專利名稱：母基底材料、膜形成區(qū)域的配設(shè)方法、濾色器的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有多個膜形成區(qū)域的母基底材料、母基底材料中的膜形 成區(qū)域的配設(shè)方法、以及具備具有濾色膜的濾色區(qū)域的濾色器的制造方 法。
背景技術(shù)：
以往以來，作為形成彩色液晶裝置的濾色器膜等功能膜的技術(shù)，知道 使用有將液狀體作為液滴噴出的液滴噴出頭的液滴噴出裝置，噴出包含功 能膜的材料的液狀體的液滴，命中基板上的任意位置，由此在該位置配置 液狀體，使配置的液狀體干燥，形成功能膜的技術(shù)。由于這樣的膜的形成 中使用的液滴噴出裝置的液滴噴出頭能從其噴嘴有選擇地噴出微小的液 滴，位置精度良好地命中，所以能形成具有精密的平面形狀和膜厚的膜。
專利文獻l中記載的噴墨線頭將噴出頭在主掃描方向排列配置，提高 副掃描方向的噴出噴嘴的密度。即通過減小副掃描方向的噴出噴嘴的間 隔，減小噴出的液狀體的間隔，實現(xiàn)副掃描方向的描畫分辨率高的線頭。
主掃描方向的描畫分辨率由用主掃描方向的噴出噴嘴和描畫對象物 的相對移動速度和噴出液狀體的噴出頻率決定的噴出間隔(以下，標記為
"噴出分辨率")決定。在專利文獻2中描述通過調(diào)節(jié)噴出分辨率，能夠 對描畫對象物的被描畫區(qū)域?qū)崿F(xiàn)適當?shù)拿璁嫹直媛实囊旱螄姵龇椒ā?[專利文獻l]特開平IO-I66574號公報 [專利文獻2]特開2006-130469號公報
可是，為了使用所述專利文獻中記載的裝置或方法在基板上以高精度 配置液狀體，在實施噴出之前，對于液滴噴出裝置有必要精度良好地將基 板定位來設(shè)置。
作為定位，進行用于確定液滴噴出裝置中設(shè)定的噴出噴嘴或基板的位 置的坐標系的基板的基準點的位置的檢測、和使用于規(guī)定基板的被噴出區(qū)
8域的位置的坐標系的坐標軸的方向與液滴噴出裝置的坐標系的坐標軸的 方向一致的方向調(diào)整。在方向調(diào)整中使用在垂直于液滴噴出裝置和基板的 坐標系的軸的繞軸方向能使基板轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動裝置。將設(shè)置的基板移動到與 液滴噴出頭相對的位置，配置液狀體時，使液滴噴出頭和基板相對移動。
一般，為了使可動裝置可動，如果微觀地觀察，不會使可動裝置變?yōu)?完全的固定狀態(tài)。由于轉(zhuǎn)動狀態(tài)也不變?yōu)橥耆墓潭顟B(tài)，所以由轉(zhuǎn)動裝 置調(diào)整坐標軸方向的基板在調(diào)整結(jié)束之后，有可能產(chǎn)生坐標軸方向的微小 的偏移。由于在垂直于基板的坐標系的軸的圍繞軸方向偏移，具有噴出的 液狀體在基板上的命中位置有可能從給定的位置，雖然微小，但是偏移的 問題。在近年制造的高精細的顯示裝置的制造中，由于微小的位置偏移對 形成的膜的形狀精度帶來影響，有可能影響制品的性能。此外，為了制造 的效率化，使用大型化的基板，對液滴噴出裝置的基板的方向偏移對命中 位置的位置偏移帶來的影響增大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決所述課題的至少一部分而提出的，能作為以下的形 態(tài)或應(yīng)用例實現(xiàn)。本應(yīng)用例的母基底材料具有多個包含1以上的膜形成分區(qū) 的膜形成區(qū)域，包括具有第一膜形成分區(qū)的第一膜形成區(qū)域；具有比第 一膜形成分區(qū)的膜的形成面積更小的第二膜形成分區(qū)的第二膜形成區(qū)域； 在所述母基底材料被設(shè)置在配置膜材料時使用的配置裝置中的狀態(tài)下，在 所述第--膜形成區(qū)域更靠近所述配置裝置中具有的轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心 的位置配置所述第二膜形成區(qū)域。
根據(jù)該母基底材料，在母基底材料設(shè)置在配置裝置中的狀態(tài)下，在比 具有第-"膜形成分區(qū)的第一膜形成區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位 置配置具有膜的形成面積比第一膜形成分區(qū)更小的第二膜形成分區(qū)的第 二膜形成區(qū)域。
在轉(zhuǎn)動裝置中發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基底材 料，越離轉(zhuǎn)動中心遠，位置偏移量越大。即使是相同的位置偏移量，膜形 成分區(qū)的尺寸越小，配置的膜材料的一部分越從膜形成分區(qū)偏離，膜材料的配置狀態(tài)受到影響的可能性增大。在靠近轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)具有膜的 形成面積比第一膜形成分區(qū)更小的第二膜形成分區(qū)的第二膜形成區(qū)域，由 此能抑制由于轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移為原因的膜材 料的配置狀態(tài)受到影響。在所述應(yīng)用例的母基底材料中，所述配置裝置具有配置所 述膜材料的配置頭、使所述配置頭和所述母基底材料在主掃描方向相對移 動的相對移動裝置；所述第一膜形成分區(qū)在所述主掃描方向的寬度是第一 寬度，所述第二膜形成分區(qū)在所述主掃描方向的寬度是比所述第一寬度更 小的第二寬度；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在
與所述主掃描方向大致iE交的副掃描方向，所述第二膜形成區(qū)域配設(shè)在比
所述第- -膜形成區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置。
根據(jù)該母基底材料，膜形成分區(qū)的主掃描方向的寬度是第二寬度的第 二膜形成區(qū)域在母基底材料被設(shè)置在配置裝置中的狀態(tài)下，與膜形成分區(qū) 的主掃描方向的寬度比第二寬度更大的第一寬度的第一膜形成區(qū)域相比， 在副掃描方向，配置在靠近轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位置。
在轉(zhuǎn)動裝置中發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基底材 料中，在副掃描方向，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，主掃描方向的位置偏移量 越大。
即使是相同的位置偏移量，膜形成分區(qū)的寬度越小，配置的膜材料的 一部分越從膜形成分區(qū)偏離，膜材料的配置狀態(tài)受到影響的可能性增大。 通過將膜形成分區(qū)的主掃描方向的寬度比第一膜形成區(qū)域更小的第二膜 形成區(qū)域配設(shè)在副掃描方向，靠近轉(zhuǎn)動中心的位置，從而能抑制由于轉(zhuǎn)動 裝置的轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移為原因的膜材料的配置狀態(tài)受到 影響。在所述應(yīng)用例的母基底材料中，所述配置裝置具有配置所
述膜材料的配置頭、使所述配置頭和所述母基底材料在主掃描方向相對移
動的相對移動裝置；所述第一膜形成分區(qū)在與所述主掃描方向大致正交的 副掃描方向的寬度是第三寬度，所述第二膜形成分區(qū)在所述副掃描方向的 寬度是比所述第三寬度更小的第四寬度；在所述母基底材料被設(shè)置在所述 配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描方向，所述第二膜形成區(qū)域配置在比
10所述第一膜形成區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置。根據(jù)該母基底材料，膜形成分區(qū)的副掃描方向的寬度是第四寬度的第 二膜形成區(qū)域在母基底材料被設(shè)置在配置裝置中的狀態(tài)下，與膜形成分區(qū) 的副掃描方向的寬度比第四寬度更大的第三寬度的第一膜形成區(qū)域相比， 在主掃描方向，配設(shè)在靠近轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位置。在轉(zhuǎn)動裝置中發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基底材 料中，在主掃描方向，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，副掃描方向的位置偏移量 越大。即使是相同的位置偏移量，膜形成分區(qū)的寬度越小，配置的膜材料的 一部分越從膜形成分區(qū)偏離，膜材料的配置狀態(tài)受到影響的可能性增大。 通過將膜形成分區(qū)的副掃描方向的寬度比第一膜形成區(qū)域更小的第二膜 形成區(qū)域配置在主掃描方向，靠近轉(zhuǎn)動中心的位置，能抑制由于轉(zhuǎn)動裝置 的轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移，膜材料的配置狀態(tài)受到影響。[應(yīng)用例4]在所述應(yīng)用例的母基底材料中，所述第二膜形成區(qū)域配置 在比所述第一膜形成區(qū)域更靠近所述母基底材料的中央的位置。根據(jù)該母基底材料，通過在比第--膜形成區(qū)域更靠近母基底材料的中 央的位置配置第二膜形成區(qū)域，在母基底材料的中央與轉(zhuǎn)動中心大致重疊 的狀態(tài)下，在配置裝置安裝母基底材料，能使第二膜形成區(qū)域位于比第一 膜形成區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置。通過變?yōu)槟富撞牧系闹醒肱c轉(zhuǎn)動中 心大致重疊的狀態(tài)，能將從轉(zhuǎn)動中心到母基底材料的各部分的距離的最大 值變?yōu)樽钚?。在發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基底材料 中，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，位置偏移量越大，所以通過將從轉(zhuǎn)動中心到 母基底材料的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚。軠p小轉(zhuǎn)動方向的偏移引 起的位置偏移量的最大值的大小。[應(yīng)用例5]是所述應(yīng)用例的母基底材料，所述母基底材料具有在所述 主掃描方向排列多個所述第一膜形成區(qū)域的第一區(qū)域列、在所述主掃描方 向排列多個所述第二膜形成區(qū)域的第二區(qū)域列；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，所述第二區(qū)域列在所述副掃描方向配設(shè)在比 所述第一區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置。根據(jù)該母基底材料，第一區(qū)域列和第二區(qū)域列將相同的第一膜形成區(qū)域或第二膜形成區(qū)域在主掃描方向相連。因此，在一次的主掃描方向的相 對移動中，在與在相同的第一膜形成區(qū)域或第二膜形成區(qū)域中配置膜材料 對應(yīng)的一定驅(qū)動條件下驅(qū)動各配置頭，能實施膜材料的配置。[應(yīng)用例6]在所述應(yīng)用例的母基底材料中，所述第二區(qū)域列配置在比 所述第一區(qū)域列更靠近所述母基底材料的中央的位置。根據(jù)該母基底材料，在比第一區(qū)域列更靠近母基底材料的中央的位置 配設(shè)第二區(qū)域列，從而能在比第一膜形成區(qū)域更靠近母基底材料的中央的 位置配設(shè)第二膜形成區(qū)域。據(jù)此，在母基底材料的中央與轉(zhuǎn)動中心大致重 疊的狀態(tài)下，在配置裝置安裝母基底材料，能使第二膜形成區(qū)域位于比第 一膜形成區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置。通過變?yōu)槟富撞牧系闹醒肱c轉(zhuǎn)動 中心大致重疊的狀態(tài)，能將從轉(zhuǎn)動中心到母基底材料的各部分的距離的最 大值變?yōu)樽钚?。在發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基底材 料中，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，位置偏移量越大，所以通過將從轉(zhuǎn)動中心 到母基底材料的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚?，能減小轉(zhuǎn)動方向的偏移 引起的位置偏移量的最大值的大小。[應(yīng)用例7]在所述應(yīng)用例的母基底材料中，所述母基底材料具有在所 述副掃描方向排列多個所述第一膜形成區(qū)域的第三區(qū)域列、在所述副掃描方向排列多個所述第二膜形成區(qū)域的第四區(qū)域列；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，所述第四區(qū)域列在所述主掃描方向配設(shè)在 比所述第三區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置。根據(jù)該母基底材料，第三區(qū)域列和第四區(qū)域列將相同的第一膜形成區(qū) 域或第二膜形成區(qū)域在副掃描方向連接。因此，在與在相同的第一膜形成 區(qū)域或第二膜形成區(qū)域中配置膜材料對應(yīng)的相同的驅(qū)動條件下驅(qū)動在副 掃描方向排列的多個配置頭，能實施膜材料的配置。由于驅(qū)動條件均一， 主掃描方向的相對移動的速度在副掃描方向上排列的多個配置頭中是共 有的，所以能抑制由于與相對移動的速度慢的配置頭一致為原因作業(yè)時間增加。[應(yīng)用例8]在所述應(yīng)用例的母基底材料中，所述第四區(qū)域列配設(shè)在比所述第三區(qū)域列更靠近所述母基底材料的中央的位置。根據(jù)該母基底材料，通過在比第三區(qū)域列更靠近母基底材料的中央的位置配設(shè)第四區(qū)域列，能在比第一膜形成區(qū)域更靠近母基底材料的中央的 位置配設(shè)第二膜形成區(qū)域。據(jù)此，母基底材料的中央與轉(zhuǎn)動中心大致重疊 的狀態(tài)下，在配置裝置安裝母基底材料，由此能使第二膜形成區(qū)域位于比 第一膜形成區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置。通過變?yōu)槟富撞牧系闹醒肱c轉(zhuǎn) 動中心大致重疊的狀態(tài)，能將從轉(zhuǎn)動中心到母基底材料的各部分的距離的 最大值變?yōu)樽钚?。由于在發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母 基底材料中，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，位置偏移量越大，所以通過將從轉(zhuǎn) 動中心到母基底材料的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚。軠p小轉(zhuǎn)動方向 的偏移引起的位置偏移量的最大值的大小。[應(yīng)用例9]一種膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，用于具有多個包含1以上的 膜形成分區(qū)的膜形成區(qū)域的母基底材料，所述母基底材料包含具有第一膜 形成分區(qū)的第一膜形成區(qū)域、具有比所述第一膜形成分區(qū)的膜的形成面積 更小的第二膜形成分區(qū)的第二膜形成區(qū)域；在配置膜材料時使用的配置裝 置中設(shè)置所述母基底材料的狀態(tài)下，在比所述第一膜形成區(qū)域更近所述配 置裝置中具有的轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位置配置所述第二膜形成區(qū)域。根據(jù)該膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，在母基底材料被設(shè)置在配置裝置中的 狀態(tài)下，在比具有第一膜形成分區(qū)的第一膜形成區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn) 動中心的位置配設(shè)具有膜的形成面積比第一膜形成分區(qū)更小的第二膜形 成分區(qū)的第二膜形成區(qū)域。在轉(zhuǎn)動裝置中發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基底材 料，越離轉(zhuǎn)動中心遠，位置偏移量越大。即使是相同的位置偏移量，膜形 成分區(qū)的尺寸越小，配置的膜材料的一部分越從膜形成分區(qū)偏移，膜材料 的配置狀態(tài)受到影響的可能性增大。