具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，包含有一入料室、一緊鄰該入料室的鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置與多個(gè)濺鍍室，其中該入料室供置入一載具，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置承接來自該入料室的該載具，該入料室與該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置為串聯(lián)排列于一第一方向，且該第一方向與一第二方向垂直，并該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置具有至少一緩沖區(qū)與一設(shè)置于該緩沖區(qū)且供選擇于該第一方向、該第二方向進(jìn)行傳送該載具的傳送機(jī)構(gòu)，該濺鍍室于該第二方向緊鄰設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置，并設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的該至少一緩沖區(qū)的兩側(cè)；本實(shí)用新型可以縮減該第一方向的長(zhǎng)度，同時(shí)可以因應(yīng)工藝需要，自由選擇需要的濺鍍室進(jìn)行鍍膜，而增加濺鍍室的利用效率，以增加產(chǎn)能。
【專利說明】
具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種鍍膜設(shè)備，尤指一種具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜技術(shù)是利用物理或化學(xué)手段，于一抽真空的環(huán)境中，將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、導(dǎo)電和絕緣等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命等作用，并已應(yīng)用于航空、電子、機(jī)械、化工、軍事等領(lǐng)域。
[0003]不同的產(chǎn)品，因應(yīng)工藝條件的不同，如要達(dá)到最佳的鍍膜質(zhì)量，其所需要的鍍膜時(shí)間會(huì)不同，甚至需要不同的鍍膜材料;而如現(xiàn)有中國(guó)臺(tái)灣新型專利公告第M426600號(hào)的“連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備輸送裝置”所述的鍍膜設(shè)備，其為連續(xù)式與循環(huán)輸送設(shè)計(jì)，其一次送入進(jìn)行鍍膜的產(chǎn)品，只能給予相同的鍍膜材料與鍍膜時(shí)間，因此為了確保鍍膜質(zhì)量，其只能適用于需要相同鍍膜材料與鍍膜時(shí)間的產(chǎn)品，因此當(dāng)有多批產(chǎn)品需要進(jìn)行鍍膜時(shí)，其必須等待前一批產(chǎn)品的鍍膜程序完全處理完畢之后，才能調(diào)整工藝參數(shù)，如更換靶材，調(diào)整鍍膜時(shí)間與參數(shù)等等之后，才能進(jìn)行下一批產(chǎn)品的鍍膜作業(yè)，顯然其濺鍍室無法有效充分利用，會(huì)減損利用效率，而減損廣能。
[0004]另，上述現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備，其雖然可以不須額外設(shè)置一循環(huán)輸送設(shè)備于鍍膜設(shè)備之外，以減少占地空間，然而此類設(shè)計(jì)的鍍膜設(shè)備，雖然將循環(huán)輸送設(shè)備整合于鍍膜設(shè)備內(nèi)可以減少循環(huán)輸送設(shè)備的占地空間，然而，相較于循環(huán)輸送設(shè)備來說，鍍膜設(shè)備因包含多個(gè)大型機(jī)臺(tái)，且隨著鍍膜技術(shù)、材料的演進(jìn)與應(yīng)用領(lǐng)域的增加，使鍍膜設(shè)備所占的長(zhǎng)度會(huì)隨著為不同工藝的需求而有所變化;此外為了增加鍍膜設(shè)備的通用性，一般會(huì)傾向設(shè)計(jì)為具有較久鍍膜時(shí)間(較長(zhǎng)的濺鍍室)或可使用鍍膜材料(較多的濺鍍室)，也就是說通用性的鍍膜設(shè)備，其鍍膜設(shè)備的長(zhǎng)度通常都相當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)，其長(zhǎng)度對(duì)于廠房來說，往往是一大考驗(yàn)。現(xiàn)有廠房在沒有改建的前提下，通常難以滿足新工藝鍍膜設(shè)備的長(zhǎng)度需求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的主要目的，在于提供一種具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，解決現(xiàn)有鍍膜設(shè)備要增加鍍膜時(shí)間與鍍膜材料而導(dǎo)致長(zhǎng)度增加，無法直接設(shè)置于現(xiàn)有廠房的問題。
[0006]本實(shí)用新型的次要目的，在于解決現(xiàn)有鍍膜設(shè)備的時(shí)間利用效率不高，無法增加產(chǎn)能的問題。
