專利名稱：不透明電極的制造方法、其中所用模板和其等離子顯示板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種等離子顯示板的不透明電極的制造方法、在該方法中所用的模板和用該方法制造的帶不透明電極的等離子顯示板。尤其是，本發(fā)明涉及一種用模板來提高生產(chǎn)率地制造等離子顯示板的不透明電極的方法，和由此制造的帶不透明電極的等離子顯示板。
背景技術(shù)：
等離子顯示板是利用氣體放電現(xiàn)象形成圖像的平面顯示板。等離子顯示板可以提供大屏幕、并具有高畫質(zhì)，且厚度薄、視角廣。因此等離子顯示板具有很好的前景。
等離子顯示板包括彼此面對且按預定間距隔開的第一和第二基板，設(shè)在第一和第二基板之間限定放電室的隔離條，充填在放電室內(nèi)的放電氣體，涂覆在放電室的表面的磷光體，以及電極。電極包括位于第一基板上的多個顯示電極對和位于第二基板上的多個地址電極。地址電極延伸跨過顯示電極對和放電室。當一直流電流(DC)或一交流電流(AC)施加到電極，在放電室中產(chǎn)生放電，使得放電氣體發(fā)射紫外線(UV)，因此激發(fā)磷光體發(fā)射可見光線，于是形成圖像。
圖1示出了AC型等離子顯示板的分解透視示意圖。參見圖1，在前玻璃基板11的內(nèi)表面上形成有一對透明的X和Y顯示電極3和4，在后玻璃基板12的內(nèi)表面上形成有地址電極5。介電層14和保護層15順序形成在前玻璃基板11的內(nèi)表面上。隔離條17形成在位于后玻璃基板12之上的介電層14＇的上表面之上，并限定多個放電室19。放電氣體充填在放電室19內(nèi)。熒光物質(zhì)18設(shè)置在放電室19內(nèi)?？偩€電極6形成在X和Y顯示電極3和4的表面上，防止隨著X和Y顯示電極3和4長度增加而導致線路電阻的增加。
圖2示出了反轉(zhuǎn)過來的等離子顯示板的另一前玻璃基板的透視示意圖。在該實施例中，前玻璃基板21還包括黑電極。與前玻璃基板21結(jié)合使用的后玻璃基板可以是如圖1所示的。
參見圖2，X和Y顯示電極23和24形成在前玻璃基板21的內(nèi)表面上，黑電極29形成在X和Y顯示電極23和24上。黑電極29防止象素間的串擾，因此提高了對比度，并防止隨著X和Y顯示電極23和24長度增加而導致線路電阻的增加?？偩€電極25形成在黑電極29上，并進一步防止X和Y顯示電極23和24的線路電阻的增加。介電層27和保護層26也設(shè)置在前玻璃基板21之上。
圖3A至3D示出形成黑電極和總線電極的傳統(tǒng)方法的橫截面圖。參見圖3A，光敏膜31即Ag印刷在其上已經(jīng)通過前邊工序形成有X和Y顯示電極23和24的前玻璃基板21上。光敏膜31包括黑色素。光敏膜31涂覆在前玻璃基板21的整個表面上。參見圖3B，用干燥器32干燥光敏膜31。從干燥器32中流過的空氣促使光敏膜31的干燥。參見圖3C，掩膜33設(shè)置在前玻璃基板21之上，光線34照射在其上使光敏膜31曝光。光敏膜31a沒有被掩膜33覆蓋的部分通過曝光硬化。曝光結(jié)束后，如圖3D所示，將硬化的光敏膜31顯影，以在X和Y顯示電極23和24上形成黑電極29，并將光敏膜31的剩余部分去除。通過點火工序完成黑電極29。參考圖3A至3D描述的工序可以同樣用來形成總線電極。然而用來形成總線電極的光敏膜31不包括黑色素。
在如圖3A至3D所示制造黑電極和總線電極的方法中，雖然前玻璃基板的整個表面涂覆光敏膜，但只有一部分用來形成黑電極或總線電極。光敏膜的其它部分被去除。因此在該道工序中浪費了大量光敏膜。