在靠近轉(zhuǎn)動中心的位置配置具有膜的 形成面積比第一膜形成分區(qū)更小的第二膜形成分區(qū)的第二膜形成區(qū)域，能 抑制由于轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移位移膜材料的配置 狀態(tài)受到影響。[應(yīng)用例IO]在所述應(yīng)用例的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法中，所述配置裝置 使配置所述膜材料的配置頭和所述母基底材料在主掃描方向一邊相對移 動， 一邊配置所述膜材料；所述第一膜形成分區(qū)在所述主掃描方向的寬度 是第一寬度，所述第二膜形成分區(qū)在所述主掃描方向的寬度是比所述第一寬度更小的第二寬度；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài) 下，在與所述主掃描方向大致正交的副掃描方向，在比所述第一膜形成區(qū) 域更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配置所述第二膜形成區(qū)域。根據(jù)該膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，膜形成分區(qū)的主掃描方向的寬度是第 二寬度的第二膜形成區(qū)域在母基底材料被設(shè)置在配置裝置中的狀態(tài)下，與 膜形成分區(qū)的主掃描方向的寬度比第二寬度更大的第一寬度的第一膜形 成區(qū)域相比，在副掃描方向，配置在靠近轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位置。在轉(zhuǎn)動裝置中發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基底材 料中，在副掃描方向，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，主掃描方向的位置偏移量 越大。即使是相同的位置偏移量，膜形成分區(qū)的寬度越小，配置的膜材料的 一部分越從膜形成分區(qū)偏移，膜材料的配置狀態(tài)受到影響的可能性增大。 通過將膜形成分區(qū)的主掃描方向的寬度是比第一膜形成區(qū)域更小的第二 膜形成區(qū)域配設(shè)在副掃描方向，靠近轉(zhuǎn)動中心的位置，能抑制由于轉(zhuǎn)動裝 置的轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移，膜材料的配置狀態(tài)受到影響。[應(yīng)用例U]在所述應(yīng)用例的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法中，所述配置裝置 使配置所述膜材料的配置頭和所述母基底材料在主掃描方向一邊相對移 動， 一邊配置所述膜材料；所述第一膜形成分區(qū)在與所述主掃描方向正交 的副掃描方向的寬度是第三寬度，所述第二膜形成分區(qū)在所述副掃描方向的寬度是比所述第三寬度更小的第四寬度；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描方向，在比所述第一膜形成區(qū)域更 靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配置所述第二膜形成區(qū)域。根據(jù)該膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，膜形成分區(qū)的副掃描方向的寬度是第 四寬度的第二膜形成區(qū)域在母基底材料被設(shè)置在配置裝置中的狀態(tài)下，與 膜形成分區(qū)的副掃描方向的寬度比第四寬度更大的第三寬度的第一膜形 成區(qū)域相比，在主掃描方向，配設(shè)在靠近轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位置。在轉(zhuǎn)動裝置中發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基底材 料中，在主掃描方向，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，副掃描方向的位置偏移量 越大。即使是相同的位置偏移量，膜形成分區(qū)的寬度越小，配置的膜材料的一部分越從膜形成分區(qū)偏離，膜材料的配置狀態(tài)受到影響的可能性增大。 通過將膜形成分區(qū)的副掃描方向的寬度是比第一膜形成區(qū)域更小的第二 膜形成區(qū)域配設(shè)在主掃描方向，靠近轉(zhuǎn)動中心的位置，能抑制由于轉(zhuǎn)動裝 置的轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移，膜材料的配置狀態(tài)受到影響。在所述應(yīng)用例的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法中，在比所述第 一膜形成區(qū)域更靠近所述母基底材料的中央的位置配設(shè)所述第二膜形成 區(qū)域。
根據(jù)該膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，通過在比第-膜形成區(qū)域更靠近母基 底材料的中央的位置配置第二膜形成區(qū)域，在母基底材料的中央與轉(zhuǎn)動中 心大致重疊的狀態(tài)下，在配置裝置安裝母基底材料，能使第二膜形成區(qū)域 位于比第一膜形成區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置。通過變?yōu)槟富撞牧系闹?央與轉(zhuǎn)動中心大致重疊的狀態(tài)，能將從轉(zhuǎn)動中心到母基底材料的各部分的 距離的最大值變?yōu)樽钚?。由于在發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn) 動的母基底材料中，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，位置偏移量越大，所以通過 將從轉(zhuǎn)動中心到母基底材料的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚?，能減小轉(zhuǎn) 動方向的偏移引起的位置偏移量的最大值的大小。在所述應(yīng)用例的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法中，所述母基底 材料具有在所述主掃描方向排列多個所述第一膜形成區(qū)域的第一區(qū)域列、 在所述主掃描方向排列多個所述第二膜形成區(qū)域的第二區(qū)域列；在所述母 基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述副掃描方向，在比所 述第一區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第二區(qū)域列。
根據(jù)該膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，第一區(qū)域列和第二區(qū)域列將相同的第 一膜形成區(qū)域或第二膜形成區(qū)域在主掃描方向相連。因此，在一次的主掃 描方向的相對移動中，在與在相同的第一膜形成區(qū)域或第二膜形成區(qū)域中 配置膜材料對應(yīng)的一定驅(qū)動條件下驅(qū)動各配置頭，能實施膜材料的配置。在所述應(yīng)用例的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法中，在比所述第
一區(qū)域列更靠近所述母基底材料的中央的位置配設(shè)所述第二區(qū)域列。
根據(jù)該膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，在比第-一區(qū)域列更靠近母基底材料的 中央的位置配置第二區(qū)域列，從而能在比第一膜形成區(qū)域更靠近母基底材 料的中央的位置配置第二膜形成區(qū)域。據(jù)此，在母基底材料的中央與轉(zhuǎn)動中心大致重疊的狀態(tài)下，在配置裝置安裝母基底材料，能使第二膜形成區(qū) 域位于比第一膜形成區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置。通過變?yōu)槟富撞牧系?中央與轉(zhuǎn)動中心大致重疊的狀態(tài)，能將從轉(zhuǎn)動中心到母基底材料的各部分 的距離的最大值變?yōu)樽钚　Ｔ诎l(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動 的母基底材料中，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，位置偏移量越大，所以通過將 從轉(zhuǎn)動中心到母基底材料的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚?，能減小轉(zhuǎn)動 方向的偏移引起的位置偏移量的最大值的大小。在所述應(yīng)用例的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法中，所述母基底 材料具有在所述副掃描方向排列多個所述第一膜形成區(qū)域的第三區(qū)域列、 在所述副掃描方向排列多個所述第二膜形成區(qū)域的第四區(qū)域列；在所述母 基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描方向，在比所 述第三區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第四區(qū)域列。
根據(jù)該膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，第三區(qū)域列和第四區(qū)域列將相同的第 一膜形成區(qū)域或第二膜形成區(qū)域在副掃描方向相連。因此，在與在相同的 第一膜形成區(qū)域或第二膜形成區(qū)域中配置膜材料對應(yīng)的一定驅(qū)動條件下 驅(qū)動在副掃描方向排列的多個配置頭，能實施膜材料的配置。驅(qū)動條件均 一，主掃描方向的相對移動的速度在副掃描方向上排列的多個配置頭中是 共有的，所以能抑制由于與相對移動的速度慢的配置頭一致，作業(yè)時間增 加。在所述應(yīng)用例的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法中，在比所述第
.三區(qū)域列更靠近所述母基底材料的中央的位置配置所述第四區(qū)域列。
根據(jù)該膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，通過在比第三區(qū)域列更靠近母基底材 料的中央的位置配置第四區(qū)域列，能在比第一膜形成區(qū)域更靠近母基底材 料的中央的位置配置第二膜形成區(qū)域。據(jù)此，母基底材料的中央與轉(zhuǎn)動中 心大致重疊的狀態(tài)下，在配置裝置安裝母基底材料，能使第二膜形成區(qū)域 位于比第一膜形成區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置。通過變?yōu)槟富撞牧系闹?央與轉(zhuǎn)動中心大致重疊的狀態(tài)，能將從轉(zhuǎn)動中心到母基底材料的各部分的 距離的最大值變?yōu)樽钚?。在發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的 母基底材料中，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，位置偏移量越大，所以通過將從 轉(zhuǎn)動中心到母基底材料的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚。軠p小轉(zhuǎn)動方
16向的偏移引起的位置偏移量的最大值的大小。本應(yīng)用例的濾色器的制造方法對于包含具有1以上的色要 素區(qū)域的用于形成濾色區(qū)域的多個濾色器的母基板，在所述色要素區(qū)域形 成色要素膜，所述母基板包含具有第一色要素區(qū)域的第一濾色區(qū)域、具有 比所述第一濾色區(qū)域的所述色要素膜的形成區(qū)域更小的第二色要素區(qū)域 的第二濾色區(qū)域；在所述母基板被設(shè)置在配置色要素膜材料時使用的配置
裝置中的狀態(tài)下，在對于所述配置裝置中具有的轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心，比 所述第一濾色區(qū)域更靠近的位置配置所述第二濾色區(qū)域，在該第一濾色區(qū) 域和第二濾色區(qū)域各自的所述色要素區(qū)域，使用所述配置裝置配置色要素 膜材料。
根據(jù)該濾色器的制造方法，在母基板被設(shè)置在配置裝置中的狀態(tài)下， 在比具有第一色要素區(qū)域的第一色要素區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心 的位置配設(shè)具有色要素膜的形成面積比第一色要素區(qū)域更小的第二色要 素區(qū)域的第二濾色區(qū)域。
在轉(zhuǎn)動裝置中發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基板， 越離轉(zhuǎn)動中心遠，位置偏移量越大。即使是相同的位置偏移量，色要素區(qū) 域的尺寸越小，配置的色要素膜材料的一部分越從色要素區(qū)域偏離，色要 素膜材料的配置狀態(tài)受到影響的可能性增大。在比具有第一色要素區(qū)域的 第一濾色區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置配置具有色要素膜的形成面積比第 一色要素區(qū)域更小的第二色要素區(qū)域的第二濾色區(qū)域，能抑制由于轉(zhuǎn)動裝 置的轉(zhuǎn)動方向的偏移弓i起的位置偏移，膜材料的配置狀態(tài)受到影響。在所述應(yīng)用例的濾色器的制造方法中，所述配置裝置一邊
使用于配置所述色要素膜材料的配置頭和所述母基板在主掃描方向移動，
一邊配置所述色要素膜材料；所述第一色要素區(qū)域在所述主掃描方向的寬 度是第一寬度，所述第二色要素區(qū)域在所述主掃描方向的寬度是比所述第 一寬度更小的第二寬度；在所述母基板被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài) 下，在與所述主掃描方向大致正交的副掃描方向，所述在比所述第一濾色 區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第二濾色區(qū)域。
根據(jù)該濾色器的制造方法，色要素區(qū)域的主掃描方向的寬度是第二寬 度的第二濾色區(qū)域在母基板被設(shè)置在配置裝置中的狀態(tài)下，與色要素區(qū)域的主掃描方向的寬度比第二寬度更大的第一寬度的第一濾色區(qū)域相比，在 副掃描方向，配置在靠近轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位置。
在轉(zhuǎn)動裝置中發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基板 中，在副掃描方向，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，主掃描方向的位置偏移量越 大。
即使是相同的位置偏移量，色要素區(qū)域的寬度越小，配置的色要素膜 材料的一部分越從色要素區(qū)域偏離，色要素膜材料的配置狀態(tài)受到影響的 可能性增大。通過將色要素區(qū)域的主掃描方向的寬度比第一濾色區(qū)域更小 的第二濾色區(qū)域配置在副掃描方向，靠近轉(zhuǎn)動中心的位置，能抑制由于轉(zhuǎn) 動裝置的轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移，色要素膜材料的配置狀態(tài)受到 影響。在所述應(yīng)用例的濾色器的制造方法中，所述配置裝置一
邊使用于配置所述色要素膜材料的配置頭和所述母基板在主掃描方向移
動， 一邊配置所述色要素膜材料；所述第一色要素區(qū)域在所述色要素區(qū)域 的與所述主掃描方向大致正交的副掃描方向的寬度是第三寬度，所述第二 色要素區(qū)域在所述副掃描方向的寬度是比所述第一寬度更小的第四寬度； 在所述母基板設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描方向，在比 所述第一濾色區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配置所述第二濾色區(qū)域。
根據(jù)該濾色器的制造方法，色要素區(qū)域的副掃描方向的寬度是第四寬 度的第二濾色區(qū)域在母基板被設(shè)置在配置裝置中的狀態(tài)下，與色要素區(qū)域 的副掃描方向的寬度比第四寬度更大的第三寬度的第一濾色區(qū)域相比，在 主掃描方向，配設(shè)在靠近轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位置。