[0007]為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型提供一種具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，對(duì)一載具上的一基材進(jìn)行鍍膜，其包含有一入料室、一緊鄰該入料室的鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置與多個(gè)濺鍍室，其中該入料室供置入該載具，而該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置承接來自該入料室的該載具，該入料室與該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置為串聯(lián)排列于一第一方向，且該第一方向與一第二方向垂直，并該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置具有至少一緩沖區(qū)與一設(shè)置于該緩沖區(qū)且供選擇于該第一方向、該第二方向進(jìn)行傳送該載具的傳送機(jī)構(gòu)，而該些濺鍍室于該第二方向緊鄰設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置，并該些濺鍍室設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的該至少一緩沖區(qū)的兩側(cè)。
[0008]其中，更包含一緊鄰該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的緩沖輸送室，該緩沖輸送室為串聯(lián)排列于該第一方向，且該緩沖輸送室承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的該載具。
[0009]其中，更包含一供置放該載具的載具置放臺(tái)，該載具置放臺(tái)鄰近該入料室設(shè)置。
[0010]其中，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置具有一降壓腔體，該傳送機(jī)構(gòu)設(shè)置于該降壓腔體內(nèi)，該傳送機(jī)構(gòu)具有一第一方向傳動(dòng)輪與一可升降的第二方向傳動(dòng)輪，該第二方向傳動(dòng)輪具有一讓該載具進(jìn)出該濺鍍室的升起位置，與一讓該載具接觸該第一方向傳動(dòng)輪的下降位置。
[0011]其中，該第二方向傳動(dòng)輪設(shè)置于一升降板上，該升降板設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置上。
[0012]其中，更包含一緊鄰該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的出料室，該出料室為串聯(lián)排列于該第一方向，且該出料室承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的該載具。
[0013]其中，該入料室具有一傳送該載具至該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的入料傳送輪，而該出料室具有一承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的該載具的出料傳送輪。
[0014]其中，該出料室具有一供放置該載具的出料升降臺(tái)，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置具有位于下方的一回傳輸送輪，該入料室具有一供放置該載具的入料升降臺(tái)，該出料升降臺(tái)、該回傳輸送輪與該入料升降臺(tái)構(gòu)成一將該載具自該出料室傳送至該入料室的回傳裝置。
[0015]其中，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置更具有一降壓栗與一加熱元件。
[0016]其中，該至少一濺鍍室分別設(shè)置一具一移動(dòng)自由度的濺鍍?cè)础?br>[0017]綜上所述，本實(shí)用新型讓該些濺鍍室設(shè)置于該第二方向，因此可以縮減于第一方向的長(zhǎng)度，滿足現(xiàn)有廠房的規(guī)格，而不需大規(guī)模改建。另，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的傳送機(jī)構(gòu)可以因應(yīng)工藝需要，將需要鍍膜的基材的載具選擇送入特定的濺鍍室進(jìn)行鍍膜，亦即不同的載具可以自由選擇需要的濺鍍室進(jìn)行鍍膜，因此濺鍍室不會(huì)有空閑時(shí)間，可增加濺鍍室的利用效率，進(jìn)而增加產(chǎn)能。
[0018]以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。
【附圖說明】
[0019]圖1為本實(shí)用新型的設(shè)備配置前視示意圖。
[0020]圖2為本實(shí)用新型的設(shè)備配置俯視示意圖。
[0021 ]圖3為本實(shí)用新型鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置結(jié)構(gòu)圖。
[0022]圖4A?圖4C為本實(shí)用新型使用示意圖。
[0023]圖5為本實(shí)用新型另一實(shí)施的設(shè)備配置俯視示意圖。
[0024]其中，附圖標(biāo)記:
