專利名稱：壓印裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種可通過簡單的方式在平板顯示器基板上區(qū)分形成蝕 刻區(qū)與非蝕刻區(qū)圖案的壓印裝置，尤其涉及一種在處理大面積基板時以 進(jìn)一步提高的工作效率，且通過均勻的壓力，對基板的整個表面進(jìn)行壓 印，從而提供圖案質(zhì)量得到改善的壓印裝置。
背景技術(shù)：
在平面顯示器的制造中，為了在基板上形成蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域，通常使用基于感光液的曝光方法或基于軟模(soft mold)的壓印方法。所述壓印方法所使用的壓印裝置包括腔殼，具有一密封空間，該 密封空間可在大氣壓與真空壓環(huán)境之間相互轉(zhuǎn)換；載物臺，設(shè)置在所述 腔殼內(nèi)側(cè)，用于裝載基板；軟模，設(shè)置在所述載物臺上方；排列機(jī)構(gòu)， 用于在所述軟模與所述基板接合之前，補(bǔ)償所述軟模與所述基板的對準(zhǔn) 位置。所述壓印裝置在真空壓環(huán)境的腔殼內(nèi)，接合所述軟模與裝載在所述 載物臺上的所述基板，從而在所述基板的樹脂層上形成蝕刻區(qū)與非蝕刻 區(qū)域。另外，在所述腔殼的上方具有硬化機(jī)構(gòu)，從而通過一般的UV燈管(紫 外線燈管)，可統(tǒng)一硬化處理形成在所述基板上的蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域。然而在處理大面積基板時，所述常規(guī)的壓印裝置會產(chǎn)生種種問題。
即，在把和大面積基板尺寸相符的大型腔殼內(nèi)部變成真空壓環(huán)境時，需要過長的時間，并由此而拉長生產(chǎn)節(jié)拍時間(tact time),這將構(gòu)成 降低工作效率的一個重要因素。因此，需要一種不僅可以容納大面積基 板，也能夠大幅減小內(nèi)部容積的腔室。特別是，如果腔殼尺寸變大，由于負(fù)荷與壓力等的因素，會容易導(dǎo) 致腔殼表面的變形(例如產(chǎn)生彎曲現(xiàn)象)，很難使裝置保持恒定的精度。 特別是，如果腔殼出現(xiàn)變形，會在基板上形成不正常的蝕刻區(qū)域。而且，所述腔殼大部分由單獨的密封箱體形狀構(gòu)成，只能通過其一 側(cè)的出入口才能裝載及卸載所述基板，因此工作效率低，所述軟模或載 物臺的維修工作將遇到一定的困難。另外，所述排列機(jī)構(gòu)中用于調(diào)節(jié)所述載物臺位置的部件大部分設(shè)置 在所述腔殼內(nèi)部，因此難以縮小所述腔殼的尺寸(體積)。而且，所述硬化機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述腔殼上方，大部分由相應(yīng)于所述基 板的整個表面面積的面狀照射體構(gòu)成。但如要構(gòu)成上述結(jié)構(gòu)需要連接多 個UV燈管，以使其能夠與基板面積相符，并分別設(shè)置對應(yīng)于所述多個燈 管的反射板，因此其結(jié)構(gòu)復(fù)雜，需要占過多的空間，裝置的總體尺寸變 大。另外，軟模與基板進(jìn)行面接觸時，如果整個接觸面未能以均勻的壓 力接觸，該接觸面之間會產(chǎn)生大的氣泡層，而由于此氣泡層，軟模與基 板之間會存在未接觸區(qū)域。而且，當(dāng)所述軟模與基板從接觸的狀態(tài)分開時，由于基板上的樹脂 層會粘結(jié)到軟模上，有時難以將其分離。并且在此時，由于軟模由軟質(zhì) 材料制成，容易導(dǎo)致軟模的變形或破壞
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種壓印裝置，其在處理大面積基板時，尤其 能夠改善腔殼或硬化機(jī)構(gòu)所導(dǎo)致的問題，從而提供進(jìn)一 步提高的工作效率。本發(fā)明的另一個目的是提供一種壓印裝置，其在接合軟模與基板時， 能夠?qū)宓恼麄€表面施加均勻的壓力。本發(fā)明的另一個目的是提供一種壓印裝置，其可容易地分離處于接 合狀態(tài)下的軟模與基板。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取了以下技術(shù)手段。本發(fā)明的壓印裝置包括 框架；腔室，具有第一腔殼與第二腔殼，所述第一腔殼與第二腔殼設(shè)置在 所述框架上的上、下兩個位置上，所述兩個腔殼通過結(jié)合或者分離動作， 形成一可以開放的密封空間；軟模，具有用于區(qū)分蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域的圖案面，位于所述腔室 的密封空間內(nèi)；載物臺，具有用于裝載基板的裝載面，在所述腔室的密封空間內(nèi)可 相對于所述軟模做上下運動。所述壓印裝置進(jìn)一步包括硬化機(jī)構(gòu)，所述硬化機(jī)構(gòu)可從所述載物臺 上的基板一側(cè)向另 一側(cè)移動的同時，照射紫外線。