在轉(zhuǎn)動裝置中發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基板 中，在主掃描方向，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，副掃描方向的位置偏移量越
即使是相同的位置偏移量，色要素區(qū)域的寬度越小，配置的色要素膜 材料的一部分越從色要素區(qū)域偏移等，色要素膜材料的配置狀態(tài)受到影響 的可能性增大。通過將色要素區(qū)域的副掃描方向的寬度是比第一濾色區(qū)域 更小的第二濾色區(qū)域配置在主掃描方向，靠近轉(zhuǎn)動中心的位置，能抑制由 于轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移，色要素膜材料的配置狀態(tài)受到影響。在所述應(yīng)用例的濾色器的制造方法中，在比所述第一濾色區(qū)域更靠近所述母基板的中央的位置配設(shè)所述第二濾色區(qū)域。
根據(jù)該濾色器的制造方法，通過在比第一濾色區(qū)域更靠近母基板的中央的位置配置第二濾色區(qū)域，在母基板的中央與轉(zhuǎn)動中心大致重疊的狀態(tài)下，在配置裝置安裝母基板，能使第二濾色區(qū)域位于比第一濾色區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置。通過變?yōu)槟富宓闹醒肱c轉(zhuǎn)動中心大致重疊的狀態(tài)，能將從轉(zhuǎn)動中心到母基板的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚?。在發(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基板中，越離轉(zhuǎn)動中心遠的位置，位置偏移量越大，所以通過將從轉(zhuǎn)動中心到母基板的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚。軠p小轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移量的最大值的大小。在所述應(yīng)用例的濾色器的制造方法中，所述母基板具有在所述主掃描方向排列多個所述第一濾色區(qū)域的第一濾色區(qū)域列、在所述
主掃描方向排列多個所述第二濾色區(qū)域的第二濾色區(qū)域列；在所述母基板
設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述副掃描方向，在比所述第一濾色區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配置所述第二濾色區(qū)域列。
根據(jù)該濾色器的制造方法，第一濾色區(qū)域列和第二濾色區(qū)域列將相同的第一濾色區(qū)域或第二濾色區(qū)域在主掃描方向相連。因此，在一次的主掃描方向的相對移動中，在與在相同的第一濾色區(qū)域或第二濾色區(qū)域中配置色要素膜材料對應(yīng)的一定驅(qū)動條件下驅(qū)動各配置頭，能實施色要素膜材料的配置。在所述應(yīng)用例的濾色器的制造方法中，在比所述第一濾
色區(qū)域列更靠近所述母基板的中央的位置配置所述第二濾色區(qū)域列。
根據(jù)該濾色器的制造方法，在比第一濾色區(qū)域列更靠近母基板的中央的位置配置第二濾色區(qū)域列，從而能在比第一濾色區(qū)域更靠近母基板的中央的位置配置第二濾色區(qū)域。據(jù)此，在母基板的中央與轉(zhuǎn)動中心大致重疊的狀態(tài)下，在配置裝置安裝母基板，能使第二濾色區(qū)域位于比第一濾色區(qū)域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置。通過變?yōu)槟富宓闹醒肱c轉(zhuǎn)動中心大致重疊的狀態(tài)，能將從轉(zhuǎn)動中心到母基板的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚　Ｔ诎l(fā)生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基板中，越離轉(zhuǎn)動中心遠的
19位置，位置偏移量越大，所以通過將從轉(zhuǎn)動中心到母基板的各部分的距離 的最大值變?yōu)樽钚。軠p小轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移量的最大值的 大小。在所述應(yīng)用例的濾色器的制造方法中，所述母基板具有 在所述副掃描方向排列多個所述第一濾色區(qū)域的第三濾色區(qū)域列、在所述
副掃描方向排列多個所述第二濾色區(qū)域的第四濾色區(qū)域列；在所述母基板
被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描方向，在比所述第三濾 色區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配置所述第四濾色區(qū)域列。
根據(jù)該濾色器的制造方法，第三濾色區(qū)域列和第四濾色區(qū)域列將相同 的第一濾色區(qū)域或第二濾色區(qū)域在副掃描方向相連。因此，在與在相同的 第一濾色區(qū)域或第二濾色區(qū)域中配置色要素膜材料對應(yīng)的一定驅(qū)動條件 下驅(qū)動在副掃描方向排列的多個配置頭，能實施色要素膜材料的配置。由 于驅(qū)動條件均一，主掃描方向的相對移動的速度在副掃描方向上排列的多 個配置頭中是共有的，所以能抑制由于與相對移動的速度慢的配置頭一 致，作業(yè)時間增加。在所述應(yīng)用例的濾色器的制造方法中，在比所述第三濾色 區(qū)域列更靠近所述母基板的中央的位置配設(shè)所述第四濾色區(qū)域列。
根據(jù)該濾色器的制造方法，通過在比第三濾色區(qū)域列更靠近母基板的 中央的位置配設(shè)第四濾色區(qū)域列，能在比第一濾色區(qū)域更靠近母基板的中 央的位置配置第二濾色區(qū)域。據(jù)此，在母基板的中央與轉(zhuǎn)動中心大致重疊 的狀態(tài)下，在配置裝置安裝母基板，能使第二濾色區(qū)域位于比第一濾色區(qū) 域更靠近轉(zhuǎn)動中心的位置。通過變?yōu)槟富宓闹醒肱c轉(zhuǎn)動中心大致重疊的 狀態(tài)，能將從轉(zhuǎn)動中心到母基板的各部分的距離的最大值變?yōu)樽钚?。在發(fā) 生轉(zhuǎn)動方向的偏移時，在由轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)動的母基板中，越離轉(zhuǎn)動中心遠的 位置，位置偏移量越大，所以通過將從轉(zhuǎn)動中心到母基板的各部分的距離 的最大值變?yōu)樽钚?，能減小轉(zhuǎn)動方向的偏移引起的位置偏移量的最大值的 大小。


圖1是表示液滴噴出裝置的概略結(jié)構(gòu)的平面圖。 圖2是表示液滴噴出裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖3 (a)是表示液滴噴出頭的概要的外觀立體圖。(b)是表示頭單
元的概略結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖4是表示液滴噴出裝置的電結(jié)構(gòu)的電結(jié)構(gòu)框圖。 圖5是表示液滴噴出頭的電結(jié)構(gòu)和信號流的說明圖。 圖6是表示液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)的分解立體圖。
圖7 (a)是示意表示對置基板的平面構(gòu)造的平面圖，(b)是示意地
表示母對置基板的平面構(gòu)造的平面圖。
圖8是表示3色濾色器的濾色膜的排列例的示意平面圖。
圖9是表示形成液晶顯示面板的過程的程序流程圖。
圖10是表示形成液晶顯示面板的過程中的形成濾色膜的步驟等的剖視圖。
圖11是表示形成液晶顯示面板的過程中的形成定向膜的步驟等的剖 視圖。
圖12是表示濾色膜區(qū)域的形狀和命中對象區(qū)域的關(guān)系的說明圖。 圖13是表示配置功能液的步驟的程序流程圖。 圖14是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板 的說明圖。
圖15是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板
的說明圖。
圖16是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板 的說明圖。
圖17是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板
的說明圖。
圖18是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板
的說明圖。
圖19是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板 的說朋圖。
符號的說明。
21l一液滴噴出裝置；2—噴出單元；3—工件單元；6—噴出裝置控制部;
17—液滴噴出頭；21、 321—工件安放臺；31—吸附臺；32、 332— 9臺； 32a、 332a—轉(zhuǎn)動中心；54—頭單元；78—噴出噴嘴；80—圖像識別單元; 81—對齊相機(alignment camera) ; 81a—拍攝區(qū)域；82—相機移動機構(gòu)； 200—液晶顯示面板；201、 401—玻璃基板；201A、 201B、 201C、 301A、 401A、 401B—母對置基板；205、 405—濾色膜；208、 308、 408—CF層； 208a、 308a、 208v、 408a—CF層區(qū)域；208A、 408A—CF層列；208B、 208C、 208D、 208E、 408B、 408C—CF區(qū)域列；210—元件基板;220、 420 一對置基板；225、 225B、 225G、 225R、 225v、 325、 425—濾色膜區(qū)域； 225E、 425E—命中對象區(qū)域;225h、 425h—縱向尺寸;225w、 425w—橫 向尺寸；225x、 425x—橫向尺寸；225y、 425y—縱向尺寸；281—對齊標 記；532—9驅(qū)動電動機。
具體實施例方式
以下，參照附圖，說明母基底材料、膜形成區(qū)域的配設(shè)方法、濾色器 的制造方法的適合的實施例。實施例是母基底材料的一個例子，使用劃分 形成具有構(gòu)成液晶顯示裝置的濾色器的基板的母基板、作為配置裝置的液 滴噴出裝置，來形成構(gòu)成濾色器的色要素膜(濾色膜)等的步驟為例，進 行說明。另外，在以下的說明中參照的附圖中，為了便于圖示，有時將構(gòu) 件或部分的縱橫的縮小比例尺與實際不同地表示。
<液滴噴出法>
最初，說明濾色膜等功能膜的形成中使用的液滴噴出法。液滴噴出法 具有在材料的使用上浪費較少，而且能在所希望的位置準確地配置所希望 量的材料的優(yōu)點。作為液滴噴出法的噴出技術(shù)，列舉帶電控制方式、加壓 振動方式、電機械變換方式、電熱變換方式、靜電吸引方式等。
其中，電機械變換方式利用壓電元件接受到脈沖的電信號，變形的性 質(zhì)，壓電元件變形，由此通過可形變物質(zhì)對貯存材料的空間提供壓力，從 該空間押出材料，從噴嘴噴出。由于壓電方式對液狀材料不加熱，所以對 材料的組成等不帶來影響，通過調(diào)整驅(qū)動電壓，具有能容易調(diào)整液滴的尺 寸的特點。在本實施例中，為了對材料的組成等不帶來影響，液狀材料的
22選擇自由度高，為了容易調(diào)整液滴的尺寸，液滴的控制性好，所以使用所 述壓電方式。
<液滴噴出裝置>
下面，參照圖1和圖2，說明液滴噴出裝置1的全體結(jié)構(gòu)。圖1是表 示液滴噴出裝置的概略結(jié)構(gòu)的平面圖。圖2是表示液滴噴出裝置的概略結(jié) 構(gòu)的側(cè)視圖。
如圖1或圖2所示，液滴噴出裝置1具備具有液滴噴出頭17 (參照 圖3 (a)的噴出單元2;工件單元3;供液單元3 (參照圖4);檢查單元；
維護單元和噴出裝置控制部6 (參照圖4)。
噴出單元2具有12個將相當于膜材料或色要素材料的液狀體即功能 液作為液滴噴出的液滴噴出頭17，具有用于使該液滴噴出頭17在Y軸方 向移動，并且在在移動的位置保持的Y軸臺12。工件單元3具有安放從 液滴噴出頭17噴出的液滴的噴出對象即工件W的工件安放臺21。供液單 元60具有貯存功能液的貯存容器(省略圖示)，向液滴噴出頭17供給功 能液。檢査單元4具有用于檢査來自液滴噴出頭17的噴出狀態(tài)的噴出檢 查單元18和重量測定單元19，在重量測定單元19并設(shè)沖洗單元14。維 護單元5具有進行液滴噴出頭17的維護的吸引單元15和擦拭單元16。
噴出裝置控制部6集中地控制各單元。噴出裝置控制部6控制各單元， 實施使用重量測定單元19、噴出單元2、噴出檢查單元18或者維護單元5 等實施的重量測定處理、描畫處理、噴出檢查處理、維護處理等。
液滴噴出裝置1具有在石底板上支撐的X軸支撐底座1A，各單元等 配置在X軸支撐底座1A之上。X軸臺11在成為主掃描方向的X軸方向 延伸，配置在X軸支撐底座1A之上，使工件安放臺21在X軸方向(主 掃描方向)移動。
噴出單元2的Y軸臺12配置在通過多個支柱7A跨X軸臺ll架設(shè)的 一對Y軸支撐底座7、 7之上，在成為副掃描方向的Y軸方向延伸。噴出 單元2具有包含12個液滴噴出頭17的滑架單元51?；軉卧?1吊設(shè)在 橋板52上。橋板52通過Y軸滑塊(省略圖示)，在Y軸臺12上，可自 由滑動地在Y軸方向被支撐。Y軸臺12使橋板52 (滑架單元51)在Y 軸方向(副掃描方向)移動。與X軸臺11以及Y軸臺12的驅(qū)動同步，使噴出單元2的液滴噴出
頭17噴出驅(qū)動，使功能液滴噴出，由此對安放在工件安放臺21上的工件
w描畫任意的描畫圖案。
噴出檢査單元18具有檢查描畫單元161、攝像單元162。檢查描畫單 元161固定在X軸第二滑塊23上，與同樣固定在X軸第二滑塊23上的 重量測定單元19和沖洗單元14 一體地移動地構(gòu)成。攝像單元162具有2 個檢查相機163、將檢査相機163在Y軸方向可自由滑動地支撐的相機移 動機構(gòu)164。
維護單元5具有的吸引單元15和擦拭單元16配設(shè)在從X軸臺11偏 離，并且通過Y軸臺12滑架單元51能移動的位置所配設(shè)的架臺8之上。 吸引單元15具有多個分割吸引單元141，吸引液滴噴出頭17，從液滴噴 出頭17的噴出噴嘴78 (參照圖3 (a))強制地排出功能液。擦拭單元16 具有將進行了洗凈液噴霧的擦拭薄片151，擦去吸引后的液滴噴出頭17 的噴嘴形成面76a (參照圖3 (a)(進行擦拭)。這樣，吸引單元15和 擦拭單元16實施用于實現(xiàn)噴出單元2的液滴噴出頭17的功能維持或功能 恢復(fù)的維護作業(yè)。
X軸臺11具有X軸第一滑塊22、 X軸第二滑塊23、左右一對的X 軸線性電動機26、 26、 一對X軸公共支撐底座24、 24。
在X軸第一滑塊22安裝有工件安放臺21。 X軸第一滑塊22于在X 軸方向延伸的X軸公共支撐底座24上，在X軸方向可自由滑動地被支撐。 在X軸第二滑塊23安裝檢查描畫單元161、重量測定單元19、沖洗單元 14。 X軸第二滑塊23于在X軸方向延伸的X軸公共支撐底座24上，在X 軸方向可自由滑動地被支撐。將X軸線性電動機26并設(shè)在X軸公共支撐 底座24上，沿著X軸公共支撐底座24使X軸第一滑塊22或X軸第二滑 塊23移動，從而使工件安放臺21 (安裝在工件安放臺21上的工件W) 或重量測定單元19等在X軸方向移動。X軸第一滑塊22和X軸第二滑 塊23能由X軸線性電動機26個別驅(qū)動。X軸方向相當于主掃描方向，Y
軸方向相當于副掃描方向。 -
工件安放臺21具有吸附設(shè)置工件W的吸附臺31;支撐吸附臺31，
用于將在吸附臺31上設(shè)置的工件w的位置在e軸方向進行e修正的e臺32。 6臺32具有8驅(qū)動電動機532，由該e驅(qū)動電動機532驅(qū)動。吸附臺 31通過e臺32，圍繞通過圖1中作為雙點劃線的交點表示的e臺32的轉(zhuǎn) 動中心32a的Z軸方向的軸(e方向)轉(zhuǎn)動。e臺32相當于轉(zhuǎn)動裝置， 轉(zhuǎn)動中心32a相當于轉(zhuǎn)動中心。
圖l和圖2中的工件安放臺21的位置成為用于進行工件W的供給取 出的供給取出位置，將未處理的工件W向吸附臺31導(dǎo)入(供給)時，或 回收(取出)處理完畢的工件W時，使吸附臺31移動到該位置。在該供 給取出位置，用機械手(省略圖示)，進行工件W對吸附臺31的搬入和 搬出(更換)。使用e臺32，在供給取出位置實施對吸附臺31供給的未 處理的工件W的對齊。
圖像識別單元80具有2臺對齊相機81、相機移動機構(gòu)82。相機移動 機構(gòu)82在X軸支撐底座1A之上，在Y軸方向延伸，跨X軸臺11地配 設(shè)。對齊相機81通過相機支架(省略圖示)，在相機移動機構(gòu)82上，在 Y軸方向可自由滑動地被支撐。在相機移動機構(gòu)82上支撐的對齊相機81 從上側(cè)面對X軸臺11，能對在X軸臺11上的工件安放臺21上安放的工 件W的各基準標記(對齊標記)(參照圖7)進行圖像識別。2臺對齊相 機81通過相機移動電動機(省略圖示)，分別獨立在Y軸方向移動。
