利用多棱鏡掃描技術(shù)進(jìn)行曝光的pcb曝光設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種利用多棱鏡掃描技術(shù)進(jìn)行曝光的PCB曝光設(shè)備，包括工件傳輸定位系統(tǒng)、多棱鏡曝光系統(tǒng)、設(shè)備基礎(chǔ)底座，所述的工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置被曝光工件，被曝光工件傾斜放置于設(shè)備基礎(chǔ)底座并且垂直于工件傳輸定位系統(tǒng)，被曝光工件兩側(cè)對稱布置有多棱鏡曝光系統(tǒng)，所述的被曝光工件為PCB板。本實(shí)用新型在工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置被曝光工件，被曝光工件兩側(cè)對稱布置有多棱鏡曝光系統(tǒng)，被曝光工件為PCB板，這樣的對稱布置在PCB板兩側(cè)，被曝光工件與設(shè)備基礎(chǔ)底座具有傾斜角度，PCB板沿傾斜角度方向運(yùn)動，對PCB板進(jìn)行雙面曝光，而且可以對多個PCB板進(jìn)行雙面曝光。
【專利說明】
利用多棱鏡掃描技術(shù)進(jìn)行曝光的PCB曝光設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種利用多棱鏡掃描技術(shù)進(jìn)行曝光的PCB曝光設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]直寫式光刻技術(shù)是近年來發(fā)展較快的、以替代傳統(tǒng)的掩膜板式光刻技術(shù)的影像直接轉(zhuǎn)移技術(shù)，在半導(dǎo)體及PCB生產(chǎn)領(lǐng)域中有著越來越重要的地位。利用該技術(shù)可以縮短工藝流程，并降低生產(chǎn)成本。目前市場上主流的直寫式光刻機(jī)多以單工件臺方式進(jìn)行掃描曝光，先將被曝光工件的A面曝光完成后，再進(jìn)行翻版，然后對B面進(jìn)行曝光。在單工件臺系統(tǒng)中，用于曝光的基板的上板、對準(zhǔn)、曝光、下板是依次進(jìn)行的。依據(jù)目前的結(jié)構(gòu)系統(tǒng)，各操作流程均已經(jīng)達(dá)到耗時的上限，很難再縮短某個操作步驟的操作時間，即單工件臺的直寫式光刻機(jī)由于各操作流程的串行性質(zhì)，已很難再提高產(chǎn)能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本實(shí)用新型提供一種利用多棱鏡掃描技術(shù)進(jìn)行曝光的PCB曝光設(shè)備，能夠?qū)A斜放置的PCB板進(jìn)行雙面曝光。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種包括工件傳輸定位系統(tǒng)、多棱鏡曝光系統(tǒng)、設(shè)備基礎(chǔ)底座，所述的工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置被曝光工件，被曝光工件傾斜放置于設(shè)備基礎(chǔ)底座并且垂直于工件傳輸定位系統(tǒng)，被曝光工件兩側(cè)對稱布置有多棱鏡曝光系統(tǒng)，所述的被曝光工件為PCB板。
[0005]所述的工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置至少兩個被曝光工件，每個被曝光工件兩側(cè)均對稱布置有多棱鏡曝光系統(tǒng)。
[0006]本裝置還配套數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)。
[0007]被曝光工件與設(shè)備基礎(chǔ)底座的傾斜角度為1°?89°。
[0008]本實(shí)用新型在工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置被曝光工件，被曝光工件兩側(cè)對稱布置有多棱鏡曝光系統(tǒng)，被曝光工件為PCB板，這樣的對稱布置在PCB板兩側(cè)，曝光系統(tǒng)布置于PCB板兩側(cè)且固定，被曝光工件與設(shè)備基礎(chǔ)底座具有傾斜角度，PCB板沿傾斜角度方向運(yùn)動，對PCB板進(jìn)行雙面曝光，而且可以對多個PCB板進(jìn)行雙面曝光。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖中:1.工件傳輸定位系統(tǒng)，2.被曝光工件，3.第一多棱鏡曝光系統(tǒng)，4.設(shè)備底座，5.第二多棱鏡曝光系統(tǒng)。
【具體實(shí)施方式】
[0011 ]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0012]如圖1所示，一種基于多棱鏡掃描技術(shù)的激光直寫雙面曝光設(shè)備，包括工件傳輸定位系統(tǒng)1、多棱鏡曝光系統(tǒng)、設(shè)備基礎(chǔ)底座4與設(shè)備配套數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)，圖1中的多棱鏡曝光系統(tǒng)為第一多棱鏡曝光系統(tǒng)3和第二多棱鏡曝光系統(tǒng)5，所述的工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置被曝光工件，被曝光工件兩側(cè)對稱布置有第一多棱鏡曝光系統(tǒng)3和第二多棱鏡曝光系統(tǒng)5，所述的被曝光工件2為PCB板。
[0013]作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述的工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置可以兩個或者更多的被曝光工件，每個被曝光工件兩側(cè)均對稱布置有多棱鏡曝光系統(tǒng)。
[0014]本實(shí)用新型在工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置被曝光工件，被曝光工件兩側(cè)對稱布置有多棱鏡曝光系統(tǒng)，被曝光工件為PCB板，這樣的對稱布置在PCB板兩側(cè)，可同時PCB板進(jìn)行雙面曝光，而且可以對多個PCB板進(jìn)行雙面曝光。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種利用多棱鏡掃描技術(shù)進(jìn)行曝光的PCB曝光設(shè)備，其特征在于，包括工件傳輸定位系統(tǒng)、多棱鏡曝光系統(tǒng)、設(shè)備基礎(chǔ)底座，所述的工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置被曝光工件，被曝光工件傾斜放置于設(shè)備基礎(chǔ)底座并且垂直于工件傳輸定位系統(tǒng)，被曝光工件兩側(cè)對稱布置有多棱鏡曝光系統(tǒng)，所述的被曝光工件為PCB板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用多棱鏡掃描技術(shù)進(jìn)行曝光的PCB曝光設(shè)備，其特征在于，所述的工件傳輸定位系統(tǒng)與設(shè)備基礎(chǔ)底座之間放置至少兩個被曝光工件，每個被曝光工件兩側(cè)均對稱布置有多棱鏡曝光系統(tǒng)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用多棱鏡掃描技術(shù)進(jìn)行曝光的PCB曝光設(shè)備，其特征在于，本裝置還配套數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用多棱鏡掃描技術(shù)進(jìn)行曝光的PCB曝光設(shè)備，其特征在于被曝光工件與設(shè)備基礎(chǔ)底座的傾斜角度為1°?89°。
【文檔編號】G03F7/20GK205539924SQ201620060014
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年1月22日
【發(fā)明人】趙華, 張偉, 徐巍, 王翰文, 馬汝治
【申請人】江蘇影速光電技術(shù)有限公司