專利名稱:基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及的是一種激光加工技術(shù)領(lǐng)域的方法,具體是一種基于激光沖擊效應(yīng)的微坑 陣列加工方法。
技術(shù)背景微坑陣列的表面結(jié)構(gòu)作為改善滑動(dòng)摩擦性能的有效途徑日益在各種類型的摩擦副表面 得到應(yīng)用。這些微坑相互獨(dú)立、互不貫穿、深度一致、按一定規(guī)律分布在表面上,可存貯 潤滑油并起到保持油膜壓力的作用,使每個(gè)微坑單元周圍接觸面形成潤滑油膜,可有效降 低摩擦系數(shù),增加潤滑、降低摩擦?,F(xiàn)有技術(shù)中有"表面微坑超聲加工方法",發(fā)明專利號00117761.3;"摩擦副工作 表面微坑數(shù)控激光成型方法及裝置",02111930.9;"超聲微研磨裝置",實(shí)用新型專利 號01221954.1;"蜂窩狀微坑結(jié)構(gòu)電解加工方法",發(fā)明專利公開號CN1958206等加 工方法。這些加工方法中,振動(dòng)加工對表面質(zhì)量影響較大,需要二次加工;微研磨方法利 用表面鍍有金剛石或者立方氮化硼(CBN)的微研磨工具加工出微坑,這種方法設(shè)備復(fù)雜 、成本高、加工不穩(wěn)定;微細(xì)電解加工中微細(xì)電極陣列制造工藝復(fù)雜,難度較大;激光珩 磨技術(shù)采用激光作為能量源,通過燒蝕作用在工件表面加工微坑,充分發(fā)揮了激光加工可 控性強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn),但是激光銜磨是利用激光熱效應(yīng)進(jìn)行微坑加工,對材料有微觀汽化和燒蝕 作用,可造成局部材料性能發(fā)生改變,在工件表面形成許多微觀疲勞裂紋,降低摩擦副疲 勞性能。經(jīng)過對現(xiàn)有技術(shù)的檢索發(fā)現(xiàn)發(fā)明專利號ZL98125391. 1,記載了一種"采用低能激光 的激光沖擊處理",發(fā)明專利號ZL01134063.0記載了一種"激光沖擊精密成形方法及裝置 ",美國專利號US6410884,記載了一種激光噴丸成形方法。上述現(xiàn)有技術(shù)中激光沖擊處 理利用激光沖擊力在零件表層形成殘余壓應(yīng)力,提高零件抗疲勞性能;激光沖擊成形與激 光噴丸成形均是利用激光沖擊力實(shí)現(xiàn)板材宏觀上的大尺寸整體拉伸或者彎曲成形。但是上 述技術(shù)均未利用激光沖擊力通過局部塑性變形,實(shí)現(xiàn)工件表面微坑結(jié)構(gòu)的加工。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)存在的上述不足,提供一種基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方 法。本發(fā)明利用激光沖擊力產(chǎn)生的局部塑性變形效應(yīng)用于摩擦副表面微坑結(jié)構(gòu)的加工,實(shí)抗磨損能力。本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的,本發(fā)明直接利用高能短脈沖激光輸出的激光束( 功率密度大于lGW/cm2,脈沖寬度5 30ns)輻照工件表面吸收層,使其表層汽化電離形成 等離子體沖擊波;等離子體沖擊波在水約束層的約束下,沖擊波壓力峰值(一般在GPa以 上)超過材料動(dòng)態(tài)屈服強(qiáng)度,從而使工件局部發(fā)生微小塑性變形,形成微坑??刂萍す馐?與工件的相對位置,有序的沖擊點(diǎn)分布,可以實(shí)現(xiàn)微坑陣列的激光沖擊加工。本發(fā)明包括以下步驟第一步、將待加工工件的表面貼上吸收層后安裝到工作臺(tái),然后在吸收層上施加約束層;所述的吸收層為厚度約為100um的聚氯乙烯膠帶,粘貼在待加工工件表面; 所述的約束層為施加在吸收層表面的流動(dòng)水膜;第二步、開啟激光器輸出光束進(jìn)行沖擊,在待加工工件的表面生成若干沖擊點(diǎn)實(shí)現(xiàn)微 坑陣列的激光沖擊加工;所述的激光器輸出光束是指設(shè)置激光輸出功率密度大于lGW/cm2、脈沖寬度5 30ns ,并按照待加工工件表面微坑加工要求設(shè)定光斑直徑。本發(fā)明采用高能短脈沖激光器作用能量源,工藝方法簡單、可靠、易于自動(dòng)化,工藝 過程可控性強(qiáng);既能實(shí)現(xiàn)微坑陣列加工,提高減摩性能;又能在其表層形成殘余壓應(yīng)力等 有益的微觀組織特性,抑制疲勞裂紋的產(chǎn)生與擴(kuò)展,提高其抗磨損能力。因而,激光沖擊 微坑加工一方面可以避免激光珩磨熔化燒蝕不利影響,另一方面能充分發(fā)揮激光加工區(qū)域 可控、易于自動(dòng)化等優(yōu)點(diǎn),從而利用一種工藝同時(shí)實(shí)現(xiàn)摩擦副減摩和抗磨能力的提高。該 工藝方法與傳統(tǒng)的激光珩磨工藝相比,工件表面無熱影響,并能在工件表面產(chǎn)生殘余壓應(yīng) 力,可以保證并提高工件抗磨損性能,特別適合摩擦副表面微坑陣列的加工。