各對齊相機81與工件安放臺21的向X軸方向的移動聯(lián)動， 一邊用相 機移動機構(gòu)82在Y軸方向移動， 一邊拍攝所述機械手供給的各種工件W 的對齊標記，實施各種工件W的圖像識別。然后，根據(jù)對齊相機81的拍 攝結(jié)果，實施基于e臺32的工件W的e修正(對齊)。
Y軸臺12具有一對Y軸滑塊(省略圖示)、 一對Y軸線性電動機(省 略圖示)。 一對Y軸線性電動機分別設(shè)置在所述的一對Y軸支撐底座7、 7上，在Y軸方向延伸。 一對Y軸滑塊分別在一對Y軸支撐底座7、 7上， 各一個，可自由滑動地被支撐。 一對在Y軸支撐底座7、 7的每一個分別 支撐的各1個Y軸滑塊構(gòu)成的1組Y軸滑塊跨裝支撐固定構(gòu)成噴出單元2 的滑架單元51的橋板52。固定構(gòu)成噴出單元2的滑架單元51的橋板52 通過跨裝支撐橋板52的一對Y軸滑塊，設(shè)置在一對Y軸支撐底座7、 7 上。
如果(同步)驅(qū)動一對Y軸線性電動機，各Y軸滑塊將一對Y軸支撐底座7、 7作為引導(dǎo)，同時在Y軸方向平行移動。據(jù)此，橋板52在Y 軸方向移動，吊設(shè)在橋板52上的滑架單元51在Y軸方向移動。
滑架單元51具有包含12個液滴噴出頭17、將12個液滴噴出頭17 每6個劃分為2群來支撐的滑架板53 (參照圖3 (b))的頭單元54 (參 照圖3 (b))。頭單元54通過頭升降機構(gòu)(省略圖示)在Z軸方向可自 由升降地被支撐。
<液滴噴出頭和頭單元>
下面，參照圖3，說明液滴噴出頭17和頭單元54。圖3是表示液滴 噴出頭和頭單元的概要的圖。圖3 (a)是表示液滴噴出頭的概要的外觀立 體圖。(b)是表示頭單元的概略結(jié)構(gòu)的平面圖。
<液滴噴出頭的結(jié)構(gòu)>
如圖3 (a)所示，液滴噴出頭17是所謂的雙排式的，包含具有雙排 式的連接針71、 72的液體導(dǎo)入部71、與液體導(dǎo)入部71相連的方形的頭主 體74、從液體導(dǎo)入部71和頭主體74之間向側(cè)方突出的頭基板73。
頭主體74具有與液體導(dǎo)入部71相連的泵部75、與泵部75相連的噴 嘴形成板76。在噴嘴形成板76形成有在噴嘴形成面76a開口的噴出噴嘴 78。在液滴噴出頭17形成2列的每1列由181個噴出噴嘴78構(gòu)成的噴嘴 列78b。在泵部75設(shè)置壓電元件(省略圖示)，通過驅(qū)動該壓電元件，將 從液體導(dǎo)入部71供給過來的功能液從噴出噴嘴78噴出。與1個噴嘴78 對應(yīng)，設(shè)置l個壓電元件，在各噴出噴嘴78能獨立噴出功能液。
在頭基板73設(shè)置一對連接器77、 77。該連接器77通過柔性扁平電纜 (FFC電纜)等與和噴出裝置控制部6連接的中繼基板連接，從而液滴噴 出頭17與噴出裝置控制部6連接。
在液滴噴出頭17安裝在液滴噴出裝置1上的狀態(tài)下，噴嘴列78b在Y 軸方向延伸。分別構(gòu)成2列的噴嘴列78b的噴出噴嘴78彼此間在Y軸方 向，位置相互分別錯開半噴嘴間隔。1噴嘴間隔例如是140 ii m。在X軸 方向的相同的位置，從構(gòu)成各噴嘴列78b的噴出噴嘴78噴出的液滴在設(shè) 計上，命中在Y軸方向以等間隔排列的一條直線上。噴出噴嘴78的噴嘴 間隔為140 u m時，從2列的噴嘴列78b的液滴噴出頭17噴出的液滴的Y 軸方向的命中位置的中心之間距離在設(shè)計上是70^m。
26<頭單元>
下面，參照圖3 (b)，說明噴出單元2的頭單元54的概略結(jié)構(gòu)。圖 3(b)所示的X軸和Y軸在頭單元54安裝在液滴噴出裝置1上的狀態(tài)下， 與圖1所示的X軸和Y軸一致。
如圖3 (b)所示，頭單元54具有滑架板53、在滑架板53上搭載的 12個液滴噴出頭17。液滴噴出頭17固定在滑架板53上，頭主體74與形 成在滑架板53上的孔(省略圖示)浮動配合，噴嘴形成板76 (頭主體74) 從滑架板53的面突出。圖3 (b)是從噴嘴形成板76 (噴嘴形成76a) — 側(cè)觀察的圖。12個液滴噴出頭17在Y軸方向分開，形成2群分別具有6 個液滴噴出頭17的頭組55。各液滴噴出頭17的噴嘴列78b在Y軸方向 延伸。
一個頭組55具有的6個液滴噴出頭17定位為在Y軸方向，對于彼此 相鄰的液滴噴出頭17的一方的液滴噴出頭17的端部的噴出噴嘴78，另一 方的液滴噴出頭17的端部的噴出噴嘴78錯開半噴嘴間隔。在頭組55具 有的6個液滴噴出頭17中，如果全部噴出噴嘴78的X軸方向的位置相同， 則噴出噴嘴78在Y軸方向以半噴嘴間隔的等間隔排列。即在X軸方向的 相同位置，從構(gòu)成各液滴噴出頭17具有的各噴嘴列78b的噴出噴嘴78噴 出的液滴在設(shè)計上，在Y軸方向以等間隔排列，命中在一直線上。液滴噴 出頭17在Y軸方向彼此重疊，所以在X軸方向，排列為臺階狀，構(gòu)成頭 組55。
<液滴噴出裝置的電結(jié)構(gòu)>
下面，參照圖4，說明用于驅(qū)動具有上述的結(jié)構(gòu)的液滴噴出裝置1的 電結(jié)構(gòu)。圖4是表示液滴噴出裝置的電結(jié)構(gòu)的電結(jié)構(gòu)框圖。通過圖4所示 的控制裝置65，進行數(shù)據(jù)的輸入、工作開始或停止等控制指令的輸入，控 制液滴噴出裝置1?？刂蒲b置65具有進行計算處理的主機66、用于輸入 輸出對液滴噴出裝置1輸入輸出的信息的輸入輸出裝置68，通過接口(I/F) 67與噴出裝置控制部6連接。輸入輸出裝置68是能輸入信息的鍵盤、通 過記錄媒體輸入輸出信息的外部輸入輸出裝置、保存通過外部輸入輸出裝 置輸入的信息的記錄部、監(jiān)視器裝置等。
液滴噴出裝置1的噴出裝置控制部6具有接口 (I/F)47、 CPU(CentralProcessing Unit) 44、 ROM (Read Only Memory) 45、 RAM (Random Access Memory) 46、硬盤48。此外，具有頭驅(qū)動器17d、驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動器40d、 供液驅(qū)動器60d、維護驅(qū)動器5d、檢查驅(qū)動器4d、檢測部接口 (I/F) 43。 它們通過數(shù)據(jù)總線49彼此電連接。
接口 47與控制裝置65進行數(shù)據(jù)的交換，CPU44根據(jù)來自控制裝置 65的指令，進行各種計算處理，輸出控制液滴噴出裝置1的各部的動作的 控制信號。RAM46按照來自CPU44的指令，暫時保存從控制裝置65取 得的控制命令或打印數(shù)據(jù)。ROM45存儲CPU44用于進行各種計算處理的 程序。硬盤48保存從控制裝置65取得的控制命令或打印數(shù)據(jù)，或者存儲 CPU44用于進行各種計算處理的程序。
在頭驅(qū)動器17d連接有構(gòu)成噴出單元2的頭單元54的液滴噴出頭17。 頭驅(qū)動器17d按照來自CPU44的控制信號，驅(qū)動液滴噴出頭17，使功能 液的液滴噴出。
在驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動器40d連接有Y軸臺12的頭移動電動機、X軸臺11 的X軸線性電動機26、 e臺32的9驅(qū)動電動機532、以及包含具有各種 驅(qū)動源的各種驅(qū)動機構(gòu)的驅(qū)動機構(gòu)41 。各種驅(qū)動機構(gòu)是所述相機移動機構(gòu) 164的相機移動電動機、用于移動對齊相機81的相機移動電動機、懸掛機 構(gòu)的轉(zhuǎn)動電動機、升降機構(gòu)的升降電動機等。驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動器40d按照來 自CPU44的控制信號，驅(qū)動所述電動機等，使液滴噴出頭17和工件W相 對移動，使工件W的任意的位置和液滴噴出頭17相對，與頭驅(qū)動器17d 聯(lián)動，使功能液的液滴命中工件W上的任意位置。
在維護驅(qū)動器5d連接有維護單元5的吸引單元15、擦拭單元16、沖 洗單元14。維護驅(qū)動器5d按照來自CPU44的控制信號，驅(qū)動吸引單元 15、擦拭單元16或沖洗單元14，實施液滴噴出頭17的維護作業(yè)。
在檢査驅(qū)動器4d連接有檢査單元4的噴出檢査單元18、重量測定單 元19。檢査驅(qū)動器4d按照來自CPU44的控制信號，驅(qū)動噴出檢查單元 18、或重量測定單元19，實施噴出重量或噴出的可否或命中位置精度等的 液滴噴出頭17的噴出狀態(tài)的檢查。
在供液驅(qū)動器60d連接有供液單元60。供液驅(qū)動器60d按照來自 CPU44的控制信號，驅(qū)動供液單元60，對液滴噴出頭17供給功能液。
28在檢測部接口 43連接有包含各種傳感器的檢測部42。由檢測部42 的各傳感器檢測的檢測信息通過檢測部接口 43傳遞給CPU44。 <功能液的噴出〉
下面，參照圖5，說明液滴噴出裝置1的噴出控制方法。圖5是表示 液滴噴出頭的電結(jié)構(gòu)和信號流的說明圖。
如上所述，液滴噴出裝置1具有輸出控制液滴噴出裝置1的各部的動 作的控制信號的CPU44、進行液滴噴出頭17的電的驅(qū)動控制的頭驅(qū)動器 17d。
如圖5所示，頭驅(qū)動器17d通過FFC電纜與各液滴噴出頭17電連接。 此外，液滴噴出頭17與按照各噴出噴嘴78 (參照圖3)設(shè)置的壓電元件 79對應(yīng)，具有移位寄存器(SL) 85、鎖存電路(LAT) 86、電平移位器 (LS) 87、開關(guān)(SW) 88。
液滴噴出裝置1的噴出控制按如下那樣進行。最初，CPU44將工件W 等描畫對象物的功能液的配置圖案數(shù)據(jù)化的點圖案數(shù)據(jù)傳送給頭驅(qū)動器 17d。然后，頭驅(qū)動器17d將點圖案數(shù)據(jù)解碼，生成各噴出噴嘴78的ON/OFF (噴出/非噴出)信息即噴嘴數(shù)據(jù)。將噴嘴數(shù)據(jù)串行信號(SI)化，與時鐘 信號同步(CK)，傳送到各移位寄存器85。
傳送到移位寄存器85的噴嘴數(shù)據(jù)在鎖存信號(LAT)對鎖存電路86 輸入的定時被鎖存，再由電平移位器87變換為開關(guān)88用的選通信號。即 在噴嘴數(shù)據(jù)為"ON"時，開關(guān)88打開，對壓電元件79供給驅(qū)動信號(COM)， 噴嘴數(shù)據(jù)為"OFF"時，關(guān)閉開關(guān)88，對壓電元件79不供給驅(qū)動信號 (COM)。而且，從與"ON"對應(yīng)的噴出噴嘴78，將功能液液滴化并噴 出，將噴出的功能液配置在工件W等描畫對象物之上。
<液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)>
下面，說明液晶顯示面板。液晶顯示面板200是液晶裝置的一個例子， 是具有濾色器一個例子即液晶顯示面板用的濾色器的液晶顯示面板。
最初，參照圖6說明液晶顯示面板200的結(jié)構(gòu)。圖6是表示液晶顯示 面板的結(jié)構(gòu)的分解立體圖。圖6所示的液晶顯示面板200是使用薄膜晶體 管(TFT (Thin Film Transistor)元件)作為驅(qū)動元件的有源矩陣方式的液 晶裝置，是使用省略圖示的背光的透過型的液晶裝置。如圖6所示，液晶顯示面板200具有包含TFT元件215的元件基板 210、具有對置電極207的對置基板220、在由密封材料(省略圖示)接合 的元件基板210和對置基板220的間隙填充的液晶230 (參照圖11 (k))。 在粘貼在一起的元件基板210和對置基板220，在彼此粘貼在一起的面相 反一側(cè)的面分別配設(shè)有偏振片231和偏振片232。
元件基板210在玻璃基板211的與對置基板220相對的面形成TFT元 件215、像素電極217、掃描線212和信號線214。掩埋這些元件或?qū)щ娦?膜之間地形成絕緣層216，在夾著絕緣層216的部分，彼此交叉的狀態(tài)下， 形成掃描線212和信號線214。掃描線212和信號線214通過在其間夾著 絕緣層的部分而相互絕緣。在由這些掃描線212和信號線214包圍的區(qū)域 內(nèi)形成像素電極217。像素電極217是方形狀的一部分的角部分在方形狀 缺少的形狀。在由像素電極217的缺口部和掃描線212和信號線214包圍 的部分嵌入、構(gòu)成具有源極、漏極、半導(dǎo)體部、柵極的TFT元件215。通 過在掃描線212和信號線214施加信號，將TFT元件215導(dǎo)通、斷開，實 施向像素電極217的通電控制。
在元件基板210的與液晶230接觸的面設(shè)置覆蓋形成所述掃描線212 或信號線214或像素電極217的區(qū)域全體的定向膜218。
對置基板220在玻璃基板201的與元件基板210相對的面形成濾色器 (以后，標記為"CF")層208。 CF層208具有隔離壁204、紅色濾色膜 205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜205B。在玻璃基板201上形成將隔 離壁204構(gòu)成格子狀的黑底202，黑底202之上形成隔板203。用由黑底 202和隔板203構(gòu)成的隔離壁204形成方形的濾色膜區(qū)域225。在濾色膜 區(qū)域225形成紅色濾色膜205R、綠色濾色膜205G或藍色濾色膜205B。 紅色濾色膜205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜205B在與上述的像素 電極217分別相對的位置和形狀形成。
在CF層208之上(元件基板210—側(cè))設(shè)置平坦化膜206。在平坦 化膜206之上設(shè)置由ITO等透明的導(dǎo)電性材料形成的對置電極207。通過 設(shè)置平坦化膜206，使形成對置電極207的面變?yōu)榇笾缕教沟拿?。對置?極207是覆蓋形成上述的像素電極217的區(qū)域全體的大小的連續(xù)的膜。對 置電極207通過省略圖示的導(dǎo)通部，與形成在元件基板210上的布線連接。在對置基板220的與液晶230接觸的面設(shè)置覆蓋像素電極217的全面 的定向膜228。將液晶230在元件基板210和對置基板220粘貼在一起的 狀態(tài)下，填充在由對置基板220的定向膜228、元件基板210的定向膜218、 將對置基板220和元件基板210粘貼在一起的密封材料所包圍的空間中。
另外，液晶顯示面板200為透過型的結(jié)構(gòu)，但是也能設(shè)置反射層或者 半透過反射層，是反射型的液晶裝置或者半透過反射型的液晶裝置。
<母對置基板〉
下面，參照圖7說明母對置基板201A。在被分割而在成為玻璃基板 2(H的母對置基板201A上形成上述的CF層208之后，將母對置基板201A 分割為個別的對置基板220 (玻璃基板201)，而形成對置基板220。圖7 (a)是示意地表示對置基板的平面構(gòu)造的平面圖，圖7 (b)是示意地表 示母對置基板的平面構(gòu)造的平面圖。另外，在本實施例中，也將在母對置 基板201A上形成CF層208等的基板、形成CF層208等的途中的狀態(tài)的 基板標記為母對置基板201A。
使用由厚度大致l.Omm的透明的石英玻璃構(gòu)成的玻璃基板201形成對 置基板220。如圖7 (a)所示，對置基板220在玻璃基板201周圍的僅有 的除了邊框區(qū)域以外的部分形成有CF層208。在方形的玻璃基板201的 表面將多個濾色膜區(qū)域225形成點圖案狀，在本實施例中形成點矩陣狀， 在該濾色膜區(qū)域225形成濾色膜205，從而形成CF層208。
如圖7(b)所示，在母對置基板201A形成對置基板220的CF層208， 并且在成為玻璃基板401的部分形成構(gòu)成對置基板420的CF層408。對 置基板420是與對置基板220實質(zhì)上相同的構(gòu)造，是構(gòu)成與液晶顯示面板 200相比，顯示部的面積更小的液晶顯示面板的對置基板。如果在母對置 基板201A上適宜配置玻璃基板201，就產(chǎn)生因為沒有能只形成玻璃基板 201的面積，所以無法充分利用的部分。因此，通過形成比玻璃基板201 更小的玻璃基板401的CF層408，將該部分作為玻璃基板401有效地利 用，沒有浪費地利用母對置基板201A。
將CF層208排列為一列的列標記為CF層列208A，將CF層408排 列為一列的列標記為CF層列408A。在母對置基板201A， CF層列408A 與CF層列208A相比，配置在母對置基板201A的中央一側(cè)。在母對置基板201A的與形成CF層208或CF層408的區(qū)域無關(guān)的位 置形成一對對齊標記281、 281。對齊標記281在為了執(zhí)行形成CF層208 的諸步驟，而將玻璃基板201安裝到制造裝置中時等，作為定位用的基準 標記使用。形成CF層208和CF層408的濾色膜205之前的狀態(tài)的母對 置基板201A相當于母基底材料或母基板。
另夕卜，在圖7中，為了容易理解圖，增大形成CF層208和CF層408 的區(qū)域的相互間的間隔，但是為了效率良好地使用母對置基板201A，優(yōu) 選的是盡可能減小該間隔。此外，通過發(fā)現(xiàn)高效地配置尺寸不同的玻璃基 板的配置方法，母對置基板201A本身的適當?shù)某叽缭O(shè)定變得明確，也能 改善從原材料取出母對置基板201A的效率。
