一種耐高溫低燒蝕涂層及其制備方法
【專利摘要】一種耐高溫低燒蝕涂層，包括由內(nèi)至外的抗氧化過渡底層、吸熱低燒蝕中間層、低燒蝕輻射散熱面層?？寡趸^渡底層為氧化硅層，吸熱低燒蝕中間層包括陶瓷前驅(qū)體樹脂、陶瓷纖維、陶瓷粉、碳纖維、樹脂小球。低燒蝕輻射散熱面層包括耐高溫樹脂粘結(jié)劑、高溫高輻射填料。耐高溫低燒蝕涂層的制備方法，首先配置全氫硅氮烷溶液，然后刷涂在基材上，每刷涂一次靜置10～30分鐘，刷涂1～3次后完成抗氧化過渡底層的制備。然后制備中間層漿料，并在已經(jīng)表干的抗氧化過渡層上采用刷涂或者空氣噴涂的方式制備吸熱低燒蝕中間層。最后制備外層漿料，同樣采用刷涂或者空氣噴涂的方式在已經(jīng)固化好的吸熱低燒蝕中間層上完成低燒蝕輻射散熱面層的制備。
【專利說明】一種耐高溫低燒蝕涂層及其制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于表面工程領(lǐng)域，涉及一種涂層及其制備工藝。

【背景技術(shù)】
[0002]復(fù)合材料是航天航空領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的結(jié)構(gòu)材料，具有低密度、高比強(qiáng)、低熱膨脹系數(shù)、耐熱沖擊等優(yōu)異性能。然而，復(fù)合材料在高溫下極易出現(xiàn)燒蝕問題，且隨著環(huán)境熱流的增加，燒蝕問題就更加突出，其力學(xué)性能會迅速衰減，失去承載能力。因此，需要在復(fù)合材料表面制備一種耐高溫低燒蝕的涂層，利用涂層隔離熱流和氧氣，盡可能降低復(fù)合材料的溫度，從而減緩或阻止復(fù)合材料的燒蝕，保證其在高溫下具有滿足應(yīng)用要求的力學(xué)性能。
[0003]目前，用于保護(hù)復(fù)合材料不被燒蝕的涂層主要有兩類:燒蝕防熱涂層，非燒蝕或低燒蝕防熱涂層。燒蝕防隔熱涂層主要利用高溫條件下涂層燒蝕吸熱來實現(xiàn)對復(fù)合材料的保護(hù)。常用的燒蝕性涂層主要有硅橡膠類燒蝕防熱涂層、酚醛類燒蝕防熱涂層和環(huán)氧類燒蝕防熱涂層。這類涂層制備工藝簡單，采用空氣噴涂即可，硅橡膠類和環(huán)氧類燒蝕防熱涂層均可室溫固化。但是燒蝕類防熱涂層的缺點是使用溫度低，一般在1000°c以內(nèi)，且抗燒蝕時間較短，一般以分鐘計。非燒蝕或低燒蝕涂層主要利用涂層的非燒蝕或低燒蝕特性來隔離熱流和氧氣對復(fù)合材料的燒蝕。非燒蝕涂層主要包括玻璃涂層、金屬涂層、陶瓷涂層以及復(fù)合涂層。玻璃涂層主要包括硼酸鹽玻璃、硅酸鹽玻璃、磷酸鹽玻璃及復(fù)合玻璃體系，其優(yōu)點是成本低、工藝簡單，缺點是涂層使用溫度相對較低，一般在1500°C以下。金屬涂層主要有金屬銥及其合金、鑰-硅合金等。金屬銥涂層使用溫度高，可達(dá)到1800°C，但金屬銥涂層成本太高，未能廣泛使用。陶瓷涂層一般是采用硅化物作為原料，因為硅化物氧化后產(chǎn)生二氧化硅，而二氧化硅的氧擴(kuò)散系數(shù)很低，1200°C時氧化硅的氧擴(kuò)散系數(shù)低于10_13g/(cm.s)。陶瓷涂層長時使用溫度一般為1500-1600°C，其存在的主要問題是陶瓷涂層與復(fù)合材料的熱膨脹失配會導(dǎo)致涂層開裂，抗燒蝕能力減弱。復(fù)合涂層是將上述涂層進(jìn)行多層復(fù)配，取長補(bǔ)短，提高涂層整體抗燒蝕能力?，F(xiàn)有技術(shù)中，有采用炭/炭復(fù)合材料的三層涂層，其主要通過包埋法制備SiC內(nèi)涂層，通過超音速等離子噴涂制備ZrB2-SiC中間層，ZrB2-SiC為C/C復(fù)合材料提供良好的高溫?zé)g、中低溫抗氧化及隔熱性能。通過沉積法制備SiC外涂層，有效愈合涂層表面缺陷，阻止氧氣的滲入，為C/C復(fù)合材料提供良好的高溫氧化保護(hù)。同時在中低溫氧化過程中，ZrB2的氧化產(chǎn)物B2O3可有效愈合涂層中的缺陷，為涂層試樣提供良好的中溫氧化保護(hù)。