所述壓印裝置進(jìn)一步包括壓力分布機(jī)構(gòu)，所述壓力分布機(jī)構(gòu)能夠?qū)?具備圖案化表面的軟模整個表面上施加均勻的壓力。所述壓印裝置進(jìn)一 步包括用于向所述軟模與基板之間施加空氣壓力 的分離機(jī)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明的用于在基板上形成蝕刻區(qū)的壓印裝置，由于其腔室內(nèi) 僅設(shè)置有最基本的結(jié)構(gòu)(即軟模與載物臺)，因此可大幅縮小所述腔室的 尺寸。特別是，所述腔室由兩個腔殼分開制成，并通過兩個腔殼的結(jié)合或 者分離動作形成一個可以開放的密封空間，因此可易于進(jìn)行所述基板的 裝卸載操作，且便于進(jìn)行所述軟模或載物臺的維修工作。而且，如果將所述腔室分成兩個腔殼，可以縮小每個腔殼的尺寸， 因此可以最大限度地減少因所述腔室所承受的負(fù)荷或者壓力而導(dǎo)致的表 面變形現(xiàn)象。而且，所述-更化機(jī)構(gòu)為掃描式硬化才幾構(gòu)，即所述^更化才幾構(gòu)/人基^反的 一側(cè)向另 一 側(cè)移動的同時照射紫外線，因此同現(xiàn)有的面照射方式相比， 其結(jié)構(gòu)簡單，可大幅減小所占空間。另外在壓印時，由于對所述軟模的上表面施加空氣壓力，所述軟模 的整體表面就能夠比較均勻地接合到所述基板上。而且，在把接合狀態(tài)下的基板和軟模分離時，向所述基板與軟模之 間施加空氣壓力，因此兩者的分離較為容易。


圖1是本發(fā)明的用于在基板上形成蝕刻區(qū)域的壓印裝置一個實施例 的整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1中的腔室、載物臺、排列機(jī)構(gòu)及硬化機(jī)構(gòu)的聯(lián)動狀態(tài)示 意圖。圖3是本發(fā)明的用于在基板上形成蝕刻區(qū)域的壓印裝置一個實施例 中，排列機(jī)構(gòu)的具體結(jié)構(gòu)及作用示意圖。圖4是本發(fā)明的用于在基板上形成蝕刻區(qū)域的壓印裝置一個實施例 中，硬化機(jī)構(gòu)的具體結(jié)構(gòu)及作用示意圖。圖5是本發(fā)明壓印裝置的另一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6是本發(fā)明壓印裝置的另一實施例中，大氣壓對壓力室的作用示 意圖。
具體實施方式
下面，結(jié)合附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的較佳實施例。下面的說明是在本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)嵤┑姆秶鷥?nèi)進(jìn)行的。因此，本發(fā)明的實施例可具有不同的變形方式，其保護(hù)范圍不限于 以下實施例。圖1是本發(fā)明的用于在基板上形成蝕刻區(qū)的壓印裝置一個實施例的 整體結(jié)構(gòu)示意圖，其中附圖標(biāo)記2表示的是框架。所述框架2是通過常規(guī)的方法將多個金屬管(或金屬條)焊接或者 用螺絲結(jié)合形成的矩形框架，其最好在地面上由諸如橡膠板等墊板K1所 支持，以便于吸收地板震動力。