作為上述方法的替換方法，可以用濺鍍法來形成總線電極和黑電極，但是濺鍍比印制更昂貴。也可以用一屏蔽掩膜直接印刷總線電極和黑電極。然而因為總線電極的線寬在50μm至100μm之間，不能容易地用屏蔽掩膜制造總線電極。
作為帶黑色素的光敏Ag的替換方案，黑電極可用光敏RuO3形成。然而光敏RuO3比Ag貴的多，并與Ag一樣存在著浪費的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種制造改進等離子顯示板的方法，和在其中使用的模板，和用該方法制造的具有不透明電極的等離子顯示板，其基本克服了由現(xiàn)有技術(shù)的限制和缺點造成的一個或多個問題。
本發(fā)明的一實施例的特點是提供一種制造改進等離子顯示板的方法，和在其中使用的模板，和用該方法制造的具有不透明電極的等離子顯示板，其形成不透明電極的材料的用量減少。
本發(fā)明的一實施例的特點是提供一種制造改進等離子顯示板的方法，和在其中使用的模板，和用該方法制造的具有不透明電極的等離子顯示板，其簡化了不透明電極的制造。
通過下述方法可以實現(xiàn)本發(fā)明的上述和其它的特點和優(yōu)點中的至少一個，該制造方法包括提供一具有與等離子顯示板的不透明電極的圖案相對應的鍍槽的模板，在鍍槽中形成第一鍍層，將第一鍍層移至基板上的顯示電極，并去除模板，在顯示電極上留下第一鍍層。
第一鍍層可以是Ag鍍層。模板可包括位于材料板上的金屬膜，其中該鍍槽位于該金屬膜上。金屬膜可以是不銹鋼、鈦、鎳和鐵中的一種。設(shè)置模板可包括在形成第一鍍層前形成用于無電鍍的種子層。鍍槽可在一光阻材料中形成。模板可包括玻璃材料板或塑料材料板?？捎霉庾枵硠┬纬慑儾邸Ｔ摲椒ㄟ€包括轉(zhuǎn)移之前在第一鍍層和顯示電極之間設(shè)置粘結(jié)材料。
該方法可以進一步包括，在轉(zhuǎn)移之前在第一鍍層的上表面上形成第二鍍層，該轉(zhuǎn)移包括轉(zhuǎn)移第一和第二鍍層。第一鍍層可以是Ag鍍層，第二鍍層可以是銅或Ni-P鍍層。該方法還可包括在轉(zhuǎn)移之前將第二鍍層致黑。當?shù)诙儗邮倾~鍍層，致黑包括用堿性致黑溶液。當?shù)诙儗邮荖i-P鍍層，致黑包括用酸致黑溶液。
通過提供一模板可以實現(xiàn)本發(fā)明的上述和其它的特點和優(yōu)點中的至少一個，該模板用來制造等離子顯示板的不透明電極，該模板包括一板件和形成在板件的上表面的圖案，該板件包括與等離子顯示板的不透明電極對應的鍍槽。
該板件可以是塑料板、其上具有金屬層的塑料板、玻璃板和陶瓷板中的一種。圖案可由光阻材料和光敏玻璃粘劑中的一種形成。
通過提供一等離子顯示板可以實現(xiàn)本發(fā)明的上述和其它的特點和優(yōu)點中的至少一個，該等離子顯示板包括顯示電極、總線電極和位于顯示電極和總線電極之間的粘結(jié)材料。等離子顯示板可包括位于粘結(jié)材料和總線電極之間的黑電極。


結(jié)合附圖對示例性實施例詳細描述，使得本發(fā)明的上述和其它的特點和優(yōu)點對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說將會變得顯而易見，其中圖1是傳統(tǒng)等離子顯示板的分解透視示意圖；圖2是另一前玻璃基板的反面透視示意圖；圖3A至3D示出了形成黑電極和總線電極的方法步驟的橫截面圖；圖4A至4D示出了根據(jù)本發(fā)明一實施例的模板制造方法步驟的橫截面圖，該模板用于等離子顯示板的總線電極的制造方法中；圖5示出了用圖4A至4D的方法形成的模板的透視示意圖；和圖6A至6E示出了用一模板制造總線電極和黑電極的方法步驟的橫截面示意圖。
具體實施例方式
