出部分的基板。
又，為達到到上述目的，本發(fā)明還提出一種鍍膜設備，其包括一鍍膜治具以及一鍍膜治具遮罩，其中，鍍膜治具是挾持至少一基板以進行鍍膜制程；鍍膜治具遮罩是具有至少一開口以及一容納空間，該容納空間是容置鍍膜治具，以透過開口形成至少一鍍膜層于基板上。
借由上述技術方案，本發(fā)明鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備至少具有下列優(yōu)點依據(jù)本發(fā)明的鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備，其鍍膜治具遮罩是用以遮蓋鍍膜設備中的一鍍膜治具，鍍膜治具則是用以挾持至少一基板，此鍍膜治具遮罩利用其第三遮板的至少一開口來修正形成于基板上的鍍膜層的厚度，因而可以在鍍膜設備高速旋轉(zhuǎn)下達到有效增加基板鍍膜層均勻性的目的，另外鍍膜治具遮罩的第一遮板以及第二遮板則是用以防止基板的非鍍膜面被鍍到以及基板的刮傷，而更進一步增加了鍍膜基板的良率。
綜上所述，本發(fā)明提供了一種新型結(jié)構(gòu)的可以有效提高鍍膜制程均勻性的鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備，該鍍膜設備包括一用以遮蓋一鍍膜治具的鍍膜治具遮罩，其中，鍍膜治具遮罩具有至少一開口于鍍膜制程中來修正形成于基板上鍍膜層的厚度，同時亦可用以防止基板的非鍍膜面被鍍到以及防止基板的刮傷，因而可在鍍膜設備高速旋轉(zhuǎn)下達到有效增加基板鍍膜層均勻性的目的，進而可以提高鍍膜基板的良率。其具有上述諸多的優(yōu)點及實用價值，并在同類產(chǎn)品中未見有類似的結(jié)構(gòu)設計公開發(fā)表或使用而確屬創(chuàng)新，其不論在產(chǎn)品結(jié)構(gòu)或功能上皆有較大改進，在技術上有較大進步，并產(chǎn)生了好用及實用的效果，且較現(xiàn)有的鍍膜設備具有增進的多項功效，從而更加適于實用，而具有產(chǎn)業(yè)的廣泛利用價值，誠為一新穎、進步、實用的新設計。
上述說明僅是本發(fā)明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。
圖1是一現(xiàn)有習知的鍍膜設備的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是一現(xiàn)有習知的彩色鼓輪濾光片的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是一依本發(fā)明較佳實施例的具有鍍膜治具遮罩的鍍膜設備的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是一依本發(fā)明較佳實施例的鍍膜設備的局部放大示意圖。
圖5是一依本發(fā)明較佳實施例的鍍膜治具遮罩的分解立體示意圖。
1鍍膜設備 11馬達12傘具式承載座 13遮板14鍍膜源 20彩色鼓輪濾光片3鍍膜設備 31鍍膜治具遮罩311第一遮板312第二遮板313第三遮板313A開口314容納空間315蓋板315A開孔 32鍍膜治具33連接件 34旋轉(zhuǎn)軸承35鍍膜源 36腔體60基板具體實施方式
為更進一步闡述本發(fā)明為達成預定發(fā)明目的所采取的技術手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備其具體實施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細說明如后。
請參閱圖3所示，是一依本發(fā)明較佳實施例的具有鍍膜治具遮罩的鍍膜設備的結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明較佳實施例的鍍膜設備3，其包括一鍍膜治具32以及一鍍膜治具遮罩31。
在本實施例中，該鍍膜治具32，是位于鍍膜設備3的一腔體36內(nèi)的上部，鍍膜治具32是挾持至少一基板以進行鍍膜制程；該鍍膜治具遮罩31，則用以遮蓋鍍膜治具32，且鍍膜治具遮罩31具有至少一開口313A以及一容納空間314，該容納空間314是容置鍍膜治具32，而腔體36的下部相對具有一鍍膜源35，透過鍍膜治具遮罩31的開口313A，鍍膜源35得以藉由蒸鍍或是濺鍍的方式將鍍膜材料形成至少一鍍膜層于基板上。