而且，所述框架2的里側(cè)設(shè)有腔室4。所述腔室4由第一腔殼Cl和第二腔殼C2單獨的兩部分構(gòu)成，所述 兩個腔殼在上下方向上可分離地相結(jié)合，由此形成一個可以開放的密封 空間S。即，所述第一腔殼Cl及第二腔殼C2分別具有其一側(cè)開放的第一空 間Sl和第二空間S2，并如圖l所示，以其開放的一面相互面對的狀態(tài)設(shè) 置在所述框架2的水平框架6上。而且，通過第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)8，所述第一腔殼Cl在上下方向上運動， 從而與所述第二腔殼C2相結(jié)合或者分開。所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)8可把液壓缸或者空壓缸作為其驅(qū)動源使用，所 述氣缸本體固定在所述框架2上，而所述氣缸的活塞桿則連接在所述第 一腔殼Cl的頂面。即，通過如上結(jié)構(gòu)，所述第一腔殼Cl在所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)8的驅(qū)動 作用下向所述第二腔殼C2移動，從而形成結(jié)合狀態(tài)(如圖1所示)，反 之形成分離狀態(tài)(如圖2所示)。因此，通過第一腔殼Cl與第二腔殼C2的離合動作，所述腔室內(nèi)可 形成能夠開放的密封空間S。所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)8的驅(qū)動源并不局限于氣缸。例如，雖然圖中未 表示，可通過與電機(jī)軸相連的螺桿的正反向旋轉(zhuǎn)動作，將所述第一腔殼 Cl可分離地結(jié)合到所述第二腔殼C2。此外，可通過不同的方式實施用來 實現(xiàn)本發(fā)明目的的動力產(chǎn)生及傳遞結(jié)構(gòu)。
另外，所述腔室4的密封空間S可在真空壓與大氣壓環(huán)境中相互轉(zhuǎn)換。如圖l所示，通過一管件，連接所述第二腔殼C2和常規(guī)的真空泵P, 并在所述真空泵P的驅(qū)動作用下，將所述密封空間S變成真空壓或者大 氣壓環(huán)境。如此通過真空泵P將所述密封空間S在真空壓與大氣壓環(huán)境 中相互轉(zhuǎn)換的結(jié)構(gòu)，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是可易于實現(xiàn)的技術(shù)，因 此不再贅述。即，所述腔室4可提供一個空間，用于在真空環(huán)境中對基板G表面 進(jìn)行用于形成蝕刻區(qū)和非蝕刻區(qū)的操作。而所述操作的前提條件是所述 基板G表面上預(yù)先涂敷有樹脂(resin)。雖然圖中未顯示，所述腔室4內(nèi)可進(jìn)一步設(shè)置用于產(chǎn)生負(fù)離子的常 規(guī)的離子發(fā)生器(ionizer )。所述離子發(fā)生器在所述密封空間S中可消 除可能會在基板G上或者將在后面敘述的軟模10上產(chǎn)生的靜電。如圖1所示，所述腔室4通過懸垂部件12懸掛及固定在所述框架2上。所述懸垂部件12可以是用于連接兩個物體的常規(guī)的緩沖缸，其內(nèi)部 裝有緩沖流體，以吸收沖擊或震動力。如此將所述腔室4設(shè)置在所述框 架2上并使之懸垂，就能夠最大限度地抑制所述框架2上產(chǎn)生的震動或 沖擊力傳遞到所述腔室4。另外，所述第一腔殼Cl與第二腔殼C2相結(jié)合的表面上可設(shè)置常規(guī) 的密封件R。在所述第一腔殼C1與第二腔殼C2相結(jié)合時，所述密封件R 可用來保持兩者結(jié)合面之間的緊密接合狀態(tài)。
所述腔室4內(nèi)設(shè)置有軟模10。所述軟模10可通過壓印方式與所述基 板G相接合，并于涂敷在所述基板G表面上的樹脂層上形成蝕刻區(qū)與非 々蟲刻區(qū)i或。所述軟模10可構(gòu)成為具有預(yù)定厚度、并具有能夠覆蓋基板G上的樹 脂層全體表面大小的矩形墊形狀。眾所周知，所述軟模10通過公知的方法，由透明合成樹脂原料(例 如聚二曱基硅氧烷(P0LY DIMETHYLSILOXANE))成型制成，其一面具有 用于形成蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域的圖案。另外，雖然圖中未顯示，所述基板G和所述軟模10上設(shè)有用于在排 列時可用做對準(zhǔn)參考點的常規(guī)的對準(zhǔn)標(biāo)記。而且，所述軟模10可固定在所述框架2上，并可獲得緩沖。例如，如圖1所示，在所述水平框架6上由緩沖支撐件K2支持底板 14，并于所述底板14上設(shè)置多個固定桿16后，由所述固定桿16固定所 述軟模IO。實際上，所述軟模10可與板部件17相結(jié)合，并固定在所述 固定桿16上。所述軟模IO被固定在所述腔室4的密封空間S中時，其設(shè)有圖案的 一面朝下。所述緩沖支撐件K2可具有與常規(guī)的減震器(shock absorber)相同 或類似的結(jié)構(gòu)，所述減震器可構(gòu)成為內(nèi)部裝有緩沖流體(例如空氣)的 圓筒或多角筒形狀，用來在緩沖狀態(tài)下支持各種框架或操作臺。通過如上的緩沖結(jié)構(gòu)，可最大限度地減少由所述框架2所傳遞的沖 擊或震動所引起的干擾。