于2004年12月11日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的、申請?zhí)枮镹o.10-2004-0104649、名為“等離子顯示板的總線電極的制造方法，在該方法中使用的模板，和用該方法制造的具有總線電極的等離子顯示板”的韓國申請，全文在此引用以做參考。
下面將參考示出本發(fā)明的示例性實施例的附圖，更加詳細的描述本發(fā)明。然而本發(fā)明可以按不同形式實現(xiàn)，不受此處提出實施例解釋的限制。相反，提供這些實施例是為了徹底完全公開發(fā)明，并向本領(lǐng)域技術(shù)人員充分表達本發(fā)明的范圍。圖中各層和各區(qū)域的尺寸被放大以便清楚說明。應當明白的是若指出一層在另一層或基板“之上”，其可以直接在其它層或基板之上，或者有一中間層。而且應當明白的是若指出一層在另一層“之下”，其可以直接在之下，也可以有一個或多個中間層。另外應當明白若指出一層在兩層“之間”，其可以是只有一個層在兩個層之間，或者有一個或多個中間層。全文相同的標記表示相同的元件。
根據(jù)本發(fā)明的一實施例的等離子顯示板的不透明電極的制造方法，可以用一模板實現(xiàn)。在將不透明電極如黑電極和/或總線電極按預定圖案形成在模板上之后，其可以從模板轉(zhuǎn)移(transfer)并固定到前玻璃基板上的顯示電極上。
圖4A至4D示出了根據(jù)本發(fā)明一實施例的模板40制造方法步驟的橫截面圖，該模板用于等離子顯示板的總線電極的制造方法中。參見圖4A，金屬薄膜42設(shè)置在塑料基板41的上表面，形成板件41＇。塑料基板41可由柔性材料如ABS形成，并有助于增強圖4D的模板40。如下文所述，可將塑料基板41彎曲以便容易地轉(zhuǎn)移(transfer)總線電極和黑電極。在總線電極和黑電極鍍(p1ating)過程中，金屬薄膜42用作種子層。優(yōu)選地，在金屬薄膜42上的總線電極和黑電極在轉(zhuǎn)移過程中可容易地從金屬薄膜42分離開來。因此金屬薄膜42可以由能容易地與形成電極的材料如不銹鋼、鈦、鎳和鐵等分離的材料形成。
可選地，模板40可僅僅由塑料基板41形成，而沒有金屬薄膜42，或者僅僅由玻璃板形成。這種情況下，可在塑料或玻璃板上執(zhí)行無電鍍以形成想要的總線電極和黑電極的鍍層。
如圖4B所示，光阻材料43涂覆在金屬薄膜42的整個上表面上。光阻材料43可以是負型光阻材料。
如圖4C所示，將光阻材料43曝光。當將掩膜45設(shè)置在光阻材料43的整個表面上，負型光阻材料曝光于來自光源57的光線時，沒有曝光的負型光阻材料陰影部分43a變軟。據(jù)此若隨后實施顯影，可以去除與陰影部分43a對應的光阻材料43的部分，從而形成中間具有鍍槽52的預定圖案47，如圖4D所示。
圖5示出根據(jù)圖4A至4D所示工藝形成的模板的透視示意圖。參見圖5，光阻材料圖案47形成在模板40的表面上，鍍槽52形成在光阻材料圖案47的中間。如后所述，通過用總線和黑電極材料鍍鍍槽52，可形成電極圖案。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，可以用光敏玻璃粘劑代替光阻材料形成模板的圖案。例如可涂覆光敏玻璃粘劑以代替圖4B所示的光阻材料43，執(zhí)行曝光和顯影步驟以形成圖5所示的玻璃圖案。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，可以用玻璃粉或陶瓷粉形成模板。如果用玻璃粉或陶瓷粉形成模板，則可重復使用模板。