[0004]上述非燒蝕或低燒蝕涂層常用制備方法主要有包埋法、等離子噴涂法、化學(xué)氣相沉積法、超臨界流體法、水熱電沉積法等。這些制備方法要么工藝復(fù)雜，難以在大型復(fù)雜構(gòu)件表面均勻制備，要么需要大型設(shè)備，制備成本高。而且上述非燒蝕或低燒蝕涂層還有一個重要缺陷，即高溫抗沖刷能力差，無法同時實現(xiàn)高溫抗燒蝕和抗沖刷，也意味著上述方法制備的涂層體系難以廣泛應(yīng)用。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明解決的技術(shù)問題是:克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種耐高溫低燒蝕涂層及其制備方法，涂層采用三層結(jié)構(gòu)，通過不同層的性能互補(bǔ)，實現(xiàn)涂層耐高溫、低燒蝕的功能。同時，該涂層采用刷涂或空氣噴涂工藝制備，可以室溫固化，具有操作方便、基材適應(yīng)面廣以及易修補(bǔ)的特點，可以滿足復(fù)合材料的高溫抗燒蝕需求。
[0006]本發(fā)明的技術(shù)解決方案是:一種耐高溫低燒蝕涂層，包括由內(nèi)至外的抗氧化過渡底層、吸熱低燒蝕中間層、低燒蝕輻射散熱面層，所述的抗氧化過渡底層為氧化硅層，所述的吸熱低燒蝕中間層包括25wt%? 35wt%的陶瓷前驅(qū)體樹脂、25wt%?35?1:%的陶瓷纖維、30wt%?35wt%的陶瓷粉、5wt%?10wt%的碳纖維、2wt%?5wt%的樹脂小球，所述的低燒蝕福射散熱面層包括20wt%? 40wt%的耐高溫樹脂粘結(jié)劑、60wt%? 80wt%的高溫高輻射填料。
[0007]所述的氧化硅層由濃度為5wt%?50wt%的全氫硅氮烷溶液制成，溶劑為二氯甲烷或正丁醚。所述的陶瓷前驅(qū)體樹脂為聚硅氧氮烷。所述的陶瓷纖維為氧化鋯纖維。所述的陶瓷粉為硼化鋯，碳化鋯，硼化鉿，或者碳化鉿。所述的碳纖維為粘膠基碳纖維。所述的樹脂小球為酚醛樹脂小球。所述的耐高溫樹脂粘結(jié)劑為聚硅氧氮烷。所述的高溫高輻射填料為氧化鉿，碳化鉿，或者硼化鉿。
[0008]一種耐高溫低燒蝕涂層的制備方法，包括如下步驟:
[0009](I)選用全氫硅氮烷作為溶質(zhì)，二氯甲烷或正丁醚作為溶劑，配置濃度為5wt% -50wt%的全氫硅氮烷溶液；
[0010](2)將制備好的全氫硅氮烷溶液刷涂在基材上，每刷涂一次后靜置10?30分鐘，待表干后再刷涂下一次，共刷涂I?3次，完成抗氧化過渡底層的制備；
[0011](3)將25wt %?35wt %的陶瓷前驅(qū)體樹脂、25wt %?35wt %的陶瓷纖維、30wt%?35wt%的陶瓷粉、5wt%?10wt%的碳纖維、2wt%?5wt %的樹脂小球通過三棍磨或者捏合機(jī)混合的方式制備出混合均勻的中間層漿料；
[0012](4)在已經(jīng)表干的抗氧化過渡層上采用刷涂或者空氣噴涂的方式涂覆中間層漿料，涂覆完畢后室溫固化12?24小時，完成吸熱低燒蝕中間層的制備；
[0013](5)將陶瓷前驅(qū)體樹脂粘結(jié)劑和高溫高輻射填料采用球磨、砂磨或者手工研磨的方式混合均勻制備成外層衆(zhòng)料；
[0014](6)在已經(jīng)固化好的吸熱低燒蝕中間層上采用刷涂或者空氣噴涂的方式涂覆外層漿料，涂覆完畢后室溫固化12?24小時，完成低燒蝕輻射散熱面層的制備。
[0015]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點在于:本發(fā)明涂層采用三層結(jié)構(gòu)，以室溫固化陶瓷前驅(qū)體樹脂、陶瓷纖維、碳纖維、高輻射粉料等為原料，采用刷涂或空氣噴涂工藝制備，涂層室溫固化后就可使用，具有高溫抗燒蝕效果好、制備工藝簡單、適于在大面積和復(fù)雜結(jié)構(gòu)表面使用的優(yōu)點，可用于復(fù)合材料的超高溫抗燒蝕防護(hù)，保證其在高溫下具有滿足應(yīng)用要求的力學(xué)性能。試驗數(shù)據(jù)表明，該涂層在1500°C以下可以長時間(以小時計)使用，在1800°C以上可以短時間(以分鐘計)使用。例如在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度(500。。。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為本發(fā)明耐高溫低燒蝕涂層的制備流程圖。

【具體實施方式】
[0017]本發(fā)明的耐高溫低燒蝕涂層是由三層涂層構(gòu)成的復(fù)合涂層，即抗氧化過渡底層、吸熱低燒蝕中間層以及低燒蝕輻射散熱面層。