另外，雖然圖中未顯示，在所述第二腔殼C2中被所述固定桿16穿 過的部分可插入橡膠圈等常規(guī)的密封件，從而獲得密封效果。而且，在所述腔室4的密封空間S內(nèi)可進(jìn)一步設(shè)置分離氣嘴18。如圖1所示，所述分離氣嘴18可與壓縮機(jī)等常規(guī)的氣體供給裝置20 相連，并設(shè)置在所述軟模10的兩側(cè)，以使接合狀態(tài)的軟模10與基板G 能夠順利分開。即，當(dāng)把接合在所述軟模10上的所述基板G分離時，所述分離氣嘴 18向兩者的接觸面之間噴入空氣，從而使基板G可順利脫離所述軟模10 的圖案面。所述腔室4內(nèi)配置有用于裝載基板G的載物臺22。所述載物臺22具有用于裝載基板G的裝載面，并設(shè)置在所述腔室4 的密封空間S內(nèi)與所述軟模IO相隔及平行的地方(參見圖1)。當(dāng)把所述基板G裝載到所述載物臺22上或者從中卸載時，在所述第 一腔殼Cl與第二腔殼C2分離的狀態(tài)，即如圖2所示的狀態(tài)下，由兩個 腔殼之間供給或提取基板G。另外，所述載物臺22可在第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)24的作用下上下移動，從 而與所述軟模IO得以面接觸。作為所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)24的驅(qū)動源，可以使用具有能夠做上下運動 的驅(qū)動軸的電才幾或氣缸。
如圖1所示，所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)24可與固定在所述底板14上的支 架 26相互固定。
而且，在所述第二驅(qū)動^/L構(gòu)24的驅(qū)動軸上設(shè)置有移動板28，所述移 動板28與所述載物臺22通過支撐桿30連接固定。所述支撐桿30穿過 所述第二腔殼C2的底面，與所述載物臺22相互固定。即，當(dāng)所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)24驅(qū)動時，所述移動板28與支撐桿30帶 動所述載物臺22做上下運動。通過如上結(jié)構(gòu)，所述載物臺22可在所述腔室4內(nèi)與所述軟模10平 行的狀態(tài)下相對于所述軟模10做上下運動，從而使基板G表面上的樹脂 層以壓印的狀態(tài)接合到所述軟模10上設(shè)有圖案的 一面。所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)24并不限于上述結(jié)構(gòu)，雖然圖中未顯示，還可以 把電機(jī)軸和螺桿(例如滾珠絲杠)連結(jié)后，通過螺桿的正反向旋轉(zhuǎn)動作使 所述載物臺22上下移動。而且如圖1所示，所述移動板28與所述第二腔殼C2之間連接有常 規(guī)的伸縮管T (bellows tube),所述伸縮管T包裹所述支撐桿30。即，所述伸縮管T的一端固定在所述移動板28上，另一端則固定在 所述第二腔殼C2的底面。所述伸縮管T可阻斷所述腔室通過所述第二腔殼C2被穿過的部分與 外界相通，從而使之處于密封狀態(tài)。因此，當(dāng)把所述密封空間S轉(zhuǎn)換成 真空壓環(huán)境時，可防止通過所述貫穿的部分，壓力被解除的現(xiàn)象。本實施例所提供的、用于在基板上形成蝕刻區(qū)的壓印裝置可進(jìn)一步 包括排列機(jī)構(gòu)。所述排列機(jī)構(gòu)用來在接合所述基板G與所述軟模10之前，補(bǔ)償接合 位置。
所述排列機(jī)構(gòu)包括用于感測位置的感測部件32; #4居所述感測部 件32的感測信號改變所述載物臺22位置的調(diào)整部件34。所述感測部件32可由微型攝像機(jī)構(gòu)成，并可由多個攝像機(jī)成組構(gòu)成， 從而在所述軟模10和基板G上的對準(zhǔn)標(biāo)記中，能夠感測至少兩個以上的 標(biāo)記(參見圖1)。通過傳送部件36,所述感測部件32的微型攝像機(jī)可在所述腔室4的 上方左右移動。即，所述微型攝像機(jī)可位于所述腔室4上方能夠感測所述軟模10與 基板G的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置上(如圖l所示)，或者可以脫離所述腔室4上 方，移到另一位置(如圖2所示)。