[0025]10、10A、10B、10C、10D、10E 載具
[0026]11基材
[0027]20載具置放臺(tái)
[0028]30入料室
[0029]31入料傳送輪
[0030]32入料升降臺(tái)
[0031]40鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置
[0032]401降壓腔體
[0033]41緩沖區(qū)
[0034]42傳送機(jī)構(gòu)
[0035]421第一方向傳動(dòng)輪
[0036]422第二方向傳動(dòng)輪
[0037]43升降板
[0038]44回傳輸送輪
[0039]45降壓栗
[0040]46加熱元件[0041 ]50出料室
[0042]51出料傳送輪
[0043]52出料升降臺(tái)
[0044]60A、60B、60C、60D 濺鍍室
[0045]61濺鍍?cè)?br>[0046]70回傳裝置
[0047]80清潔室
[0048]90緩沖輸送室
[0049]91緩沖傳送輪
【具體實(shí)施方式】
[0050]有關(guān)本實(shí)用新型的詳細(xì)說明及技術(shù)內(nèi)容，現(xiàn)就配合圖式說明如下:
[0051]請(qǐng)參閱圖1、圖2與圖3所示，本實(shí)用新型為一種具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，對(duì)一載具10上的一基材11(為求圖面的簡(jiǎn)潔，僅繪制于部分的載具10)進(jìn)行鍍膜，其包含有一供置放該載具10的載具置放臺(tái)20、一入料室30、一緊鄰該入料室30的鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40、一緊鄰該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的出料室50與多個(gè)緊鄰該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的濺鍍室60A、60B、60C、60D，其中該入料室30供置入該載具10，該載具置放臺(tái)20鄰近該入料室30設(shè)置，以方便讓該載具1移載至該入料室30，而該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40承接來自該入料室30的該載具10，該出料室50則承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的該載具10，該入料室30可以具有一傳送該載具10至該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的入料傳送輪31，而該出料室50可以具有一承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的該載具10的出料傳送輪51。
[0052]該入料室30、該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40與該出料室50為串聯(lián)排列于一第一方向，且該第一方向與一第二方向垂直，并該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40具有至少一緩沖區(qū)41與一設(shè)置于該緩沖區(qū)41且供選擇于該第一方向、該第二方向進(jìn)行傳送該載具的傳送機(jī)構(gòu)42，而該些濺鍍室6(^、608、60(:、600于該第二方向緊鄰設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40設(shè)置，該些濺鍍室60A、60B、60C、60D設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的該至少一緩沖區(qū)41的兩側(cè)，較佳的，該至少一濺鍍室60A、60B、60C、60D可以分別設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的上下兩側(cè)，且可并排設(shè)置，如圖所示，為四個(gè)濺鍍室60A、60B、60C、60D的實(shí)施樣態(tài);并該傳送機(jī)構(gòu)42為于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40及該濺鍍室60A、60B、60C、60D之間傳送該載具10，且值得一提的是，該至少一緩沖區(qū)41與該至少一濺鍍室60A、60B、60C、60D的數(shù)量為相互對(duì)應(yīng)的，每一緩沖區(qū)41至多可以對(duì)應(yīng)兩個(gè)濺鍍室60A、60B、60C、60D，而如圖所示，為二個(gè)緩沖區(qū)41的實(shí)施樣態(tài)。
[0053]又，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40可以具有一降壓腔體401，該傳送機(jī)構(gòu)42設(shè)置于該降壓腔體401內(nèi)，該傳送機(jī)構(gòu)42具有一第一方向傳動(dòng)輪421與一可升降的第二方向傳動(dòng)輪422，該第二方向傳動(dòng)輪422具有一讓該載具10進(jìn)出該濺鍍室60A、60B、60C、60D的升起位置，與一讓該載具10接觸該第一方向傳動(dòng)輪421的下降位置，該第一方向傳動(dòng)輪421為傳送該載具10沿該第一方向移動(dòng)，而該第二方向傳動(dòng)輪422則傳送該載具10沿該第二方向移動(dòng)。在實(shí)施上，該第二方向傳動(dòng)輪422可以設(shè)置于一升降板43上，讓該升降板43設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40上，借由該升降板43的升降，即可讓該第二方向傳動(dòng)輪422轉(zhuǎn)換為升起位置或下降位置。