又，鍍膜設備3更包括一連接件33，其是鄰設于鍍膜治具遮罩31，其中鍍膜治具遮罩31是以連接件33連結(jié)鍍膜設備3，更特別來說，鍍膜治具遮罩31是連結(jié)鍍膜設備3的一旋轉(zhuǎn)軸承34，該旋轉(zhuǎn)軸承34是為雙軸承的外軸承，與內(nèi)軸承配合而帶動鍍膜治具32轉(zhuǎn)動，需要注意的是，旋轉(zhuǎn)軸承34是固設于鍍膜設備3，因此，鍍膜治具遮罩31并不隨鍍膜治具32轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動，而是鍍膜治具32相對鍍膜治具遮罩31轉(zhuǎn)動。
承上所述，請參閱圖4所示，是圖3鍍膜設備3的局部放大圖，該鍍膜治具遮罩31是依據(jù)鍍膜治具32而設計以遮蓋之，在本實施例中，該鍍膜治具遮罩31可為一體成型，且其容納空間314可為一長方體(如圖4所示)，也可以是一圓柱體，用以容置鍍膜治具32，且其開口313A是至少暴露出部分的基板，該開口313A是在鍍膜制程時用以控制基板鍍膜層的厚度，在本實施例中，該開口313A是為一狹縫，當然，鍍膜治具遮罩31亦可依據(jù)實際需要而可具有復數(shù)個開口313A；又，該開口313A的形狀亦可為不規(guī)則的圖形。其中，基板是為一彩色鼓輪濾光片，其具有一凹部以及一凸部，且鍍膜治具32是可承載彩色鼓輪濾光片的凹部，以暴露出彩色鼓輪濾光片的凸部，此時便于彩色鼓輪濾光片的凸部上形成所需的鍍膜層；另外，鍍膜治具32亦可承載彩色鼓輪濾光片的凸部，以暴露出彩色鼓輪濾光片的凹部，此時便于彩色鼓輪濾光片的凹部上形成所需的鍍膜層。
請再參閱圖5所示，是一依本發(fā)明較佳實施例的鍍膜治具遮罩的分解立體示意圖。依本發(fā)明較佳實施例的鍍膜治具遮罩31，其包括一第一遮板311、至少二第二遮板312以及一第三遮板313。
在本實施例中，該鍍膜治具遮罩31的第一遮板311，是相對位于上述鍍膜設備3的鍍膜治具32之上(如圖3所示)；鍍膜治具遮罩31是具有二第二遮板312，各第二遮板312的第一側(cè)邊分別連設于第一遮板311的相對兩側(cè)邊；第三遮板313具有至少一開口313A，第三遮板313是與第一遮板311相對而設，且分別與該等第二遮板312連接，而形成一容納空間314。其中，第一遮板311、第二遮板312以及第三遮板313是以螺絲鎖合方式互相連結(jié)。
如上所述，容納空間314是用以容置鍍膜治具32，而第三遮板313的開口313A則是至少暴露出部分的基板，用以修正基板鍍膜層的厚度，在本實施例中，該開口313A是為一狹縫，當然，第三遮板313亦可依據(jù)實際需要而可具有復數(shù)個開口313A，該開口313A的形狀亦可為不規(guī)則的圖形。又，鍍膜治具遮罩31更包括一蓋板315，其設置于容納空間314的一端，且蓋板315具有一開孔315A，此開孔315A可作為一目視孔用以觀察鍍膜制程中鍍膜層形成于基板上的情形。
如上所述，且請參閱圖4所示，鍍膜治具遮罩31是以上述的結(jié)構(gòu)應用于鍍膜設備3，鍍膜治具遮罩31則是以一鄰設于鍍膜治具遮罩31的連接件33連結(jié)于鍍膜設備3上，更特別來說，鍍膜治具遮罩31是連結(jié)鍍膜設備3的一旋轉(zhuǎn)軸承34，該旋轉(zhuǎn)軸承34是帶動鍍膜治具32，藉由鍍膜治具遮罩31的開口313A在鍍膜治具高速旋轉(zhuǎn)時修正基板鍍膜層的厚度。
綜上所述，依本發(fā)明較佳實施例的鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備，該鍍膜設備包括一用以遮蓋一鍍膜治具的鍍膜治具遮罩，其中，鍍膜治具遮罩是具有至少一開口在鍍膜制程中來修正形成于基板上鍍膜層的厚度，同時亦可用以防止基板的非鍍膜面被鍍到以及防止基板的刮傷，因而可在鍍膜設備高速旋轉(zhuǎn)下達到有效增加基板鍍膜層均勻性的目的，進而可以提高鍍膜基板的良率。
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術人員，在不脫離本發(fā)明技術方案范圍內(nèi)，當可利用上述揭示的結(jié)構(gòu)及技術內(nèi)容作出些許的更動或修飾為等同變化的等效實施例，但是凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜治具遮罩，是用于遮蓋一鍍膜治具，該鍍膜治具設置于一鍍膜設備中，且該鍍膜治具挾持至少一基板以進行鍍膜制程，并形成至少一鍍膜層于該基板上，其特征在于該鍍膜治具遮罩包括一第一遮板；至少二第二遮板，其分別連設于該第一遮板的相對兩側(cè)邊；以及一第三遮板，其具有至少一開口，并分別與該等第二遮板連接，其中該第三遮板與該第一遮板相對而設，該第一遮板、該等第二遮板及該第三遮板形成一容納空間，該容納空間容置該鍍膜治具，該開口是至少暴露出部分的該基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜治具遮罩，其特征在于其中所述的鍍膜治具遮罩是以一連接件連結(jié)該鍍膜設備。