<濾色器>
下面，參照圖8，說明在對置基板220上形成的CF層208以及CF層 208的濾色膜205(紅色濾色膜205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜205B) 的排列。圖8是表示3色濾色器的濾色膜的排列例的示意平面圖。
如圖8所示，用由沒有透光性的樹脂材料形成格子狀的圖案的隔離壁 204劃分，排列為點矩陣狀的多個例如方形的濾色膜區(qū)域225用色材掩埋， 由此形成濾色膜205。例如，在濾色膜區(qū)域225填充包含構(gòu)成濾色膜205 的色材的功能液，使該功能液的溶劑蒸發(fā)，使功能液干燥，形成掩埋濾色 膜區(qū)域225的膜狀的濾色膜205。
作為3色濾色器的紅色濾色膜205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜 205B的排列，例如知道條紋排列、馬賽克排列、三角排列等。條紋排列 如圖8 (a)所示，是矩陣的縱列全部為同色的紅色濾色膜205R、綠色濾 色膜205G、藍色濾色膜205B的排列。馬賽克排列如圖8 (b)所示，是 在橫向的各行將濾色膜205錯開一個的顏色的排列，在3色濾光器時，在 縱橫的直線上排列的任意3個濾色膜205成為3色的排列。三角排列如圖 8 (c)所示，濾色膜205的配置為完全不同，在3色濾光器時，是任意相 鄰的3個濾色膜205成為不同顏色的配色。
在圖8 (a) 、 (b)、或者(c)所示的3色濾光器中，濾色膜205分 別由R (紅色)、G (綠色)、B (藍色)中的任意1色的色材形成。用包 含相鄰形成各1個的紅色濾色膜205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜205B
32的濾色膜205的組形成構(gòu)成圖像的最小單位即像素的濾光器(以下標記為
"像素濾光器254")。使光有選擇地通過一個像素濾光器254內(nèi)的紅色 濾色膜205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜205B中的任意一個或它們 的組合，由此通過調(diào)整通過的光的光量，進行全彩色顯示。 <液晶顯示面板的形成>
下面，參照圖9、圖10和圖11，說明形成液晶顯示面板200的步驟。 圖9是表示形成液晶顯示面板的過程的流程圖。圖10是表示形成液晶顯 示面板的過程中的形成濾色膜的步驟等的剖視圖，圖11是表示形成液晶 顯示面板的過程中的形成定向膜的步驟等的剖視圖。將分別形成的元件基 板210和對置基板220粘貼在一起，形成液晶顯示面板200。
通過執(zhí)行圖9所示的步驟Sl 步驟S5，形成對置基板220。
在圖9的步驟Sl中，在玻璃基板201之上形成用于劃分形成濾色膜 區(qū)域225的隔離壁部。將黑底202形成為格子狀，在其上形成隔板(bank) 203，將由黑底202和隔板203構(gòu)成的隔離壁204配置為格子狀，形成隔 離壁部。據(jù)此，如圖10 (a)所示，在玻璃基板201的表面形成由隔離壁 204劃分的方形的濾色膜區(qū)域225 。
接著，在圖9的步驟S2中，在濾色膜區(qū)域225分別填充構(gòu)成紅色濾 色膜205R、綠色濾色膜205G或者藍色濾色膜205B的材料，形成紅色濾 色膜205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜205B，形成CF層208。
更具體而言，如圖10 (b)所示，使紅色噴出頭17R與形成由隔離壁 204劃分的濾色膜區(qū)域225的玻璃基板201的表面相對。從該紅色噴出頭 17R具有的噴出噴嘴78向應(yīng)該形成紅色濾色膜205R的濾色膜區(qū)域225R 噴出紅色功能液252R，在濾色膜區(qū)域225R配置紅色功能液252R。同時， 對于玻璃基板201，使紅色噴出頭17R如箭頭a所示那樣相對移動由此， 在玻璃基板201上形成的全部濾色膜區(qū)域225R配置紅色功能液252R。通 過使配置的紅色功能液252R干燥，如圖10(c)所示，在濾色膜區(qū)域225R 形成紅色濾色膜205R。
同樣，在如10 (b)所示的應(yīng)該形成綠色濾色膜205G或藍色濾色膜 205B的濾色膜區(qū)域225G或濾色膜區(qū)域225B，如圖10 (c)所示，配置綠 色功能液252G或藍色功能液252B，如圖10(c)所示，使綠色功能液252G和藍色功能液252B干燥，由此如圖10 (d)所示，在濾色膜區(qū)域225G和 濾色膜區(qū)域225B形成綠色濾色膜205G或藍色濾色膜205B。與紅色濾色 膜205R—起，形成由紅色濾色膜205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜 205B構(gòu)成的3色濾色器。
接著，在圖9的步驟S3中，形成平坦化層。如圖10(e)所示，在構(gòu) 成CF層208的紅色濾色膜205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜205B和 在隔離壁上上形成作為平坦化層的平坦化膜206。平坦化膜206在至少覆 蓋CF層208的全面的區(qū)域形成。通過設(shè)置平坦化膜206，使形成對置電 極207的面變?yōu)榇笾缕教沟拿妗?br> 接著，在圖9的步驟S4中，形成對置電極207。如圖IO (f)所示， 在覆蓋平坦化膜206上的至少形成CF層208的濾色膜205的區(qū)域的全面， 使用透明的導(dǎo)電材料，形成薄膜。該薄膜是上述的對置電極207。
接著，在圖9的步驟S5中，在對置電極207之上形成對置基板220 的定向膜228。在至少覆蓋CF層208的全面的區(qū)域形成定向膜228。
如圖11 (g)所示，使液滴噴出頭17與形成對置電極207的玻璃基板 201的表面相對，從液滴噴出頭17向玻璃基板201的表面噴出定向膜液 242。同時，使液滴噴出頭17對于玻璃基板201如箭頭a所示那樣相對移 動，由此在玻璃基板201的形成定向膜228的區(qū)域的全面配置定向膜液 242。通過使配置的定向膜液242干燥，如圖11 (h)所示，形成定向膜 228。實施步驟S5，形成對置基板220。
通過執(zhí)行圖9所示的步驟S6 步驟S8，形成元件基板210。
在圖9的步驟S6中，在玻璃基板211上形成導(dǎo)電層或絕緣層或半導(dǎo) 體層，由此形成TFT元件215等的元件、掃描線212、信號線214、絕緣 層216等。在元件基板210和對置基板220粘貼在一起的狀態(tài)下，在與隔 離壁204相對的位置，即像素的周邊的位置形成掃描線212和信號線214。 TFT元件215按照位于像素的端部的方式形成，在1個像素形成至少1個 TFT元件215。
接著，在步驟S7中，形成像素電極217。在元件基板210和對置基板 220粘貼在一起的狀態(tài)下，在與紅色濾色膜205R、綠色濾色膜205G或者 藍色濾色膜205B相對的位置形成像素電極217。像素電極217與TFT元件215的漏電極電連接。
接著，在步驟S8中，在像素電極217等之上形成元件基板210的定 向膜218。在至少覆蓋全部像素電極217的全面的區(qū)域形成定向膜218。
如圖ll (i)所示，使液滴噴出頭17與形成像素電極217的玻璃基板 211的表面相對，從液滴噴出頭17向玻璃基板211的表面噴出定向膜液 242。同時，對于玻璃基板211，使液滴噴出頭17如箭頭a所示那樣相對 移動，在玻璃基板211的形成定向膜218的區(qū)域的全面配置定向膜液242。 通過使配置的定向膜液242干燥，如圖11 (j)所示，形成定向膜218。實 施步驟S8，形成元件基板210。
接著，在圖9的步驟S9中，將形成的對置基板220和元件基板210 粘貼在一起，如圖11 (k)所示，在其間填充液晶230。進而，粘貼偏振 片231和偏振片232，組裝液晶顯示面板200。在由多個玻璃基板201或 玻璃基板211構(gòu)成的母基板形成多個對置基板220和元件基板210時，將 形成多個液晶顯示面板200的母基板分割為個別的液晶顯示面板200?；?者實施將母對置基板201A或母元件基板分割為對置基板220和元件基板 210的步驟之后，實施步驟S9。實施步驟S9，結(jié)束形成液晶顯示面板200 的步驟。
<命中對象區(qū)域>
接著，參照圖12，說明描畫對象的應(yīng)該配置功能液的區(qū)域即配置區(qū)域 的形狀、為了在配置區(qū)域配置功能液而應(yīng)該使液滴命中的區(qū)域即命中對象 區(qū)域的關(guān)系。
雖然將功能液的液滴按照命中描畫對象的給定位置的方式噴出，但是 對于給定的命中位置，有可能命中偏離了由于各種誤差要因而產(chǎn)生的誤差 的量位置。為了可靠地使液滴命中應(yīng)該配置功能液的區(qū)域即配置區(qū)域內(nèi)， 按照即使產(chǎn)生由于誤差要因而產(chǎn)生的誤差，也使液滴命中配置區(qū)域內(nèi)的方 式向考慮了誤差的范圍噴出功能液。將該考慮了誤差的范圍1f記為命中對 象區(qū)域。圖12是表示濾色膜區(qū)域的形狀和命中對象區(qū)域的關(guān)系的說明圖。
如上所述，在母對置基板201A形成對置基板220的CF層208，并且 在成為玻璃基板401的部分形成構(gòu)成對置基板420的CF層408。在圖12 (a)中，表示用于形成上述的CF層208的濾色膜205的濾色膜區(qū)域225
35的命中對象區(qū)域225E的大小。在圖12 (b)中，表示用于形成上述的CF 層408的濾色膜405 (405R、 405G、 405B)的濾色膜區(qū)域425的命中對象 區(qū)域425E的大小。由于CF層208的濾色膜205的數(shù)量和CF層408的濾 色膜405的數(shù)量基本上相同，所以比CF層208面積小的CF層408的濾 色膜區(qū)域425的大小比CF層208的濾色膜區(qū)域225更小。濾色膜區(qū)域425 的橫向尺寸425w以及縱向尺寸425h是濾色膜區(qū)域225的橫向尺寸225w 以及縱向尺寸225h的一半左右。
對于母對置基板201A，使噴出噴嘴78 —邊在圖12所示的箭頭a的 方向移動， 一邊噴出功能液，由此在濾色膜區(qū)域225和濾色膜區(qū)域425配 置功能液。箭頭a的方向是主掃描方向(X軸方向)，與箭頭a的方向正 交的方向是副掃描方向(Y軸方向)。
作為主掃描方向的命中位置的誤差的要因，列舉頭間隙的誤差或變動 引起的噴出的液滴的飛行時間的誤差、鎖存信號的上升間隔的誤差、鎖存 信號的開始時刻(位置)的偏移、濾色膜區(qū)域225 (濾色膜區(qū)域425)的 位置偏移(隔離壁204的位置偏移)等。
作為副掃描方向的誤差的要因，列舉噴出的功能液的飛行方向在副掃 描方向偏移的"彎曲"、噴出噴嘴78對于母對置基板201A的在副掃描方 向的對位的誤差、濾色膜區(qū)域225 (濾色膜區(qū)域425)的位置偏移(隔離 壁204的位置偏移)等。
由于這些誤差的要因是根據(jù)液滴噴出裝置1的精度，所以在濾色膜區(qū) 域225和濾色膜區(qū)域425變?yōu)橄嗤拇笮　Ｓ糜谖罩鲯呙璺较虻恼`差的 余裕寬度dx、副掃描方向的余裕寬度dy無論在濾色膜區(qū)域225還是濾色 膜區(qū)域425，如果考慮的誤差的要因相同，就有必要設(shè)定為相同的大小。
命中對象區(qū)域425E的橫向尺寸425x和縱向尺寸425y是對于濾色膜 區(qū)域425的橫向尺寸425w以及縱向尺寸425h，減去余裕寬度dx或余裕 寬度dy后的大小。命中對象區(qū)域225E的橫向尺寸225x以及縱向尺寸225y 是對于濾色膜區(qū)域225的橫向尺寸225w以及縱向尺寸225h，減去余裕寬 度dx或余裕寬度dy后的大小。橫向尺寸425w或縱向尺寸425h是橫向尺 寸225w或縱向尺寸225h的一半左右，而命中對象區(qū)域425E的橫向尺寸 425x或縱向尺寸425y是命中對象區(qū)域225E的橫向尺寸225x或縱向尺寸225y的1/3到1/4左右。如果命中對象區(qū)域與濾色膜區(qū)域相比，減小的比 例增大，就難以使僅能在濾色膜區(qū)域的全面填充的功能液命中命中對象區(qū) 域。
為了抑制命中對象區(qū)域425E的橫向尺寸425x或縱向尺寸425y減小， 有必要能夠減小余裕寬度dx、余裕寬度dy。在比濾色膜區(qū)域225大小更 小的濾色膜區(qū)域425中，通過減小余裕寬度dx、余裕寬度dy，為了抑制 命中對象區(qū)域與濾色膜區(qū)域相比，減小的比例增大，有必要減小命中位置 的偏移的允許誤差。即濾色膜區(qū)域的尺寸越小的濾色膜區(qū)域，需要高的命 中位置精度的可能性越高。
在上述的母對置基板201A的對齊結(jié)束之后，在6臺32發(fā)生轉(zhuǎn)動位置 的偏移時，對于液滴噴出裝置1母對置基板201A的姿態(tài)(圍繞Z軸方向 的角度)改變。因此，e臺32的轉(zhuǎn)動位置的偏移成為鎖存信號的開始時 刻(位置)的偏移、濾色膜區(qū)域225 (濾色膜區(qū)域425)的位置偏移(隔 離壁204的位置偏移)等的原因。由于8臺32的轉(zhuǎn)動位置的偏移而偏向 的母對置基板201A的各部分的位置偏移是離轉(zhuǎn)動中心32a的距離越遠， 越與距離成比例增大。
<功能液的配置〉
下面，參照圖13和圖14，說明噴出功能液，在母對置基板201A的 CF層208以及CF層408的濾色膜區(qū)域225和濾色膜區(qū)域425配置功能液 的步驟。將配置功能液之前的狀態(tài)的CF層208或CF層408標記為CF層 區(qū)域208a或CF層區(qū)域408a。圖13是表示配置功能液的步驟的流程圖。 圖14是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板的說 明圖。圖14所示的X軸方向、Y軸方向、Z軸方向、以及e方向與圖1
所示的x軸方向、Y軸方向、z軸方向、以及e方向一致。
在圖13的步驟S21中，對工件安放臺21供給母對置基板201A。更 具體而言，使工件安放臺21位于用于進行工件W的供給取出的供給取出 位置。在X軸臺11的定位精度的范圍內(nèi)嚴格地定位工件安放臺21的位置。 在該供給取出位置，例如用機械手(省略圖示)，在工件安放臺21的吸 附臺31上的給定位置，在給定方向安放母對置基板201A，在吸附臺31 吸附母對置基板201A。母對置基板201A的位置在機械手的定位精度的范圍中，對于液滴噴出裝置1定位。另外，這時的給定方向的母對置基板201A
是如圖14所示那樣，母對置基板201A的4邊在X軸方向或Y軸方向延 伸的狀態(tài)。
接著，在步驟S22中，用對齊相機81識別形成在母對置基板201A上 的對齊標記281。通過將母對置基板201A在給定方向大致安放在給定的 位置，對齊標記281也大致位于給定的位置。因此，如圖14所示，進入 位于給定的位置的對齊相機81的拍攝區(qū)域81a內(nèi)，用對齊相機81識別對 齊標記281。通過用對齊相機81識別對齊標記281，噴出裝置控制部6取 得對齊標記281的嚴密的位置。
另外，用對齊相機81無法識別對齊標記281時是母對置基板201A的 安放狀態(tài)顯著不適合時或者未供給母對置基板201A時等非正常狀態(tài)，希 望在離線進行修復(fù)作業(yè)。
接著，在步驟S23中，調(diào)整母對置基板201A的e方向的位置(姿態(tài))。 一對對齊標記281、 281在母對置基板201A的4邊在X軸方向或Y軸方 向延伸的給定方向的狀態(tài)下，形成在X軸方向的位置彼此一致的位置。通 過使由一對對齊相機81、 81分別識別的各對齊標記281的X軸方向的位 置一致，將母對置基板201A的e方向的位置(姿態(tài))調(diào)整為4邊的延伸 方向與X軸方向或Y軸方向一致的給定姿態(tài)。步驟S22和步驟S23是母 對置基板201A的對齊作業(yè)。
如上所述，由e臺32使吸附母對置基板201A的所吸附吸附臺31圍 繞與通過轉(zhuǎn)動中心32a的Z軸平行的軸轉(zhuǎn)動，實施母對置基板201A的9 方向的移動。
6調(diào)整結(jié)束的狀態(tài)的母對置基板201A的對齊標記281的位置作為母 對置基板201A的位置，由噴出裝置控制部6識別。根據(jù)對于對齊標記281 的相對位置的規(guī)格值和對齊標記281的位置，計算CF層區(qū)域208a或CF 層區(qū)域408a的濾色膜區(qū)域225或濾色膜區(qū)域425各自的位置。
接著，在步驟S24中，調(diào)整噴出單元2的液滴噴出頭17的副掃描方 向的位置。使液滴噴出頭17按照位于用于使功能液命中對齊結(jié)束的母對 置基板201A的濾色膜區(qū)域225和濾色膜區(qū)域425的適當?shù)奈恢玫姆绞皆?副掃描方向移動，定位。液滴噴出頭17按照各頭單元54，由Y軸臺12
38移動，在適當?shù)奈恢帽３帧?br> 接著，在步驟S25中，實施從液滴噴出頭17向濾色膜區(qū)域225或濾 色膜區(qū)域425的命中對象區(qū)域225E或命中對象區(qū)域425E噴出功能液的描 畫噴出。
具體而言，用X軸臺11使工件安放臺21在主掃描方向移動，從而以 恒定的速度使母對置基板201A在主掃描方向移動。在步驟S23中，6調(diào) 整結(jié)束的狀態(tài)的母對置基板201A的對齊標記281的位置作為母對置基板 201A的位置，由噴出裝置控制部6識別。能根據(jù)由噴出裝置控制部6識 別的該位置和該時刻之前的基于X軸臺11的移動量，確定某時刻的對齊 標記281的位置。從對齊標記281的位置確定濾色膜區(qū)域225和濾色膜區(qū) 域425的命中對象區(qū)域225E和命中對象區(qū)域425E的位置。