[0054]另，為了操作上的便利性，該出料室50更可以具有一供放置該載具10的出料升降臺(tái)52，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40具有位于下方的一回傳輸送輪44，該入料室30具有一供放置該載具10的入料升降臺(tái)32，該出料升降臺(tái)52、該回傳輸送輪44與該入料升降臺(tái)32，構(gòu)成一將該載具10自該出料室50傳送至該入料室30的回傳裝置70，如此即可將該載具10回送至該入料室30。
[0055]此外，為了提升工藝良率，該入料室30與該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40之間可以設(shè)置一清潔室80，借以清潔該載具10上的該基材11，且該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40更可以具有一降壓栗45與一加熱元件46，該降壓栗45可抽真空，該加熱元件46可以進(jìn)行加熱，借以進(jìn)行初期降壓與加熱等處理，進(jìn)一步提高工藝的良率。另該至少一濺鍍室60A、60B、60C、60D可以分別設(shè)置一具一移動(dòng)自由度的濺鍍?cè)?1，其可增加該基材11的鍍膜均勻度。
[0056]請(qǐng)?jiān)僖徊㈤唸D4A?圖4C所示，為本實(shí)用新型的使用示意圖，首先如圖4A，多個(gè)載具10A、10B、10CU0D為經(jīng)過該入料室30、該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40而進(jìn)入該些濺鍍室60A、60B、60C、60D，以進(jìn)行鍍膜。而該些濺鍍室60A、60B、60C、60D可以進(jìn)行相同的鍍膜材料，但可依據(jù)該載具1A、1B、1C、1D的基材11特性改變鍍膜時(shí)間。因此，如圖4B所示，濺鍍室60A內(nèi)先完成鍍膜的該載具1A，可以先經(jīng)由該出料室50與該回傳裝置70回傳至該入料室30，以供取出。接著，如圖4C所示，可再置入新的該載具1E進(jìn)入該濺鍍室60A。如此即可充分利用該些濺鍍室6(^、6(?、60(:、600，充分發(fā)揮該些濺鍍室6(^、608、60(:、600的利用效率，以增加產(chǎn)會(huì)K。
[0057]請(qǐng)?jiān)僖徊㈤唸D5所示，此外，緊鄰該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的出料室50，亦可改為設(shè)置為一緊鄰該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置50的緩沖輸送室90，該緩沖輸送室90同樣為串聯(lián)排列于該第一方向，且該緩沖輸送室90承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的該載具10，且該緩沖輸送室90可以具有一承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40的該載具10的緩沖傳送輪91。據(jù)此，于本實(shí)施例中，鍍完膜的該載具10可以暫存于該緩沖輸送室90，當(dāng)在該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40(緩沖區(qū)41)、清潔室80、入料室30皆沒有該載具10時(shí)，即可利用該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40(緩沖區(qū)41)反向傳送該緩沖輸送室90上的該載具1，讓該載具1回到該入料室30，以方便取放該載具10，其充分利用該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置40(緩沖區(qū)41)，可以節(jié)省設(shè)備成本(即設(shè)置該回傳裝置70的成本)，對(duì)于鍍膜時(shí)間長(zhǎng)的工藝來說，相當(dāng)?shù)倪m合使用。
[0058]綜上所述，本實(shí)用新型具有以下特點(diǎn):
[0059]—、通過讓該至少一濺鍍室設(shè)置于該第二方向，因此可以縮減于第一方向的長(zhǎng)度，滿足現(xiàn)有廠房的規(guī)格。
[0060]二、充分利用濺鍍室，可減少濺鍍室的設(shè)置數(shù)量，減少設(shè)備的占用面積。
[0061]三、不同的載具可以因應(yīng)工藝需要，自由選擇需要的濺鍍室進(jìn)行鍍膜，同時(shí)增加濺鍍室的利用效率，以增加產(chǎn)能。
[0062]四、借由回傳裝置或緩沖輸送室的設(shè)置，讓工作人員于該載具置放臺(tái)處，即可取出基材已鍍好膜的該載具，以節(jié)省人力配置。
[0063]五、于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的降壓腔體即可進(jìn)行初期降壓，可提高工藝的良率。