圖6A至6E示出了用一模板制造總線電極和黑電極的方法步驟的橫截面示意圖。參見圖6A，鍍槽52形成在模板50上，第一鍍層61如Ag鍍層形成在鍍槽52內(nèi)。第一鍍層61可以用傳統(tǒng)的方法形成。例如可用AgCN鍍敷溶液作為鍍敷溶液，可用模板50的金屬薄膜作為電鍍電極以便形成第一鍍層61。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，如果不形成金屬薄膜，可用無電鍍形成種子層，隨后執(zhí)行鍍敷以便形成第一鍍層61。第一鍍層61的厚度可以不厚于鍍槽52的深度。如后所述，第一鍍層61可用作等離子顯示板的總線電極。
參見圖6B，可在第一鍍層61上形成第二鍍層62如銅(Cu)或鎳磷(Ni-P)。這里，第二鍍層62可向上延伸稍稍超過形成鍍槽52的光阻材料圖案47。這種超過光阻材料圖案47的延伸可防止圖案47在電極轉(zhuǎn)移過程中相互干擾。換句話說，如果第二鍍層62的上表面低于形成鍍槽52的圖案47的上表面，在轉(zhuǎn)移過程中圖案47的上表面就會與顯示電極接觸。因此第二鍍層62的上表面優(yōu)選地比圖案47的上表面高。如圖6C所示，在第二鍍層62的上表面與形成鍍槽52的圖案47的上表面之間有一厚度h，厚度h的范圍在約1μm至約5μm之間。第二鍍層62可用傳統(tǒng)的鍍敷方法形成。
參見圖6C，可對第二鍍層62進行處理來形成致黑的第二鍍層63。如果第二鍍層62由Cu形成，則可用堿性致黑溶液使第二鍍層62致黑。如果第二鍍層62由Ni-P形成，則可用酸性致黑溶液使第二鍍層62致黑。
參見圖6D，在經(jīng)致黑的第二鍍層63上可涂覆粘結(jié)材料64如粘結(jié)粉。可用粘結(jié)材料64將鍍層固定到前玻璃基板68上的顯示電極67上，如圖6E所示。例如可用掩膜以印刷方法將粘結(jié)材料64涂覆在第二鍍層62上。
參見圖6E，可將第一鍍層61和致黑的第二鍍層63轉(zhuǎn)移至前玻璃基板68上的顯示電極67。在將在第一鍍層61和致黑的第二鍍層63轉(zhuǎn)移并固定到顯示電極67的上表面如用粘結(jié)材料64固定之后，可將模板50去除。結(jié)果在顯示電極68上，第一鍍層61用作總線電極，致黑的第二鍍層63用作黑電極。之后如圖2所示，可在前玻璃基板68上形成一介電層和一保護層。
如果模板50由柔性塑料材料形成，則在鍍層轉(zhuǎn)移之后可容易地去除模板50。換句話說，可將模板50稍稍彎曲，這樣就容易去除。
若沒有形成致黑的第二鍍層63，圖6A至6E所示的工藝仍可應用于第一鍍層61。例如用其它方法而不是黑電極實現(xiàn)黑條帶，或者在不必要的情況下，可以不形成致黑的第二鍍層63。這種情況下可使第一層61的厚度等于或大于模板的圖案47的厚度。而且可將粘結(jié)材料64直接涂覆在要轉(zhuǎn)移至顯示電極67的第一鍍層61的上表面上。
如上所述，在等離子顯示板的不透明電極的制造方法、在該方法中所用的模板和用該方法制造的帶不透明電極的等離子顯示板中，用來制造不透明電極的材料總量減少。而且，不透明電極可以快速簡便地制造。
在這里公開了本發(fā)明的示例性實施例，雖然使用了特定術(shù)語，但它們僅僅是一般地、描述性地解釋，不起限定的目的。例如，可將粘結(jié)材料施加到顯示電極上而不是模板上的鍍層上。據(jù)此，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應當明白可以進行不脫離由權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍的各種形式和細節(jié)上的變化。
權(quán)利要求
