無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)，包括至少一組激光器Ⅰ（11）和激光器Ⅱ（12），以及光束會(huì)聚器（2）；所述激光器Ⅰ（11）置于光束會(huì)聚器（2）上方，所述激光器Ⅱ（12）置于光束會(huì)聚器（2）前方；所述光束會(huì)聚器（2）后方依次設(shè)有凸透鏡Ⅰ（3）、凸透鏡Ⅱ（4）、反射鏡（5）和可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元（6）；所述可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元（6）正下方設(shè)置基板（7）。本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)取消了掩膜曝光的方式，取而代之的是掃描式無(wú)掩膜曝光。本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)在節(jié)約成本的同時(shí)大幅度提高了曝光效率。
【專利說明】
無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種曝光機(jī)，具體是一種無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有技術(shù)中，為了在阻焊基板上曝光圖形，一直以來(lái)是制作成為圖形底板的菲林，通過使用該菲林的曝光裝置來(lái)曝光基板。
[0003]但是，在基板尺寸逐漸增大的同時(shí)，基板的設(shè)計(jì)、制作要求的時(shí)間逐漸變短。而且，基板種類多、多品種數(shù)量少，制作菲林導(dǎo)致成本提高及交貨延期。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本實(shí)用新型提供一種無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)，取消了掩膜曝光的方式，取而代之的是掃描式無(wú)掩膜曝光。本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)在節(jié)約成本的同時(shí)大幅度提尚曝光效率。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)包括至少一組激光器I和激光器Π，以及光束會(huì)聚器；
[0006]所述激光器I置于光束會(huì)聚器上方，所述激光器Π置于光束會(huì)聚器前方；
[0007]所述光束會(huì)聚器后方依次設(shè)有凸透鏡1、凸透鏡Π、反射鏡和可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元；
[0008]所述可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元正下方設(shè)置基板。
[0009]進(jìn)一步，所述激光器I為405nm半導(dǎo)體激光器，所述激光器Π為365nm或低于400nm的半導(dǎo)體激光器。
[0010]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)取消了掩膜曝光的方式，取而代之的是掃描式無(wú)掩膜曝光。本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)在節(jié)約成本的同時(shí)大幅度提高了曝光效率。
【附圖說明】
[0011]圖1是本實(shí)用新型的主體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖中:11、激光器1，12、激光器11，2、光束會(huì)聚器，3、凸透鏡1，4、凸透鏡Π，5、反射鏡，6、可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元，7、基板。
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。
[0014]如圖1所示，本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)包括至少一組激光器Ill和激光器Π 12，以及光束會(huì)聚器2;
[0015]所述激光器111置于光束會(huì)聚器2上方，所述激光器Π 12置于光束會(huì)聚器2前方；
[0016]所述光束會(huì)聚器2后方依次設(shè)有凸透鏡13、凸透鏡Π4、反射鏡5和可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元6 ；
[0017]所述可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元6正下方設(shè)置基板7。
[0018]光束會(huì)聚器2可以把不同波長(zhǎng)的激光會(huì)聚到一起并以平行光的方式出射。
[0019]凸透鏡13和凸透鏡Π4可以把混合的激光光束以10um甚至更細(xì)的光束直徑出射，且出射光為平行光。
[0020]反射鏡5對(duì)紫外光全反，且能夠把直徑10um的光束反射到可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元6上。
[0021]可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元6由軟件控制其翻轉(zhuǎn)，將直徑為10um的光束以掃描的方式在基板7上曝光。
[0022]進(jìn)一步，所述激光器Ill為405nm高功率半導(dǎo)體激光器，所述激光器Π 12為365nm或低于400nm的高功率半導(dǎo)體激光器。
[0023]本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)的工作原理如下:
[0024]將405nm半導(dǎo)體激光器Ill和365nm半導(dǎo)體激光器Π 12經(jīng)光束會(huì)聚器2會(huì)聚，并以平行光的方式出射，通過凸透鏡13和凸透鏡Π4的作用，將光束整形為直徑僅為10um甚至更細(xì)的光束，由反射鏡5反射至可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元6上，通過軟件控制其翻轉(zhuǎn)，以掃描的方式在基板7上曝光，以紫外固化的方式，形成所需圖形。
[0025]綜上所述，本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)取消了掩膜曝光的方式，取而代之的是掃描式無(wú)掩膜曝光。本無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)在節(jié)約成本的同時(shí)大幅度提高了曝光效率。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)，其特征在于， 包括至少一組激光器I (11)和激光器Π (12)，以及光束會(huì)聚器(2); 所述激光器I(Il)置于光束會(huì)聚器(2)上方，所述激光器Π (12)置于光束會(huì)聚器(2)前方； 所述光束會(huì)聚器(2)后方依次設(shè)有凸透鏡1(3)、凸透鏡Π (4)、反射鏡(5)和可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元(6); 所述可旋轉(zhuǎn)單像素成像單元(6)正下方設(shè)置基板(7)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無(wú)掩膜阻焊曝光機(jī)，其特征在于， 所述激光器I (11)為405nm半導(dǎo)體激光器，所述激光器Π (12)為365nm或低于400nm的半導(dǎo)體激光器。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK205539931SQ201620208338
【公開日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年3月18日
【發(fā)明人】平潔
【申請(qǐng)人】江蘇影速光電技術(shù)有限公司