[0064]當(dāng)然，本實(shí)用新型還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本實(shí)用新型精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本實(shí)用新型作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，對(duì)一載具上的一基材進(jìn)行鍍膜，其特征在于，包含有: 一入料室，該入料室供置入該載具； 一緊鄰該入料室的鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置承接來自該入料室的該載具，該入料室與該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置為串聯(lián)排列于一第一方向，且該第一方向與一第二方向垂直，并該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置具有至少一緩沖區(qū)與一設(shè)置于該緩沖區(qū)且供選擇于該第一方向、該第二方向進(jìn)行傳送該載具的傳送機(jī)構(gòu)；以及 多個(gè)于該第二方向緊鄰設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的濺鍍室，該濺鍍室設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的該至少一緩沖區(qū)的兩側(cè)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，其特征在于，更包含一緊鄰該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的緩沖輸送室，該緩沖輸送室為串聯(lián)排列于該第一方向，且該緩沖輸送室承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的該載具。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，其特征在于，更包含一供置放該載具的載具置放臺(tái)，該載具置放臺(tái)鄰近該入料室設(shè)置。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，其特征在于，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置具有一降壓腔體，該傳送機(jī)構(gòu)設(shè)置于該降壓腔體內(nèi)，該傳送機(jī)構(gòu)具有一第一方向傳動(dòng)輪與一能升降的第二方向傳動(dòng)輪，該第二方向傳動(dòng)輪具有一讓該載具進(jìn)出該濺鍍室的升起位置，與一讓該載具接觸該第一方向傳動(dòng)輪的下降位置。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，其特征在于，該第二方向傳動(dòng)輪設(shè)置于一升降板上，該升降板設(shè)置于該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置上。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，其特征在于，更包含一緊鄰該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的出料室，該出料室為串聯(lián)排列于該第一方向，且該出料室承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的該載具。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，其特征在于，該入料室具有一傳送該載具至該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的入料傳送輪，而該出料室具有一承接來自該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置的該載具的出料傳送輪。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，其特征在于，該出料室具有一供放置該載具的出料升降臺(tái)，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置具有位于下方的一回傳輸送輪，該入料室具有一供放置該載具的入料升降臺(tái)，該出料升降臺(tái)、該回傳輸送輪與該入料升降臺(tái)構(gòu)成一將該載具自該出料室傳送至該入料室的回傳裝置。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，其特征在于，該鍍膜緩沖轉(zhuǎn)向裝置更具有一降壓栗與一加熱元件。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具緩沖區(qū)的非線性式鍍膜設(shè)備，其特征在于，該至少一濺鍍室分別設(shè)置一具一移動(dòng)自由度的濺鍍?cè)础?br>【文檔編號(hào)】C23C14/34GK205603665SQ201620452267
【公開日】2016年9月28日
【申請(qǐng)日】2016年5月17日
【發(fā)明人】楊智仁, 林忠炫, 余端仁
【申請(qǐng)人】友威科技股份有限公司