圖l為實(shí)施例示意圖。圖2為加工工件表面典型微坑陣列示意圖。
具體實(shí)施方式
下面對本發(fā)明的實(shí)施例作詳細(xì)說明,本實(shí)施例在以本發(fā)明技術(shù)方案為前提下進(jìn)行實(shí)施 ,給出了詳細(xì)的實(shí)施方式和具體的操作過程,但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于下述的實(shí)施例。如圖1所示,為本實(shí)施例的工作環(huán)境,其中高能短脈沖激光器l、激光束2、外光路 系統(tǒng)3、水流噴嘴6、吸收層7、工作臺(tái)9、工件夾具IO、約束層ll、控制系統(tǒng)12組成。外光實(shí)施例通過以下方式進(jìn)行實(shí)施第一步、吸收層7貼在工件8表面,用于吸收激光能量產(chǎn)生蒸汽并保護(hù)工件不受激光輻 照產(chǎn)生的熱損傷;約束層11施加在吸收層7表面,用于約束等離子體沖擊波,增強(qiáng)沖擊壓 力。所述的吸收層7為厚度為100 y m的聚氯乙烯膠帶;所述的約束層11為通過水流噴嘴6施加在吸收層7表面形成的流動(dòng)水膜;如圖2所示,第二步、高能短脈沖激光器1發(fā)出的激光束2經(jīng)過外光路系統(tǒng)后輻照在吸收層7表面,輻照激光束2功率密度大于lGW/cm2、脈沖寬度5 30ns。吸收層8在激光束2輻照下熔融汽化,形成等離子沖擊波,等離子體沖擊波在約束層ll的約束下,沖擊壓力得到增強(qiáng),作用在工件8表面產(chǎn)生高應(yīng)變率塑性變形,形成局部微坑。工件8表面微坑幾何尺寸可以通過改變高能短脈沖激光器1輸出的激光束2的脈寬、激光能量,控制外光路系統(tǒng)3中的聚焦透鏡5的位置改變光斑尺寸,控制沖擊點(diǎn)的沖擊次數(shù)等途徑實(shí)現(xiàn)??刂葡到y(tǒng)12有序控制工作臺(tái)9的三維空間位姿,調(diào)整工件8的加工表面與激光束2的相 對位置,結(jié)合對高能短脈沖激光器1輸出激光束2的控制,在工件8表面不同位置進(jìn)行沖擊 ,實(shí)現(xiàn)微坑陣列的加工。
權(quán)利要求
1.一種基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方法,其特征在于,包括以下步驟第一步、將待加工工件的表面貼上吸收層后安裝到工作臺(tái),然后在吸收層上施加約束層;第二步、開啟激光器輸出光束進(jìn)行沖擊,在待加工工件的表面生成若干沖擊點(diǎn)實(shí)現(xiàn)微坑陣列的激光沖擊加工。
2.根據(jù)權(quán)利要求l所述的基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方法, 其特征是,所述的吸收層為聚氯乙烯膠帶,該吸收層粘貼在待加工工件表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方法 ,其特征是,所述的吸收層的厚度為100ym。
4.根據(jù)權(quán)利要求l所述的基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方法, 其特征是,所述的約束層為施加在吸收層表面的流動(dòng)水膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方法 ,其特征是,所述的約束層是指通過水流噴嘴施加在吸收層表面形成的流動(dòng)水膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求l所述的基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方法, 其特征是,所述的激光器輸出光束是指設(shè)置激光輸出功率密度大于lGW/cm2、脈沖寬度5 30ns。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方法 ,其特征是,所述的激光器是指高能短脈沖激光器。
全文摘要
一種激光加工技術(shù)領(lǐng)域的基于激光沖擊效應(yīng)的微坑陣列加工方法,包括將待加工工件的表面貼上吸收層后安裝到工作臺(tái),然后在吸收層上施加約束層;開啟激光器輸出光束進(jìn)行沖擊,在待加工工件的表面生成若干沖擊點(diǎn)實(shí)現(xiàn)微坑陣列的激光沖擊加工。本發(fā)明采用高能短脈沖激光器作用能量源,工藝方法簡單、可靠、易于自動(dòng)化,工藝過程可控性強(qiáng);該工藝方法與傳統(tǒng)的激光珩磨工藝相比,工件表面無熱影響,并能在工件表面產(chǎn)生殘余壓應(yīng)力,可以保證并提高工件抗磨損性能,特別適合摩擦副表面微坑陣列的加工。
文檔編號B21D26/00GK101653802SQ20091030736
公開日2010年2月24日 申請日期2009年9月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月21日
發(fā)明者姚振強(qiáng), 胡永祥 申請人:上海交通大學(xué)