1.一種制造等離子顯示板的不透明電極的方法，該方法包括提供具有與等離子顯示板的不透明電極的圖案對應的鍍槽的模板；在鍍槽內(nèi)形成第一鍍層；將第一鍍層轉(zhuǎn)移至位于基板上的顯示電極；和去除模板，使第一鍍層留在顯示電極上。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中第一鍍層是Ag鍍層。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中提供模板包括在一材料板上提供一金屬膜，在金屬膜上形成鍍槽。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中金屬膜是不銹鋼、鈦、鎳和鐵中的一種。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中提供模板包括在形成第一鍍層之前，為無電鍍形成一種子層。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述鍍槽是形成在一光阻材料內(nèi)。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中該鍍槽是用光阻材料粘劑形成的。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括在轉(zhuǎn)移之前在第一鍍層和顯示電極之間提供一粘結(jié)材料。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括，在轉(zhuǎn)移之前，在第一鍍層的上表面之上形成第二鍍層，該轉(zhuǎn)移包括將第一和第二鍍層轉(zhuǎn)移。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中第一鍍層是Ag鍍層，第二鍍層是銅或Ni-P鍍層。
11.如權(quán)利要求9所述的方法，還包括，在轉(zhuǎn)移之前，致黑第二鍍層。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中第二鍍層是銅鍍層，致黑包括使用堿性致黑溶液。
13.如權(quán)利要求11所述的方法，其中第二鍍層是Ni-P鍍層，致黑包括使用酸性致黑溶液。
14.如權(quán)利要求1所述的方法，其中模板包括一玻璃材料板。
15.如權(quán)利要求1所述的方法，其中模板包括一塑料材料板。
16.用于制造等離子顯示板的不透明電極的模板，該模板包括一板件；和形成在板件的上表面上的圖案，板件包括與等離子顯示板的不透明電極對應的鍍槽。
17.如權(quán)利要求16所述的模板，其中該板件是塑料板件、其上具有一金屬層的塑料板件、玻璃板件和陶瓷板件中的一種。
18.如權(quán)利要求16所述的模板，其中該圖案由光阻材料和光敏玻璃粘劑中的一種形成。
19.一種等離子顯示板，包括顯示電極；總線電極；和在顯示電極和總線電極之間的粘結(jié)材料。
20.如權(quán)利要求19所述的等離子顯示板，還包括在粘結(jié)材料和總線電極之間的黑電極。
全文摘要
一種制造等離子顯示板的不透明電極的方法，包括設(shè)置一模板，該模板具有與等離子顯示板的不透明電極的圖案對應的鍍槽，在鍍槽內(nèi)形成第一鍍層，轉(zhuǎn)移第一鍍層至基板上的顯示電極，并去除模板，留下第一鍍層在顯示電極上。在顯示電極和第一鍍層之間可以有粘結(jié)劑。在顯示電極和第一鍍層之間可以有第二鍍層。
文檔編號H01J11/12GK1848354SQ20051000347
公開日2006年10月18日 申請日期2005年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月11日
發(fā)明者朱圭楠, 崔慶南, 樸鉉基, 韓東熙 申請人:三星Sdi株式會社