通過如上結(jié)構(gòu)，當(dāng)所述第一腔殼Cl做上下運動時，可防止所述感測 部件32的微型攝像機(jī)與所述第一腔殼Cl接觸而產(chǎn)生干擾。另外，如圖1所示，所述第一腔殼Cl上與所述微型攝像機(jī)相對應(yīng)的 位置上設(shè)有透明視窗38。所述透明視窗38可由玻璃板或石英板構(gòu)成。在所述第一腔殼Cl與第二腔殼C2相結(jié)合的狀態(tài)下，所述感測部件 32通過所述透明視窗38，在所述腔室4外側(cè)感測所述軟模10與所述基 板G的位置。所述調(diào)整部件34設(shè)置在所述腔室4的密封空間S外側(cè)，且可以調(diào)整 其位置。即，如圖l所示，在所述移動板28的下方配置輔助墊板40，并在兩 者之間設(shè)置所述調(diào)整部件34。
所述調(diào)整部件34可以選用能夠做直線運動及可調(diào)整旋轉(zhuǎn)角度的常規(guī) 的UVW臺架(UVW stage)或者手動臺架(Manual Stage )。雖然圖中未 顯示，這些臺架可借助流體壓力(如空壓)或者另外設(shè)置的驅(qū)動裝置(如氣 釭、電沖幾)馬區(qū)動。所述調(diào)整部件34可由多個部件成組構(gòu)成，從而用二點或四點支持方 式調(diào)整位置。因此當(dāng)把圖3作為基準(zhǔn)時，可把所述移動板28在所述輔助 墊板4Q上旋轉(zhuǎn)及前后、左右移動，從而調(diào)整位置。另外，所述感測部件32與所述調(diào)整部件34可以同控制機(jī)構(gòu)42相連， 從而根據(jù)所述感測部件32的感測信號，自動控制所述調(diào)整部件34的動 作。所述控制機(jī)構(gòu)42可以使用常規(guī)的數(shù)控計算機(jī)(numerical controlled computer)。如jt匕，通過凄t4空計算才幾并才艮4居所述感觀寸部件32 的感測信號控制所述調(diào)整部件34工作的結(jié)構(gòu)是本領(lǐng)域技術(shù)人員可易于實 現(xiàn)的技術(shù)，故省略其詳細(xì)說明。通過如上結(jié)構(gòu)，本發(fā)明可根據(jù)所述感測部件32的感測信號，并通過 所述控制機(jī)構(gòu)42控制所述調(diào)整部件34的動作，從而調(diào)整所述載物臺22 的位置以使之對應(yīng)于所述軟模10，進(jìn)而補(bǔ)償及校準(zhǔn)基板G的接合位置(參 見圖3)。特別是，當(dāng)所述調(diào)整部件34設(shè)置在所述腔室4外部時，和諸如像現(xiàn) 有技術(shù)那樣在所述腔體內(nèi)設(shè)置各種調(diào)整機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)相比，本發(fā)明可進(jìn)一 步縮小所述第一腔殼Cl及第二腔殼C2的尺寸(體積)。因此，可有效防 止處理大面積基板G時會產(chǎn)生的腔殼表面下垂的現(xiàn)象，并可縮短將所述 腔室內(nèi)部形成真空壓或大氣壓環(huán)境時所消耗的時間。 另一方面，本實施例所提供的、用于在基板上形成蝕刻區(qū)的壓印裝置包括硬化機(jī)構(gòu)44。所述硬化機(jī)構(gòu)44能夠在移動的同時照射紫外線，從而硬化所述基板 G表面上的樹脂層。即，所述硬化機(jī)構(gòu)44包括用于產(chǎn)生紫外線的UV燈管Ll與第三驅(qū)動 機(jī)構(gòu)46，所述UV燈管Ll在所述第三驅(qū)動機(jī)構(gòu)46的作用下，在移動的同 時照射紫外線，如圖4所示。如圖4所示，所述UV燈管Ll使用的是具有一定長度的棒型燈管。 另外可進(jìn)一步設(shè)置與所述UV燈管Ll相對的反射板L2。所述反射板L2具有如常規(guī)的用于照明裝置的反射器(reflector)的 功能，其用來在所述UV燈管Ll移動時，將所述紫外線反射到所述基板G 的樹脂層，如圖4所示。而且，所述第三驅(qū)動機(jī)構(gòu)46包括連4妄在兩個皮帶輪48之間的定時 皮帶50、與所述皮帶輪48相連并可傳遞動力的電機(jī)52，其中所述UV燈 管Ll的兩端分別固定在所述定時皮帶50上，如圖4所示。通過如上結(jié)構(gòu)，當(dāng)所述定時皮帶50在所述電機(jī)52的驅(qū)動作用下前 后移動時，所述UV燈管Ll就可以在所述基板G的一端到另一端之間往 返運動，^口圖4所示。如此在具有一定尺寸的基板G的樹脂層上方移動的同時進(jìn)行硬化處 理的結(jié)構(gòu)，和諸如像將多個燈管與反射板相結(jié)合以使之與基板G面積相 符的面照射方式相比，其結(jié)構(gòu)簡單，尤其可以大幅減小在所述腔室4上 方用于硬化的結(jié)構(gòu)所占的空間。