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜治具遮罩，其特征在于其中所述的鍍膜治具遮罩是連結(jié)該鍍膜設備的一旋轉(zhuǎn)軸承，該旋轉(zhuǎn)軸承帶動該鍍膜治具，且該鍍膜治具與該鍍膜治具遮罩是為相對轉(zhuǎn)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜治具遮罩，其特征在于其中所述的開口是用以修正該鍍膜層的厚度，該開口是為一狹縫。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜治具遮罩，其特征在于其更包括一蓋板，其是設置于該容納空間的一端，該蓋板具有一開孔。
6.一種鍍膜設備，其特征在于其包括一鍍膜治具，其是挾持至少一基板以進行鍍膜制程，并形成至少一鍍膜層于該基板上；以及一鍍膜治具遮罩，其具有一第一遮板、至少二第二遮板以及一第三遮板，該等第二遮板分別連設于該第一遮板的相對兩側(cè)邊，該第三遮板具有至少一開口，并分別與該等第二遮板連接，其中該第三遮板與該第一遮板相對而設，該第一遮板、該等第二遮板及該第三遮板是形成一容納空間，該容納空間容置該鍍膜治具，該開口是至少暴露出部分的該基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于其更包括一連接件，其是鄰設于該鍍膜治具遮罩，其中該鍍膜治具遮罩以該連接件連結(jié)該鍍膜設備。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于其中所述的鍍膜治具遮罩是連結(jié)該鍍膜設備的一旋轉(zhuǎn)軸承，該旋轉(zhuǎn)軸承帶動該鍍膜治具，且該鍍膜治具與該鍍膜治具遮罩是為相對轉(zhuǎn)動。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于其中所述的開口是用以修正該鍍膜層的厚度，該開口是為一狹縫。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于其更包括一蓋板，其是設置于該容納空間的一端，該蓋板具有一開孔。
11.一種鍍膜設備，其特征在于其包括一鍍膜治具，其是挾持至少一基板以進行鍍膜制程；以及一鍍膜治具遮罩，其具有至少一開口以及一容納空間，該容納空間容置該鍍膜治具，以透過該開口形成至少一鍍膜層于該基板上。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鍍膜設備，其特征在于其更包括一連接件，其是鄰設于該鍍膜治具遮罩，其中該鍍膜治具遮罩是以該連接件連結(jié)該鍍膜設備。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鍍膜設備，其特征在于其中所述的鍍膜治具遮罩是連結(jié)該鍍膜設備的一旋轉(zhuǎn)軸承，該旋轉(zhuǎn)軸承帶動該鍍膜治具，且該鍍膜治具與該鍍膜治具遮罩是為相對轉(zhuǎn)動。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鍍膜設備，其特征在于其中所述的開口是用以控制該鍍膜層的厚度，該開口是為一狹縫。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鍍膜設備，其特征在于其中所述的容納空間是為一長方體或為一圓柱體。
全文摘要
本發(fā)明是關于一種鍍膜治具遮罩及其鍍膜設備。該鍍膜治具遮罩，用于遮蓋設于鍍膜設備中的一鍍膜治具，鍍膜治具挾持至少一基板以進行鍍膜制程，并形成至少一鍍膜層于基板上，鍍膜治具遮罩包括一第一遮板、至少二第二遮板以及一第三遮板。第二遮板分別連設于第一遮板相對兩側(cè)邊；第三遮板具有至少一開口，分別與該等第二遮板連接，第三遮板與第一遮板相對而設，第一遮板、該等第二及第三遮板形成容納空間容置鍍膜治具，開口至少暴露出部分的基板。藉由鍍膜治具遮罩具有至少一開口于鍍膜制程中來修正形成于基板上鍍膜層厚度，同時亦可防止基板非鍍膜面被鍍到及防止基板刮傷，而可在鍍膜設備高速旋轉(zhuǎn)下達到有效增加基板鍍膜層均勻性功效，進而可提高鍍膜基板的良率。
文檔編號C23C14/34GK1766155SQ200410088449
公開日2006年5月3日 申請日期2004年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月29日
發(fā)明者徐振源, 陳明華, 李思賢 申請人:精碟科技股份有限公司