[0018]抗氧化過渡底層是以全氫硅氮烷溶液為原料制備出的氧化硅層。這里全氫硅氮烷的濃度為5wt% _50wt%,溶劑是二氯甲燒或正丁醚。
[0019]吸熱低燒蝕中間層主要由陶瓷前驅(qū)體樹脂粘結(jié)劑、陶瓷纖維、陶瓷粉、碳纖維、樹脂小球組成，厚度0.3-3mm。陶瓷前驅(qū)體樹脂為聚硅氧氮烷，其在吸熱低燒蝕中間層中的含量為25wt% -35wt%。陶瓷纖維為氧化鋯纖維，其在吸熱低燒蝕中間層中的含量為25wt% -35wt%。碳纖維為粘膠基碳纖維，其在吸熱低燒蝕中間層中的含量為5Wt%-10Wt%。陶瓷粉為硼化鋯、碳化鋯、硼化鉿、碳化鉿中的一種，其在吸熱低燒蝕中間層中的含量為30wt% -35wt%。樹脂小球為酚醛樹脂小球，其在吸熱低燒蝕中間層中的含量為 2wt % -5wt %。
[0020]低燒蝕輻射散熱面層由耐高溫樹脂粘結(jié)劑和高溫高輻射填料組成，厚度0.05-0.5_。高溫高輻射填料為氧化鉿、碳化鉿、硼化鉿中的一種，其在低燒蝕輻射散熱面層中的含量為60wt% -80wt%。耐高溫樹脂粘結(jié)劑為聚硅氧氮烷，其在低燒蝕輻射散熱面層中的含量為20wt% -40wt%。
[0021]由于該耐高溫低燒蝕涂層由三層涂層構(gòu)成，首先采用刷涂工藝在復(fù)合材料基材上制備抗氧化過渡層，待其室溫固化一定時間后，再采用刷涂或空氣噴涂工藝制備吸熱低燒蝕層，待其室溫固化一定時間后，最后采用刷涂或空氣噴涂工藝制備低燒蝕輻射散熱面層，并固化一定時間。如圖1所示，具體步驟如下:
[0022]I)選用全氫硅氮烷和二氯甲烷或正丁醚配置濃度為5wt% -50wt%的全氫硅氮烷溶液；
[0023]2)將所述全氫硅氮烷溶液刷涂在基材上，每刷涂一次后靜置10?30min，待其表干后再刷涂下一次，共刷涂1-3次，全部涂刷完畢后，完成抗氧化過渡底層的制備；
[0024]3)將陶瓷前驅(qū)體樹脂粘結(jié)劑、陶瓷纖維、陶瓷粉、碳纖維、樹脂小球通過混合工藝(采用三輥磨或捏合機(jī)混合)制備出混合均勻的漿料；
[0025]4)采用刷涂或空氣噴涂的方式在已經(jīng)表干的抗氧化過渡層上制備吸熱低燒蝕中間層，該層需要室溫固化12-24h ;這一層是一次性制備完成。
[0026]5)將陶瓷前驅(qū)體樹脂粘結(jié)劑和高溫高輻射填料混合均勻，采用球磨、砂磨、或者手工研磨等工藝制備成均勻漿料；
[0027]6)然后采用刷涂或空氣噴涂的方式在已經(jīng)固化的吸熱低燒蝕中間層上制備低燒蝕輻射散熱面層，該層需要室溫固化12_24h。這一層是一次性制備完成。
[0028]實施例1
[0029]首先，用5wt%的全氫硅氮烷在復(fù)合材料基材上噴涂制備抗氧化過渡層，刷涂3次，每2次間隔1min0
[0030]其次，制備吸熱低燒蝕層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷35wt%，氧化鋯纖維25wt%,碳纖維5wt%,碳化鉿30wt%,酹醒樹脂小球5wt%,采用刷涂工藝制備該涂層,涂層厚度3mm,然后室溫固化12h。
[0031]最后，制備低燒蝕輻射散熱面層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷40wt%，碳化鉿60wt%，采用刷涂工藝，涂層厚度0.5mm，然后室溫固化12h。
[0032]該耐高溫低燒蝕涂層在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度最高250°C。
[0033]實施例2
[0034]首先，用15wt%的全氫硅氮烷在復(fù)合材料基材上噴涂制備抗氧化過渡層，刷涂3次,每2次間隔15min。
[0035]其次，制備吸熱低燒蝕層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷25wt%，氧化鋯纖維35wt%,碳纖維8wt%,硼化鉿30wt%,酹醒樹脂小球2wt%,采用噴涂工藝制備該涂層,涂層厚度0.3mm,然后室溫固化24h。
[0036]最后，制備低燒蝕輻射散熱面層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷20wt%，硼化鉿80wt%，采用噴涂工藝，涂層厚度0.5mm，然后室溫固化24h。