因此，本實施例所提供的、用于在基板上形成蝕刻區(qū)的壓印裝置，可在由第一腔殼Cl與第二腔殼C2等兩個單獨部件組成的所述腔室4內(nèi) 部，通過壓印方式接合所述軟模10與基板G，并通過掃描方式進(jìn)行硬化 處理，從而可簡單地劃分蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域。即如圖2所示，在所述第一腔殼Cl與第二腔殼C2分離的狀態(tài)下， 所述基板G被裝載到所述載物臺22上，且其樹脂層朝上。如此把基板G裝載后，如圖1所示，將所述第一腔殼Cl與第二腔殼 C2重新結(jié)合，并在此狀態(tài)下，通過所述真空泵P將所述密封空間S從大 氣壓環(huán)境轉(zhuǎn)換到真空壓環(huán)境。之后，利用所述排列機(jī)構(gòu)的感測部件32、調(diào)整部件34及控制機(jī)構(gòu) 42,調(diào)整所述載物臺22的位置，使之對應(yīng)于所述軟模10的位置，從而 在可允許的范圍內(nèi)補(bǔ)償所述基板G的接合位置。在如此補(bǔ)償接合位置的狀態(tài)下，如圖2所示，通過所述第二驅(qū)動機(jī) 構(gòu)24往上移動所述載物臺22，并以壓印方式接合所述軟模10與基板G。此時，所述軟模10的圖案面壓迫所述基板G的樹脂層，從而在所述 基板G上形成用于區(qū)分蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)的預(yù)定圖案。然后，在如此把軟模10與基板G接合的狀態(tài)下，通過所述硬化機(jī)構(gòu) 44并利用掃描硬化方式，硬化所述基板G的樹脂層。硬化處理工作則在 如圖2所示那樣，在所述第一腔殼Cl脫離所述第二腔殼C2的狀態(tài)下執(zhí) 行。即，在所述第一腔殼Cl從所述第二腔殼C2處脫離的狀態(tài)下，如圖4 所示，所述UV燈管Ll在移動的同時向所述基板G的樹脂層照射紫外線。 所以，根據(jù)上述動作，可通過掃描方式硬化所述基板G的樹脂層。
結(jié)束上述硬化處理后，將所述載物臺22往下移動，從而解除所述軟 模10和基板G的接合狀態(tài)。之后，從所述載物臺22卸載所述被解除接 合狀態(tài)的基板G，并將其輸出到所述腔室4外部即可結(jié)束本工序。圖5是本發(fā)明壓印裝置的另一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。本實施例所提 供的壓印裝置，和第 一 實施例同樣地使用分開制成的腔室。下面僅對和第 一 實施例不同的部分進(jìn)行說明，而省略相同或類似的 結(jié)構(gòu)及作用。所述軟模IO被固定在板部件17,而所述板部件17就可以使用具有 一定強(qiáng)度的玻璃板或者石英板等，以免所述軟模在腔室內(nèi)由于其自身的 重量而下垂。所述板部件17的邊緣上套設(shè)有導(dǎo)槽54 (channel),所述導(dǎo)槽54則固 定在所述固定桿16上。由于所述導(dǎo)槽54設(shè)置在所述軟模10所附著的板部件17上，因此可 進(jìn)一步提高所述板部件17的結(jié)構(gòu)剛性。另一方面，所述腔室4可進(jìn)一步設(shè)置有用于均勻分布施加到軟模10 上的壓力的壓力分布機(jī)構(gòu)56。所述壓力分布機(jī)構(gòu)56是形成在所述第一腔殼Cl內(nèi)表面、并具有一 定厚度及高度的突起狀隔離部件58。通過所述隔離部件58，形成在所述第一腔殼Cl內(nèi)的內(nèi)部空間Sl內(nèi) 形成一壓力室S3。由所述隔離部件58所形成的壓力室S3與所述內(nèi)部空間S相互獨立。所述隔離部件58與所述導(dǎo)槽54之間可設(shè)置有密封件60。作為對所述獨立的壓力室S3內(nèi)形成壓力的裝置，真空泵62通過管 道連接于所述壓力室。并于所述第一腔殼Cl上設(shè)有第一閥門64，以便大氣壓能夠作用到所 述壓力室S3。而且，在所述隔離部件58上設(shè)有第二閥門66,使所述壓力室S3與 所述空間S相互連通。所述第一閥門64及第二閥門66可以是手動閥或者像電；茲閥 (solenoid valve)那才羊通過電控制方式開合的閥門。