如參照圖5，說明液滴噴出裝置1的噴出控制方法那樣，從液滴噴出 頭17的噴出噴嘴78向由點圖案數(shù)據(jù)指定的位置噴出液滴，實施向命中對 象區(qū)域225E和命中對象區(qū)域425E的功能液的配置。作為與由點圖案數(shù)據(jù) 指定的位置對應(yīng)的實際使功能液命中的命中對象區(qū)域225E和命中對象區(qū) 域425E的位置，使用根據(jù)對齊標記281的位置而確定的位置。
接著，在步驟S26中，關(guān)于母對置基板201A的全面，判定是否實施 由點圖案數(shù)據(jù)指定的位置所對應(yīng)的描畫噴出。
在具有不實施描畫噴出的部分時(步驟S26中，NO)，回到步驟S24， 將液滴噴出頭17的位置調(diào)整到可以向不實施描畫噴出的部分能噴出功能 液的位置，重復(fù)步驟S25和步驟S26。
關(guān)于母對置基板201A的全面，實施了描畫噴出(步驟S26中，YES) 時，進入步驟S27。
在步驟S26之后，在步驟S27中，從工件安放臺21取出實施了描畫 噴出的母對置基板201A。
實施步驟S27，接受在該母對置基板201A的CF層208和CF層408 的濾色膜區(qū)域225和濾色膜區(qū)域425配置功能液的步驟。
〈母對置基板的CF層的配置〉
接著，參照圖14，說明母對置基板201A的CF層208(CF層區(qū)域208a) 和CF層408 (CF層區(qū)域408a)的配置和轉(zhuǎn)動中心32a的位置關(guān)系。如上CF層208等的 基板或形成CF層208等的途中的狀態(tài)的基板標記為母對置基板201A。圖 14所示的X軸方向、Y軸方向、Z軸方向、以及6方向與圖1所示的X 軸方向、Y軸方向、z軸方向、以及e方向一致。
如圖14所示，在配置功能液之前的母對置基板201A安放在工件安放 臺21的大致給定位置的狀態(tài)下，轉(zhuǎn)動中心32a位于母對置基板201A的中 心附近。將CF層區(qū)域208a排列為一列的CF區(qū)域列208B、將CF層區(qū)域 408a排列為一列的CF區(qū)域列408B在主掃描方向延伸。CF區(qū)域列408B 與CF區(qū)域列208B相比，配置在母對置基板201A的中央一側(cè)。在圖14 所示的母對置基板201A安放在工件安放臺21的大致給定的位置的狀態(tài) 下，CF區(qū)域列408B與CF區(qū)域列208B相比，配置在更靠近轉(zhuǎn)動中心32a 的位置。
在上述的在濾色膜區(qū)域225和濾色膜區(qū)域425配置功能液的步驟中， 根據(jù)由步驟S23取得的對齊標記281的位置，確定命中對象區(qū)域225E和 命中對象區(qū)域425E的位置。因此，如果母對置基板201A的e方向的位置 偏移，就在由噴出裝置控制部6識別的命中對象區(qū)域225E和命中對象區(qū) 域425E的位置和實際的位置上發(fā)生偏移。
因為母對置基板201A由吸附臺31吸附，固定，所以以6臺32的轉(zhuǎn) 動中心32a為中心，母對置基板201A轉(zhuǎn)動，從而產(chǎn)生母對置基板201A 的e方向的偏移。因此，越遠離轉(zhuǎn)動中心32a，母對置基板201A的6方 向的偏移引起的命中對象區(qū)域的位置偏移越大。如果考慮位置偏移和離轉(zhuǎn) 動中心32a的距離的方向，從轉(zhuǎn)動中心32a在副掃描方向越遠離，e方向 的偏移引起的主掃描方向的位置偏移越大，從轉(zhuǎn)動中心32a在主掃描方向 越遠離，e方向的偏移引起的副掃描方向的位置偏移越大。
如參照圖12說明的那樣，CF層408 (CF層區(qū)域408a)的濾色膜區(qū) 域425的大小比CF層208 (CF層區(qū)域208a)的濾色膜區(qū)域225的尺寸更 小。因此，產(chǎn)生相同尺寸的位置偏移時，發(fā)生從應(yīng)該配置功能液的濾色區(qū) 域偏離配置的問題的可能性是濾色膜區(qū)域425比濾色膜區(qū)域225更大。
在母對置基板201A中，CF區(qū)域列408B與CF區(qū)域列208B相比，在 更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位置配置，實施對齊后的e方向的位置偏移(角度偏移)發(fā)生時的命中對象區(qū)域425E的位置偏移比命中對象區(qū)域225E的位 置偏移更小。因此，在母對置基板201A中，配置為在位置偏移發(fā)生時發(fā) 生問題的可能性高的命中對象區(qū)域425E位置偏移量減小。
濾色膜區(qū)域225相當于第一膜形成分區(qū)、第一功能膜分區(qū)、或者第一 色要素區(qū)域，濾色膜區(qū)域425相當于第二膜形成分區(qū)、第二功能膜分區(qū)、 或者第二色要素區(qū)域。CF層區(qū)域208a相當于第一膜形成區(qū)域、第一功能 膜區(qū)域、或者第一濾色區(qū)域，CF層區(qū)域408a相當于第二膜形成區(qū)域、第 二功能膜區(qū)域、或者第二濾色區(qū)域。CF區(qū)域列208B相當于第一區(qū)域列或 第一濾色區(qū)域列，CF區(qū)域列408B相當于第二區(qū)域列或第二濾色區(qū)域列。
<母對置基板的CF層的其他配置例1〉
下面，說明母對置基板的CF層的其他配置例。最初，參照圖15，說 明母對置基板201B的CF層208 (CF層區(qū)域208a)和CF層408 (CF層 區(qū)域408a)的配置和轉(zhuǎn)動中心32a的位置關(guān)系。圖15是表示安放在工件 安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板的說明圖。圖15所示的X軸 方向、Y軸方向、Z軸方向、以及e方向與圖1所示的X軸方向、Y軸方 向、Z軸方向、以及S方向一致。另外，與上述的母對置基板201A同樣， 也將在母對置基板201B之上形成CF層208等的基板或形成CF層208等 的途中的狀態(tài)的基板標記為母對置基板201B。
如圖15所示，在母對置基板201B形成對置基板220的CF層208， 并且在成為玻璃基板401的部分形成構(gòu)成對置基板420的CF層408。如 上所述，具有CF層408的對置基板420采用與對置基板220實質(zhì)上相同 的構(gòu)造，是構(gòu)成與液晶顯示面板200相比，顯示部的面積更小的液晶顯示 面板的對置基板。
在母對置基板201B的與形成CF層208或CF層408的區(qū)域無關(guān)的位 置形成與母對置基板201A同樣的一對對齊標記281、 281。對齊標記281 在為了執(zhí)行形成CF層208的諸步驟，將母對置基板201B安裝到液滴噴 出裝置1等制造裝置中時，作為定位用的基準標記使用。
另夕卜，在圖15中，為了容易理解圖，增大形成CF層區(qū)域208a和CF 層區(qū)域408a的相互間的間隔，但是為了效率良好地使用母對置基板201B， 理想的是盡可能減小該間隔。在配置功能液之前的母對置基板201B安放在工件安放臺21的大致給
定位置的狀態(tài)下，轉(zhuǎn)動中心32a位于母對置基板201B的中央附近。將CF 層區(qū)域208a排列為一列的CF區(qū)域列208C、將CF層區(qū)域408a排列為一 列的CF區(qū)域列408C在副掃描方向延伸。CF區(qū)域列408C與CF區(qū)域列 208C相比，配置在母對置基板201B的中央一側(cè)。在圖15所示的母對置 基板201B安放在工件安放臺21的大致給定的位置的狀態(tài)下，CF區(qū)域列 408C與CF區(qū)域列208C相比，配置在更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位置。
與上述的母對置基板201A時同樣，越遠離轉(zhuǎn)動中心32a，母對置基 板201B的e方向的偏移引起的命中對象區(qū)域的位置偏移越大。
此外，CF層408 (CF層區(qū)域408a)的濾色膜區(qū)域425的尺寸比CF 層208 (CF層區(qū)域208a)的濾色膜區(qū)域225的尺寸更小。因此，產(chǎn)生相 同尺寸的位置偏移時，發(fā)生從應(yīng)該配置功能液的濾色區(qū)域偏離配置的問題 的可能性是濾色膜區(qū)域425比濾色膜區(qū)域225更大。
在母對置基板201B中，使CF區(qū)域列408C與CF區(qū)域列208C相比， 在更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位置配置，由此實施對齊后的e方向的位置偏移 (角度偏移)發(fā)生時的命中對象區(qū)域425E的位置偏移的一方比命中對象 區(qū)域225E的位置偏移更小。因此，在母對置基板201B中，配置為在位置 偏移發(fā)生時發(fā)生問題的可能性高的命中對象區(qū)域425 —方位置偏移量減 小。
母對置基板201B的CF層區(qū)域208a相當于第一膜形成區(qū)域、第一功 能膜區(qū)域、或者第一濾色區(qū)域，CF層區(qū)域408a相當于第二膜形成區(qū)域、 第二功能膜區(qū)域、或者第二濾色區(qū)域。CF區(qū)域列208C相當于第三區(qū)域列 或第三濾色區(qū)域列，CF區(qū)域列408C相當于第四區(qū)域列或第四濾色區(qū)域列。 形成CF層208和CF層408的濾色膜205之前的狀態(tài)的母對置基板201B 相當于母基底材料或者母基板。
<母對置基板的CF層的其他配置例2>
下面，參照圖16，說明母對置基板301A的CF層208(CF層區(qū)域208a) 和CF層308 (CF層區(qū)域308a)的配置和轉(zhuǎn)動中心32a的位置關(guān)系。圖16 是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板的說明圖。 配置功能液之前的狀態(tài)的CF層308與對于CF層208的CF層區(qū)域208a
42同樣，標記為CF層區(qū)域308a。另外，與上述的母對置基板201A同樣， 也將在母對置基板301A之上形成CF層208或CF層308等的基板或形成 CF層208或CF層308等的途中的狀態(tài)的基板標記為母對置基板301A。 如圖16所示，在母對置基板301A形成對置基板220的CF層208， 并且在成為玻璃基板301的部分形成構(gòu)成與對置基板220不同的對置基板 的CF層308。具有CF層308的對置基板采用與對置基板220實質(zhì)上相同 的構(gòu)造，是構(gòu)成與液晶顯示面板200相比，顯示部的面積更小的液晶顯示 面板的對置基板。
在母對置基板301A的與形成CF層208或CF層308的區(qū)域無關(guān)的位 置形成與母對置基板201A同樣的一對對齊標記281、 281。對齊標記281 在為了執(zhí)行形成CF層208的諸步驟，將母對置基板301A安裝到制造裝 置中時，作為定位用的基準標記使用。
另外，在圖16中，為了容易理解圖，增大CF層區(qū)域208a和CF層 區(qū)域308a的相互間的間隔，但是為了效率良好地使用母對置基板301A，
理想的是盡可能減小該間隔。
在配置功能液之前的母對置基板301A安放在工件安放臺21的大致給 定位置的狀態(tài)下，轉(zhuǎn)動中心32a位于母對置基板301A的中央附近。8個 地方的CF層區(qū)域308a配置在母對置基板301A的中央，CF層區(qū)域208a 包圍8個的CF層區(qū)域308a的周圍地配置在母對置基板301A的周邊側(cè)。 在母對置基板301A安放在圖16所示的工件安放臺21的大致給定的位置 的狀態(tài)下，CF層區(qū)域308a與CF層區(qū)域208a相比，配置在更靠近轉(zhuǎn)動中 心32a的位置。
在上述的濾色膜區(qū)域225和濾色膜區(qū)域425中配置功能液的步驟中， 根據(jù)由步驟S22取得的對齊標記281的位置，確定命中對象區(qū)域225E和 命中對象區(qū)域425E的位置。同樣，在濾色膜區(qū)域225以及CF層區(qū)域308a 的濾色膜區(qū)域325中配置功能液的步驟中，根據(jù)取得的對齊標記281的位 置，確定濾色膜區(qū)域225和濾色膜區(qū)域325的命中對象區(qū)域的位置。因此， 如果母對置基板301A的e方向的位置偏移，就在由噴出裝置控制部6識 別的濾色膜區(qū)域225和濾色膜區(qū)域325的命中對象區(qū)域的位置和實際的位 置上發(fā)生偏移。因為母對置基板301A由吸附臺31吸附，固定，所以以e
43臺32的轉(zhuǎn)動中心32a為中心，母對置基板301A轉(zhuǎn)動，從而產(chǎn)生母對置基 板301A的e方向的偏移。因此，越遠離轉(zhuǎn)動中心32a，母對置基板301A 的e方向的偏移引起的命中對象區(qū)域的位置偏移越大。
如上所述，CF層308 (CF層區(qū)域308a)的濾色膜區(qū)域325的大小比 CF層208 (CF層區(qū)域208a)的濾色膜區(qū)域225的尺寸更小。因此，產(chǎn)生 相同尺寸的位置偏移時，發(fā)生從應(yīng)該配置功能液的濾色區(qū)域偏離配置的問 題的可能性是濾色膜區(qū)域325比濾色膜區(qū)域225更大。
在母對置基板301A中，CF層區(qū)域308a與CF層區(qū)域208a相比，在 更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位置配置，由此實施對齊后的e方向的位置偏移(角 度偏移)發(fā)生時的濾色膜區(qū)域325的命中對象區(qū)域的位置偏移比濾色膜區(qū) 域225的命中對象區(qū)域的位置偏移更小。因此，在母對置基板301A中， 配置為在位置偏移發(fā)生時發(fā)生問題的可能性高的濾色膜區(qū)域325位置的一
方的偏移的量減小。
濾色膜區(qū)域225相當于第一膜形成分區(qū)、第一功能膜分區(qū)、或者第一 色要素區(qū)域，濾色膜區(qū)域325相當于第二膜形成分區(qū)、第二功能膜分區(qū)、 或者第二色要素區(qū)域。CF層區(qū)域208a相當于第一膜形成區(qū)域、第一功能 膜區(qū)域、或第一濾色區(qū)域，CF層區(qū)域308a相當于第二膜形成區(qū)域、第二 功能膜區(qū)域、第二濾色區(qū)域。形成CF層208和CF層308的濾色膜205 之前的狀態(tài)的母對置基板301A相當于母基底材料或母基板。
<母對置基板的CF層的其他配置例3>
下面，參照圖17，說明母對置基板201C的CF層208(CF層區(qū)域208a) 和CF層408 (CF層區(qū)域408a)的配置和轉(zhuǎn)動中心332a的位置關(guān)系。圖
17是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基板的說明 圖。圖17所示的X軸方向、Y軸方向、Z軸方向、以及e方向與圖l所
示的x軸方向、Y軸方向、z軸方向、以及e方向一致。另外，與上述的
母對置基板201A同樣，也將在母對置基板201C之上形成CF層208等的 基板或形成CF層208等的途中的狀態(tài)的基板標記為母對置基板201C。
如圖17所示，轉(zhuǎn)動中心332a是與工件安放臺21轉(zhuǎn)動裝置的結(jié)構(gòu)不 同的工件安放臺321具有的e臺332的轉(zhuǎn)動中心。9臺332位于吸附臺31 的主掃描方向的端部地構(gòu)成。S臺332相當于轉(zhuǎn)動裝置，轉(zhuǎn)動中心332a
44相當于轉(zhuǎn)動中心。
在母對置基板201C形成對置基板220的CF層208，并且在成為玻璃 基板401的部分形成構(gòu)成對置基板420的CF層408。如上所述，具有CF 層408的對置基板420采用與對置基板220實質(zhì)上相同的構(gòu)造，是構(gòu)成與 液晶顯示面板200相比，顯示部的面積更小的液晶顯示面板的對置基板。
在母對置基板201C的與形成CF層208或CF層408的區(qū)域無關(guān)的位 置形成與母對置基板201A同樣的一對對齊標記281、 281。對齊標記281 在為了執(zhí)行形成CF層208的諸步驟，將母對置基板201C安裝到液滴噴 出裝置l等制造裝置中時，作為定位用的基準標記使用。
另外，在圖17中，為了容易理解圖，增大CF層區(qū)域208a和CF層 區(qū)域408a的相互間的間隔，但是為了效率良好地使用母對置基板201C， 理想的是盡可能減小該間隔。
在配置功能液之前的母對置基板201C安放在工件安放臺321的大致 給定位置的狀態(tài)下，轉(zhuǎn)動中心332a位于母對置基板201C的主掃描方向的 形成一對對齊標記281、 281側(cè)的端部附近。將CF層區(qū)域208a排列為一 列的CF區(qū)域列208C、將CF層區(qū)域408a排列為一列的CF區(qū)域列408C 在副掃描方向延伸。CF區(qū)域列408C與CF區(qū)域列208C相比，配置在母 對置基板201C的主掃描方向的形成對齊標記281、 281的端部側(cè)。圖17 所示的母對置基板201C安放在工件安放臺321的大致給定的位置的狀態(tài) 下，CF區(qū)域列408C與CF區(qū)域列208C相比，配置在更靠近轉(zhuǎn)動中心332a 的位置。