進(jìn)行壓印操作時，剛開始在所述第一腔殼Cl打開的狀態(tài)下，所述壓 力室S3與空間S內(nèi)的壓力相同。由于所述壓印操作實質(zhì)上在真空環(huán)境中 執(zhí)行，因此施加相同的真空壓力。此時，開始壓印操作，所述隔離部件58的前端部分在壓迫所述設(shè)有 軟模10的板部件17上面的狀態(tài)下與之緊密貼合。此時，雖然所述空間S 與壓力室S3實質(zhì)上處于相同的真空壓環(huán)境中，但由于隔離部件58，實際 上成為相對獨立的空間。在這種狀態(tài)下如果所述基板G與所述軟模10接合，就開啟所述第一 閥門64，并關(guān)閉所述第二閥門66。此時，通過第一閥門64,壓力室S3的真空壓被解除，所述壓力室內(nèi) 流入空氣，形成大氣壓環(huán)境。 但在此時，所述空間S仍然處于真空壓環(huán)境，因此作用于所述壓力室S3的大氣壓則均勻地施加到貼附有所述軟模10的板部件17的整個表 面。所述軟模10由于其上面受到均勻的壓力，當(dāng)其與基板G接合并執(zhí)行 壓印操作時，可用均勻的壓力對整個基板做壓印處理。另外，如果整個軟模IO像如前所述那樣受到均勻的壓力，可以最大 限度地保持所述軟模的表面平整度，從而防止所述軟模10的一部分粘結(jié) 到所述基板的樹脂層上的現(xiàn)象。而且，在分開所述軟模10與基板時，可以方便地分離軟模。完成上述壓印操作后，為了下一個基板的壓印操作，關(guān)閉所述第一 閥門64，并啟動真空泵62以把所述壓力室S3變成真空環(huán)境后，開始下 一個基板的操作。
權(quán)利要求
1、一種壓印裝置，包括框架；腔室，具有第一腔殼與第二腔殼，所述第一腔殼與第二腔殼設(shè)置在所述框架上的上下兩個位置上，通過結(jié)合或分離動作形成一可以開放的密封空間；軟模，具有用于區(qū)分蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域的圖案面，位于所述腔室的密封空間內(nèi)；載物臺，具有用于裝載基板的裝載面，在所述腔室的密封空間內(nèi)相對于所述軟模做上下運動。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印裝置，其中所述腔室的所述第一腔殼 與所述第二腔殼中的一個腔殼通過第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)相對于另一腔殼做上下 運動，并與所述另一腔殼可分離地相結(jié)合，所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)為氣缸或 電機(jī)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印裝置，其中所述腔室具有至少一個透 明視窗，并通過所述透明視窗在腔室外側(cè)感測所述軟?；蚧宓膶?zhǔn)標(biāo) 記。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印裝置，其中所述載物臺在第二驅(qū)動機(jī) 構(gòu)的驅(qū)動作用下上下移動，并與所述軟模平行的狀態(tài)下與之接合或者分 離，所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)將電機(jī)或氣缸用作驅(qū)動源，所述驅(qū)動源在所述腔 室下方推拉所述載物臺以使之上下移動。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印裝置，其中所述硬化機(jī)構(gòu)包括用于產(chǎn) 生紫外線的紫外線燈管、和用于移動所述紫外線燈管的第三驅(qū)動機(jī)構(gòu)， 其中所述紫外線燈管在所述第一腔殼與第二腔殼相互分開的狀態(tài)下，介 于所述兩個腔殼間，并從所述基板的 一側(cè)向另 一側(cè)移動。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓印裝置，其中所述第三驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括電述定時皮帶在所述皮帶輪的旋轉(zhuǎn)下前后移動時，所述紫外線燈管就沿著 所述定時皮帶移動。