與上述的母對置基板201A時同樣，越遠離轉(zhuǎn)動中心332a，母對置基 板201C的e方向的偏移引起的命中對象區(qū)域的位置偏移越大。
此外，CF層408 (CF層區(qū)域408a)的濾色膜區(qū)域425的大小比CF 層208 (CF層區(qū)域208a)的濾色膜區(qū)域225的尺寸更小。因此，產(chǎn)生相 同尺寸的位置偏移時，發(fā)生從應(yīng)該配置功能液的濾色區(qū)域偏離配置的問題 的可能性是濾色膜區(qū)域425比濾色膜區(qū)域225更大。
在母對置基板201C中，CF區(qū)域列408C與CF區(qū)域列208C相比，在 更靠近轉(zhuǎn)動中心332a的位置配置，由此實施對齊后的8方向的位置偏移 (角度偏移)發(fā)生時的命中對象區(qū)域425E的位置偏移比命中對象區(qū)域225E的位置偏移更小。因此，在母對置基板201C中，配置為在位置偏移 發(fā)生時發(fā)生問題的可能性高的濾色膜區(qū)域425位置偏移量減小。
母對置基板201C的CF層區(qū)域208a相當于第一膜形成區(qū)域、第一功 能膜區(qū)域、或者第一濾色區(qū)域，CF層區(qū)域408a相當于第二膜形成區(qū)域、 第二功能膜區(qū)域、或者第二濾色區(qū)域。CF區(qū)域列208C相當于第三區(qū)域列 或第三濾色區(qū)域列，CF區(qū)域列408C相當于第四區(qū)域列或第四濾色區(qū)域列。 形成CF層208和CF層408的濾色膜205之前的狀態(tài)的母對置基板201C 相當于母基底材料或者母基板。
<母對置基板的CF層的其他配置例4>
下面，參照圖18，說明母對置基板401A的CF層208(CF層區(qū)域208a) 和縱放配置的CF層208 (CF層區(qū)域208v)的配置和轉(zhuǎn)動中心32a的位置 關(guān)系。圖18是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基 板的說明圖。對于安放在工件安放臺21上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置 基板401A， CF層208的長邊方向在副掃描方向延伸的配置方法標記為縱 放配置。配置功能液之前的狀態(tài)的母對置基板401A的用于形成縱放排列 的CF層208的區(qū)域與對于CF層208的CF層區(qū)域208a同樣，標記為CF 層區(qū)域208v。另外，與上述的母對置基板201A同樣，將在母對置基板401A 之上形成CF層208的基板或形成CF層208的途中的狀態(tài)的基板標記為 母對置基板401A。
如圖18所示，在母對置基板401A形成配置方向不同的CF層208。 在母對置基板401A的與形成CF層208的區(qū)域無關(guān)的位置形成與母對置 基板201A同樣的-.對對齊標記281、 281。對齊標記281在為了執(zhí)行形成 CF層208的諸步驟，將母對置基板401A安裝到液滴噴出裝置1等制造裝 置中時，作為定位用的基準標記使用。
另外，在圖18中，為了容易理解圖，增大CF層區(qū)域208a和CF層 區(qū)域208v的相互間的間隔，但是為了效率良好地使用母對置基板401A，
理想的是盡可能減d 、該間隔。
在配置功能液之前的母對置基板401A安放在工件安放臺21的大致給 定位置的狀態(tài)下，轉(zhuǎn)動中心32a位于母對置基板401A的中央附近。將CF 層區(qū)域208a排列為一列的CF區(qū)域列208B、將CF層區(qū)域208v排列為一
46列的CF區(qū)域列208D在主掃描方向延伸。CF區(qū)域列208B與CF區(qū)域列 208D相比，配置在母對置基板401A的中央側(cè)。在圖18所示的母對置基 板401A安放在工件安放臺21的大致給定的位置的狀態(tài)下，CF區(qū)域列 208B與CF區(qū)域列208D相比，配置在更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位置。CF 層區(qū)域208a在副掃描方向，配置在與CF層區(qū)域208v相比，更靠近轉(zhuǎn)動 中心32a的位置。
如參照圖12說明的那樣，CF層區(qū)域208a的濾色膜區(qū)域225的形狀 是長方形。如圖18所示，在母對置基板401A放置在工件安放臺21的大 致給定位置的狀態(tài)下，CF層區(qū)域208a的濾色膜區(qū)域225配置為長邊在副 掃描方向延伸。CF層區(qū)域208v的濾色膜區(qū)域225v與濾色膜區(qū)域225實 質(zhì)上相同，但是配置為長邊在主掃描方向延伸。因此，在主掃描方向，發(fā) 生相同尺寸的位置偏移時，發(fā)生從應(yīng)該配置功能液的濾色區(qū)域偏離配置的 問題的可能性是濾色膜區(qū)域225比濾色膜區(qū)域225v更大。
與上述的母對置基板201A時同樣，越遠離轉(zhuǎn)動中心32a，母對置基 板401A的e方向的偏移引起的命中對象區(qū)域的位置偏移越大。如果考慮 位置偏移和離轉(zhuǎn)動中心32a的距離的方向，在副掃描方向，越遠離轉(zhuǎn)動中 心32a， e方向的偏移引起的主掃描方向的位置偏移越大，在主掃描方向， 越遠離轉(zhuǎn)動中心32a， 6方向的偏移引起的副掃描方向的位置偏移越大。
在母對置基板401A中，在主掃描方向延伸的CF區(qū)域列208B與CF 區(qū)域列208D相比，在更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位置配置，由此實施對齊后 的e方向的位置偏移(角度偏移)發(fā)生時的濾色膜區(qū)域225的主掃描方向 的位置偏移比濾色膜區(qū)域225v的主掃描方向的位置偏移更小。CF層區(qū)域 208a與CF層區(qū)域208v相比，在副掃描方向更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位置 配置，由此實施對齊之后的e方向的位置偏移(角度偏移)發(fā)生時的濾色 膜區(qū)域225的主掃描方向的位置偏移比濾色膜區(qū)域225v的主掃描方向的 位置偏移更小。因此，在母對置基板401A中，配置為主掃描方向的位置 偏移發(fā)生時發(fā)生問題的可能性高的濾色膜區(qū)域225與濾色膜區(qū)域225v相 比，主掃描方向的位置偏移量更小。
母對置基板401A的濾色膜區(qū)域225v相當于第一膜形成分區(qū)、第一功 能膜分區(qū)、或者第一色要素區(qū)域，濾色膜區(qū)域225相當于第二膜形成分區(qū)、第二功能膜分區(qū)、或者第二色要素區(qū)域。CF層區(qū)域208v相當于第一膜形 成區(qū)域、第一功能膜區(qū)域、第一濾色區(qū)域，CF層區(qū)域208a相當于第二膜 形成區(qū)域、第二功能膜區(qū)域、或第二濾色區(qū)域。CF區(qū)域列208D相當于第 一區(qū)域列或第一濾色區(qū)域列，CF區(qū)域列208B相當于第二區(qū)域列或第二濾 色區(qū)域列。形成CF層208的濾色膜205之前的狀態(tài)的母對置基板401A 相當于母基底材料或母基板。
<母對置基板的CF層的其他配置例5>
下面，參照圖19，說明母對置基板401B的CF層208(CF層區(qū)域208a) 和縱放配置的CF層208 (CF層區(qū)域208v)的配置和轉(zhuǎn)動中心32a的位置 關(guān)系。圖19是表示安放在工件安放臺上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置基 板的說明圖。對于安放在工件安放臺21上，進行e調(diào)整的狀態(tài)的母對置 基板401B， CF層208的長邊方向在副掃描方向延伸的配置方法與母對置 基板401A時同樣標記為縱放配置。配置功能液之前的狀態(tài)的母對置基板 401B的用于形成縱放排列的CF層208的區(qū)域與對于CF層208的CF層 區(qū)域208a同樣，標記為CF層區(qū)域208v。另外，與上述的母對置基板201A 同樣，將在母對置基板401B之上形成CF層208的基板或形成CF層208 的途中的狀態(tài)的基板標記為母對置基板401B。
如圖19所示，在母對置基板401B形成配置方向不同的CF層208。 在母對置基板401B的與形成CF層208的區(qū)域無關(guān)的位置形成與母對置 基板201A同樣的一對對齊標記281、 281。對齊標記281在為了執(zhí)行形成 CF層208的諸步驟，將母對置基板401B安裝到液滴噴出裝置1等制造裝 置中時，作為定位用的基準標記使用D
另外，在圖19中，為了容易理解圖，增大CF層區(qū)域208a和CF層 區(qū)域208v的相互間的間隔，但是為了效率良好地使用母對置基板401B， 理想的是盡可能減小該間隔。
在配置功能液之前的母對置基板401B安放在工件安放臺21的大致給 定位置的狀態(tài)下，轉(zhuǎn)動中心32a位于母對置基板401B的中央附近。將CF 層區(qū)域208a排列為一列的CF區(qū)域列208C、將CF層區(qū)域208v排列為一 列的CF區(qū)域列208E在副掃描方向延伸。CF區(qū)域列208E與CF區(qū)域列 208C相比，配置在母對置基板401B的中央側(cè)。在圖19所示的母對置基板401B安放在工件安放臺21的大致給定的位置的狀態(tài)下，CF區(qū)域列208E 與CF區(qū)域列208C相比，配置在更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位置。CF層區(qū)域 208v在主掃描方向，配置在與CF層區(qū)域208a相比，更靠近轉(zhuǎn)動中心32a 的位置。
如參照圖12說明的那樣，CF層區(qū)域208a的濾色膜區(qū)域225的形狀 是長方形。如圖19所示，在母對置基板401B放置在工件安放臺21的大 致給定位置的狀態(tài)下，CF層區(qū)域208a的濾色膜區(qū)域225配置為長邊在副 掃描方向延伸。CF層區(qū)域208v的濾色膜區(qū)域225v與濾色膜區(qū)域225實 質(zhì)上相同，但是配置為長邊在主掃描方向延伸。因此，在副掃描方向，濾 色膜區(qū)域225比濾色膜區(qū)域225v更長。在副掃描方向，發(fā)生相同尺寸的 位置偏移時，發(fā)生從應(yīng)該配置功能液的濾色區(qū)域偏離配置的問題的可能性 是濾色膜區(qū)域225v比濾色膜區(qū)域225更大。
與上述的母對置基板201A時同樣，越遠離轉(zhuǎn)動中心32a，母對置基 板401B的e方向的偏移引起的命中對象區(qū)域的位置偏移越大。如果考慮 位置偏移和離轉(zhuǎn)動中心32a的距離的方向，在副掃描方向，越遠離轉(zhuǎn)動中 心32a， e方向的偏移引起的主掃描方的位置偏移越大，在主掃描方向， 越遠離轉(zhuǎn)動中心32a， e方向的偏移引起的副掃描方向的位置偏移越大。
在母對置基板401B中，在副掃描方向延伸的CF區(qū)域列208E與CF 區(qū)域列208C相比，在更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位置配置，由此實施對齊后 的e方向的位置偏移(角度偏移)發(fā)生時的濾色膜區(qū)域225v的副掃描方 向的位置偏移比濾色膜區(qū)域225的副掃描方向的位置偏移更小。CF層區(qū) 域208v與CF層區(qū)域208a相比，在主掃描方向更靠近轉(zhuǎn)動中心32a的位 置配置，實施對齊之后的e方向的位置偏移(角度偏移)發(fā)生時的濾色膜 區(qū)域225v的副掃描方向的位置偏移比濾色膜區(qū)域225的副掃描方向的位 置偏移更小。因此，在母對置基板401B中，配置為副掃描方向的位置偏 移發(fā)生時發(fā)生問題的可能性高的濾色膜區(qū)域225v與濾色膜區(qū)域225相比，
副掃描方向的位置偏移量更小。
母對置基板401B的濾色膜區(qū)域225相當于第一膜形成分區(qū)、第一功 能膜分區(qū)、或者第一色要素區(qū)域，濾色膜區(qū)域225v相當于第二膜形成分 區(qū)、第二功能膜分區(qū)、或者第二色要素區(qū)域。CF層區(qū)域208a相當于第一第一濾色區(qū)域，CF層區(qū)域208v相當于第 二膜形成區(qū)域、第二功能膜區(qū)域、第二濾色區(qū)域。CF區(qū)域列208C相當于 第三區(qū)域列或第三濾色區(qū)域列，CF區(qū)域列208E相當于第四區(qū)域列或第四 濾色區(qū)域列。形成CF層208的濾色膜205之前的狀態(tài)的母對置基板401B 相當于母基底材料或母基板。以下，記載實施例的效果。根據(jù)本實施例，取得以下的結(jié)果。(1) 在母對置基板201A中，將CF層區(qū)域208a排列為1列的CF區(qū)域列208B、 將CF層區(qū)域408a排列為1列的CF區(qū)域列408B在主掃描方向延伸。由 于相同的CF層區(qū)域208a或CF層區(qū)域408a在主掃描方向上相連，所以在 一次的主掃描方向的相對移動之間，以一定的驅(qū)動條件驅(qū)動各液滴噴出頭 17，從而能實施功能液的配置。(2)在母對置基板201B安放在工件安放臺21的大致給定位置的狀 態(tài)下，將CF層區(qū)域208a排列為1列的CF區(qū)域列208C、將CF層區(qū)域408a 排列為1列的CF區(qū)域列408C在副掃描方向延伸。相同的CF層區(qū)域208a 或CF層區(qū)域408a在副掃描方向相連，所以能用同一驅(qū)動條件驅(qū)動在副掃 描方向排列的多個液滴噴出頭17，實施功能液的配置。驅(qū)動條件均一，主 掃描方向的相對移動的速度也在副掃描方向上排列的多個液滴噴出頭17 中是公共的，所以能抑制由于與相對移動的速度慢的液滴噴出頭17—致， 作業(yè)時間增加。以上，參照

適合的實施例，但是適合的實施例并不局限于所 述實施例。當然實施例在不脫離宗旨的范圍內(nèi)能進行各種變更，能如以下 那樣實施。(變形例1)在所述實施例中，8臺32配設(shè)在轉(zhuǎn)動中心32a位于吸附 臺31的大致中心的位置，e臺332配設(shè)在轉(zhuǎn)動中心32a位于吸附臺31的 主掃描方向的端部的位置。轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心不一定是這些位置。如果 能調(diào)整安放的基板等的e方向的位置，轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位置就可以是任意的位置。另外，為了效率良好地實施對齊作業(yè)，為了進行e方向的調(diào)整，使安放的基板等轉(zhuǎn)動時，形成在基板等上的對齊標記281那樣的基 準點的移動量減少的位置是理想的。如一對對齊標記281、 281那樣具有 一對基準點時， 一對基準點的移動量減小，或者一對基準點的各基準點的50移動量變?yōu)榇笾戮鹊奈恢檬抢硐氲摹?變形例2)在所述實施例中，CF層208、 CF層408和CF層308彼 此大小不同，但是具有相同的結(jié)構(gòu)，在同一母基板上構(gòu)成的CF層并不一 定具有彼此相同的結(jié)構(gòu)。如果配置的功能液是公共的，就可以是任意的結(jié) 構(gòu)。(變形例3)在所述實施例中，液晶顯示面板200具有的CF層208 是具有紅色濾色膜205R、綠色濾色膜205G、藍色濾色膜205B的3色濾 色膜的3色濾色器，但是濾色器可以是具有更多種類的濾色膜的多色濾色 器。作為多色的濾色器，列舉例如除了紅色、綠色、藍色以外，還具有紅 色、綠色、藍色的互補色的青色(藍綠)、品紅(紫紅)、黃色的有機 EL元件的6色濾色器；將青色(藍綠)、品紅(紫紅)、黃色的3色加 上綠色的4色濾色器。(變形例4)在所述實施例中，說明形成液晶顯示面板200的濾色膜 205時的描畫噴出，但是形成的膜并不局限于濾色膜。形成的膜也可以是 液晶顯示裝置的像素電極膜或定向膜或?qū)χ秒姌O膜、用于保護濾色器而設(shè) 置的保護膜等。具有形成的膜的裝置或者在形成過程中有必要形成膜的裝置并不局 限于液晶顯示裝置。如果是具有上述的膜的裝置或在形成過程中有必要形 成所述的膜的裝置，就可以是任意的裝置。例如，也能在有機EL顯示裝 置中應(yīng)用。制造有機EL顯示裝置時，使用上述的液滴噴出裝置形成的功 能膜可以是有機EL顯示裝置的正極電極膜或陰極電極膜、用光刻等形成 圖案的膜、光刻等的光致抗蝕劑膜等。(變形例5)在所述實施例中，作為通過使用液滴噴出裝置1配置功 能液，實施描畫的描畫對象物的一個例子，說明具有濾色器的液晶顯示面 板200，但是描畫對象物并不局限于濾色器。上述的母基底材料、膜形成 區(qū)域的配設(shè)方法、濾色器的制造方法能作為與在制造時配置各種液狀體并 且實施加工的加工對象物有關(guān)的母基底材料、配置液狀體的膜形成區(qū)域的 配設(shè)方法、制造方法、加工方法利用。