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印裝置，其中進(jìn)一步包括排列機(jī)構(gòu)，所 述排列機(jī)構(gòu)在所述腔室的密封空間外側(cè)補(bǔ)償所述載物臺的位置，使所述 基板對準(zhǔn)于所述軟模，所述排列機(jī)構(gòu)包括由微型攝像機(jī)構(gòu)成，并用于感測所述基板與所述軟模的對準(zhǔn)標(biāo)記的 感測部件；在所述腔室外側(cè)用于改變所述載物臺的位置的調(diào)整部件；從所述感測部件接收信號，控制所述調(diào)整部件驅(qū)動的控制機(jī)構(gòu)。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的壓印裝置，其中所述微型攝像機(jī)被設(shè)置成 其通過傳送部件在所述腔室的上方移動，從而位于腔室上方能夠感測所 述軟模與基板的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置上，或者脫離所述腔室上方。
9、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的壓印裝置，其中所述調(diào)整部件是UVW臺架 或手動臺架，通過貫穿所述腔室一面的支撐桿，與所述載物臺相連及固 定。
10、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印裝置，其中進(jìn)一步包括硬化機(jī)構(gòu)， 所述硬化機(jī)構(gòu)在從位于所述載物臺上的基板一側(cè)移到另 一側(cè)的同時，照 射紫外線。
11、 根據(jù)權(quán)利要求10所述的壓印裝置，其中所述硬化機(jī)構(gòu)包括 用于產(chǎn)生紫外線的紫外線燈管；及用于驅(qū)使所述紫外線燈管以橫過所述腔室空間的方式進(jìn)行往返運動 的第三驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
12、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的壓印裝置，其中所述第三驅(qū)動機(jī)構(gòu)為， 與電機(jī)相連的定時皮帶或者長度可變的氣缸。
13、 一種壓印裝置，包括 框架；腔室，具有第一腔殼與第二腔殼，所述第一腔殼與第二腔殼設(shè)置在 所述框架上的上下兩個位置上，所述兩個腔殼通過結(jié)合或者分離動作， 形成可以開放的密封空間；軟模，具有用于區(qū)分蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域的圖案面，位于所述腔室 的密封空間內(nèi)；載物臺，具有用于裝載基板的裝載面，在所述腔室的密封空間內(nèi)可 相對于所述軟模做上下運動；及壓力分布機(jī)構(gòu)，設(shè)置在所述第一腔殼內(nèi)，用于對所述軟模均勻施加 壓力。
14、根據(jù)權(quán)利要求13所述的壓印裝置，其中，所述壓力分布機(jī)構(gòu)包括..隔離部件，設(shè)置在所述第一腔殼，用于形成壓力室；第一閥門，設(shè)置在所述第一腔殼，用于連通或者隔離所述壓力室與 大氣環(huán)境；第二閥門，設(shè)置在所述第一腔殼，用于連通或者隔離所述腔室與所 述壓力室。
全文摘要
本發(fā)明公開一種可通過簡單的方式在平板顯示元件用的基板上形成蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)的壓印裝置。該裝置包括框架；腔室，具有第一腔殼與第二腔殼，所述第一腔殼與第二腔殼設(shè)置在所述框架上的上、下兩個位置上，所述兩個腔殼通過結(jié)合或分離動作，形成一可以開放的密封空間；軟模，具有用于區(qū)分蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域的圖案面，位于所述腔室的密封空間內(nèi)；載物臺，具有用于裝載基板的裝載面，在所述腔室的密封空間內(nèi)相對于所述軟模做上下運動；及硬化機(jī)構(gòu)，從位于所述載物臺的基板一側(cè)向另一側(cè)移動的同時照射紫外線。
文檔編號G03F7/00GK101398619SQ20081021144
公開日2009年4月1日 申請日期2008年9月22日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月28日
發(fā)明者吳相澤, 樸春成, 李宰一, 李真香, 申泰炅, 鄭昌鎬 申請人:顯示器生產(chǎn)服務(wù)株式會社