例如，能作為電路基板的母電路基 板、噴出液狀的導(dǎo)電材料的布線導(dǎo)電圖案的加工方法、具有絕緣膜的電路 基板的母電路基板、噴出液狀的絕緣材料的絕緣膜圖案的加工方法、半導(dǎo)體晶片、噴出液狀的導(dǎo)電材料的半導(dǎo)體裝置的布線導(dǎo)電膜的加工方法、半 導(dǎo)體晶片、噴出液狀的絕緣材料的半導(dǎo)體裝置的絕緣層的加工方法等使 用。(變形例6)在所述實施例中，作為膜形成分區(qū)、功能膜分區(qū)或者色要素區(qū)域的濾色膜區(qū)域225等是長方形，但是膜形成分區(qū)、功能膜分區(qū)或者色要素區(qū)域沒必要一定是長方形。近年，為了提高顯示特性，也考慮像素的形狀與長方形不同的顯示裝置。膜形成分區(qū)、功能膜分區(qū)或者色要素區(qū)域的形狀可以是能形成形狀與長方形不同的像素等的形狀。(變形例7)在所述實施例中，在一個膜形成區(qū)域、功能膜區(qū)域或者濾色區(qū)域膜，作為膜形成分區(qū)、功能膜分區(qū)或者色要素區(qū)域的濾色膜區(qū)域225等是相同的大小和形狀。可是，在一個膜形成區(qū)域、功能膜區(qū)域或者 濾色區(qū)域膜，膜形成分區(qū)、功能膜分區(qū)或者色要素區(qū)域沒必要必須是單一 的尺寸和形狀。例如，也可以是按照光源的特性，4色濾色器中構(gòu)成顯示 的最小單位的色要素的各色的大小不同的具有不同大小的膜形成分區(qū)、功 能膜分區(qū)或者具有色要素區(qū)域的膜形成區(qū)域、功能膜區(qū)域或者濾色區(qū)域 膜。(變形例8)在所述實施例中，作為母基底材料或者母基板的母對置 基板201A等母對置基板如濾色膜區(qū)域225或濾色膜區(qū)域425那樣，分別 具有不同的濾色膜區(qū)域的CF層區(qū)域208a和CF層區(qū)域408a那樣，分別具 有2種膜形成區(qū)域。可是，母基底材料或者母基板具有的膜形成區(qū)域不必 須是2種。母基底材料或者母基板也可以是具有3種以上膜形成分區(qū)、功能膜分區(qū)或者色要素區(qū)域不同的膜形成區(qū)域的結(jié)構(gòu)。(變形例9)在所述實施例中，液滴噴出裝置1使安放母對置基板201A等的工件安放臺21在主掃描方向移動，并且從液滴噴出頭17噴出功能液， 從而在CF層區(qū)域208a或CF層區(qū)域408a配置功能液。此外，使頭單元 54在副掃描方向移動，進行對于母對置基板201A等的液滴噴出頭17 (噴 出噴嘴78)的對位?？墒?，沒必要一定使母基底材料或者母基板移動，實 施作為配置頭的液滴噴出頭和母基底材料或者母基板的主掃描方向的相 對移動，也沒必要一定使配置頭移動，實施副掃描方向的相對移動。也可以使配置頭在主掃描方向移動，實施配置頭和母基底材料或者母基板的主掃描方向的相對移動。也可以使母基底材料或者母基板在副掃描 方向移動，實施配置頭和母基底材料或者母基板的副掃描方向的相對移 動。或者，使配置頭和母基底材料或者母基板中的任意一方在主掃描方向 和副掃描方向移動，實施配置頭和母基底材料或者母基板的主掃描方向和 副掃描方向的相對移動，也可以使配置頭和母基底材料或者母基板的雙方 在主掃描方向和副掃描方向移動，實施配置頭和母基底材料或者母基板的 主掃描方向和副掃描方向的相對移動。(變形例IO)在所述實施例中，作為在母對置基板201A等配置功能 液的配置裝置，以具有噴墨方式的液滴噴出頭17的液滴噴出裝置1為例 進行說明，但是配置裝置并不一定是液滴噴出裝置。作為配置裝置，例如 能使用具有分配器的噴出裝置。有必要在大面積的膜形成分區(qū)配置大量的 膜材料時，使用與液滴噴出頭相比，單位時間的噴出量更多的分配器的做 法是有用的。
權(quán)利要求
1.一種母基底材料，具有多個包含1個以上的膜形成分區(qū)的膜形成區(qū)域，包括具有第一膜形成分區(qū)的第一膜形成區(qū)域；具有膜形成面積比第一膜形成分區(qū)更小的第二膜形成分區(qū)的第二膜形成區(qū)域；在所述母基底材料被設(shè)置在配置膜材料時使用的配置裝置中的狀態(tài)下，在比所述第一膜形成區(qū)域更靠近在所述配置裝置中具有的轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第二膜形成區(qū)域。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的母基底材料，其特征在于 所述配置裝置具有配置所述膜材料的配置頭、使所述配置頭和所述母基底材料在主掃描方向相對移動的相對移動裝置；所述第一膜形成分區(qū)在所述主掃描方向的寬度是第一寬度，所述第二膜形成分區(qū)在所述主掃描方向的寬度是比所述第一寬度更小的第二寬度；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在與所述主掃 描方向大致正交的副掃描方向，所述第二膜形成區(qū)域配設(shè)在比所述第一膜 形成區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的母基底材料，其特征在于 所述配置裝置具有配置所述膜材料的配置頭、使所述配置頭和所述母基底材料在主掃描方向相對移動的相對移動裝置；所述第一膜形成分區(qū)在與所述主掃描方向大致正交的副掃描方向的 寬度是第三寬度，所述第二膜形成分區(qū)在所述副掃描方向的寬度是比所述 第三寬度更小的第四寬度；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描 方向，所述第二膜形成區(qū)域配設(shè)在比所述第一膜形成區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動 中心的位置。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1 3中的任意一項所述的母基底材料，其特征在于 所述第二膜形成區(qū)域配設(shè)在比所述第一膜形成區(qū)域更靠近所述母基底材料的中央的位置。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的母基底材料，其特征在于 所述母基底材料具有在所述主掃描方向排列多個所述第一膜形成區(qū)域的第一區(qū)域列、在所述主掃描方向排列多個所述第二膜形成區(qū)域的第二 區(qū)域列；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，所述第二區(qū)域 列在所述副掃描方向配設(shè)在比所述第一區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的母基底材料，其特征在于所述第二區(qū)域列配設(shè)在比所述第一區(qū)域列更靠近所述母基底材料的 中央的位置。
7. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的母基底材料，其特征在于所述母基底材料具有在所述副掃描方向排列多個所述第一膜形成區(qū) 域的第三區(qū)域列、在所述副掃描方向排列多個所述第二膜形成區(qū)域的第四區(qū)域列；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，所述第四區(qū)域 列在所述主掃描方向配設(shè)在比所述第三區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的母基底材料，其特征在于 所述第四區(qū)域列配設(shè)在比所述第三區(qū)域列更靠近所述母基底材料的中央的位置。
9. 一種膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，用于具有多個包含1個以上的膜形 成分區(qū)的膜形成區(qū)域的母基底材料，所述母基底材料包含具有第一膜形成分區(qū)的第一膜形成區(qū)域、具有 膜形成面積比所述第一膜形成分區(qū)更小的第二膜形成分區(qū)的第二膜形成 區(qū)域；在配置膜材料時使用的配置裝置中設(shè)置所述母基底材料的狀態(tài)下，在 比所述第一膜形成區(qū)域更靠近在所述配置裝置中具有的轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動 中心，的位置配設(shè)所述第二膜形成區(qū)域。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，其特征在于-所述配置裝置在使配置所述膜材料的配置頭和所述母基底材料在主 掃描方向相對移動的同時，配置所述膜材料；所述第一膜形成分區(qū)在所述主掃描方向的寬度是第一寬度，所述第二膜形成分區(qū)在所述主掃描方向的寬度是比所述第一寬度更小的第二寬度；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在與所述主掃 描方向大致正交的副掃描方向，在比所述第一膜形成區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動 中心的位置配設(shè)所述第二膜形成區(qū)域。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，其特征在于所述配置裝置在使配置所述膜材料的配置頭和所述母基底材料在主掃描方向相對移動的同時，配置所述膜材料；所述第一膜形成分區(qū)在與所述主掃描方向大致正交的副掃描方向的 寬度是第三寬度，所述第二膜形成分區(qū)在所述副掃描方向的寬度是比所述 第三寬度更小的第四寬度；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描 方向，在比所述第一膜形成區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第二 膜形成區(qū)域。
12. 根據(jù)權(quán)利要求9 11中的任意一項所述的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法， 其特征在于在比所述第一膜形成區(qū)域更靠近所述母基底材料的中央的位置配設(shè) 所述第二膜形成區(qū)域。
13. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，其特征在于所述母基底材料具有在所述主掃描方向排列多個所述第一膜形成區(qū) 域的第一區(qū)域列、在所述主掃描方向排列多個所述第二膜形成區(qū)域的第二 區(qū)域列；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述副掃描 方向，在比所述第一區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第二區(qū)域
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，其特征在于在比所述第一區(qū)域列更靠近所述母基底材料的中央的位置配設(shè)所述第二區(qū)域列。
15.根據(jù)權(quán)利要求ll所述的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，其特征在于 所述母基底材料具有在所述副掃描方向排列多個所述第一膜形成區(qū)域的第三區(qū)域列、在所述副掃描方向排列多個所述第二膜形成區(qū)域的第四區(qū)域列；在所述母基底材料被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描 方向，在比所述第三區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第四區(qū)域
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的膜形成區(qū)域的配設(shè)方法，其特征在于 在比所述第三區(qū)域列更靠近所述母基底材料的中央的位置配設(shè)所述第四區(qū)域列。
17. —種濾色器的制造方法，對于包含具有1個以上的色要素區(qū)域的濾色區(qū)域的用于形成多個濾色器的母基板，在所述色要素區(qū)域形成色要素 膜，所述母基板包含具有第一色要素區(qū)域的第一濾色區(qū)域、具有比所述第 一色要素區(qū)域的所述色要素膜的形成面積更小的第二色要素區(qū)域的第二濾色區(qū)域；在所述母基板被設(shè)置在配置色要素膜材料時使用的配置裝置中的狀 態(tài)下，在比所述第一濾色區(qū)域更靠近所述配置裝置中具有的轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn) 動中心的位置配設(shè)所述第二濾色區(qū)域，在該第一濾色區(qū)域和第二濾色區(qū)域 各自的所述色要素區(qū)域，使用所述配置裝置配置色要素膜材料。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的濾色器的制造方法，其特征在于所述配置裝置在使用于配置所述色要素膜材料的配置頭和所述母基板在主掃描方向移動的同時，配置所述色要素膜材料；所述第一色要素區(qū)域在所述主掃描方向的寬度是第一寬度，所述第二 色要素區(qū)域在所述主掃描方向的寬度是比所述第一寬度更小的第二寬度；在所述母基板被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在與所述主掃描方 向大致正交的副掃描方向，在比所述第一濾色區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的 位置配設(shè)所述第二濾色區(qū)域。
19. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的濾色器的制造方法，其特征在于 所述配置裝置在使用于配置所述色要素膜材料的配置頭和所述母基板在主掃描方向移動的同時，配置所述色要素膜材料；所述第一色要素區(qū)域在所述色要素區(qū)域的與所述主掃描方向大致正 交的副掃描方向的寬度是第三寬度，所述第二色要素區(qū)域在所述副掃描方 向的寬度是比所述第一寬度更小的第四寬度；在所述母基板被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描方 向，在比所述第一濾色區(qū)域更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第二濾色 區(qū)域。
20. 根據(jù)權(quán)利要求17 19中的任意一項所述的濾色器的制造方法，其 特征在于在比所述第一濾色區(qū)域更靠近所述母基板的中央的位置配設(shè)所述第 二濾色區(qū)域。
21. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的濾色器的制造方法，其特征在于 所述母基板具有在所述主掃描方向排列多個所述第一濾色區(qū)域的第一濾色區(qū)域列、在所述主掃描方向排列多個所述第二濾色區(qū)域的第二濾色 區(qū)域列；在所述母基板被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述副掃描方 向，在比所述第一濾色區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第二濾 色區(qū)域列。
22. 根據(jù)權(quán)利要求21所述的濾色器的制造方法，其特征在于 在比所述第一濾色區(qū)域列更靠近所述母基板的中央的位置配設(shè)所述第二濾色區(qū)域列。
23. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的濾色器的制造方法，其特征在于 所述母基板具有在所述副掃描方向排列多個所述第一濾色區(qū)域的第三濾色區(qū)域列、在所述副掃描方向排列多個所述第二濾色區(qū)域的第四濾色 區(qū)域列；在所述母基板被設(shè)置在所述配置裝置中的狀態(tài)下，在所述主掃描方 向，在比所述第三濾色區(qū)域列更靠近所述轉(zhuǎn)動中心的位置配設(shè)所述第四濾 色區(qū)域列。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的濾色器的制造方法，其特征在于 在比所述第三濾色區(qū)域列更靠近所述母基板的中央的位置配設(shè)所述第四濾色區(qū)域;
全文摘要
本發(fā)明提供一種能減小對液滴噴出裝置的基板的方向偏移對命中位置的位置偏移帶來的影響的母基底材料、膜形成區(qū)域的配設(shè)方法、濾色器的制造方法。母基底材料具有多個包含1以上的膜形成分區(qū)的膜形成區(qū)域，其特征在于，包括具有第一膜形成分區(qū)的第一膜形成區(qū)域；具有比第一膜形成分區(qū)的膜的形成面積更小的第二膜形成分區(qū)的第二膜形成區(qū)域；在配置膜材料時使用的配置裝置中設(shè)置的狀態(tài)下，對于在配置裝置中具有的轉(zhuǎn)動裝置的轉(zhuǎn)動中心，在比第一膜形成區(qū)域更靠近的位置配置第二膜形成區(qū)域。
文檔編號G02F1/1335GK101515082SQ200910007390
公開日2009年8月26日 申請日期2009年2月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月19日
發(fā)明者坂本賢治 申請人:精工愛普生株式會社