[0037]該耐高溫低燒蝕涂層在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度最高500°C。
[0038]實施例3
[0039]首先，用25wt%的全氫硅氮烷在復(fù)合材料基材上噴涂制備抗氧化過渡層，刷涂3次，每2次間隔20min。
[0040]其次，制備吸熱低燒蝕層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷30wt%，氧化鋯纖維25wt%,碳纖維5wt%,碳化錯35wt%,酹醒樹脂小球5wt%,采用噴涂工藝制備該涂層,涂層厚度2mm,然后室溫固化18h。
[0041]最后，制備低燒蝕輻射散熱面層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷30wt%，氧化鉿70wt%，采用噴涂工藝，涂層厚度0.05mm，然后室溫固化18h。
[0042]該耐高溫低燒蝕涂層在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度最高360°C。
[0043]實施例4
[0044]首先，用40wt%的全氫硅氮烷在復(fù)合材料基材上噴涂制備抗氧化過渡層，刷涂I次，室溫表干20min。
[0045]其次，制備吸熱低燒蝕層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷25wt%，氧化鋯纖維25wt%,碳纖維1wt硼化錯35wt%,酹醒樹脂小球5wt%,采用噴涂工藝制備該涂層,涂層厚度Imm,然后室溫固化24h。
[0046]最后，制備低燒蝕輻射散熱面層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷30wt%，碳化鉿70wt%,采用噴涂工藝，涂層厚度0.1mm,然后室溫固化24h。
[0047]該耐高溫低燒蝕涂層在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度最高420°C。
[0048]實施例5
[0049]首先，用50wt%的全氫硅氮烷在復(fù)合材料基材上噴涂制備抗氧化過渡層，刷涂I次，室溫表干30min。
[0050]其次，制備吸熱低燒蝕層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷30wt%，氧化鋯纖維30wt%,碳纖維6wt%,碳化鉿30wt%,酹醒樹脂小球4wt%,采用噴涂工藝制備該涂層,涂層厚度2.5mm,然后室溫固化12h。
[0051]最后，制備低燒蝕輻射散熱面層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷35wt%，硼化鉿65wt%，采用噴涂工藝，涂層厚度0.3mm，然后室溫固化24h。
[0052]該耐高溫低燒蝕涂層在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度最高310°C。
[0053]實施例6
[0054]首先，用30wt%的全氫硅氮烷在復(fù)合材料基材上噴涂制備抗氧化過渡層，刷涂2次，兩次間隔30min。
[0055]其次，制備吸熱低燒蝕層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷30wt%，氧化鋯纖維30wt%,碳纖維5wt%,碳化鉿32wt%,酹醒樹脂小球3wt%,采用刷涂工藝制備該涂層,涂層厚度1.5mm,然后室溫固化12h。
[0056]最后，制備低燒蝕福射散熱面層衆(zhòng)料,其原料配比為:聚娃氧氮燒35wt%,碳化鉿65wt%,采用刷涂工藝，涂層厚度0.4mm,然后室溫固化24h。
[0057]該耐高溫低燒蝕涂層在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度最高340°C。
[0058]實施例7
[0059]首先，用25wt%的全氫硅氮烷在復(fù)合材料基材上噴涂制備抗氧化過渡層，刷涂3次，每2次間隔30min。
[0060]其次，制備吸熱低燒蝕層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷35wt%，氧化鋯纖維28wt%,碳纖維5wt%,碳化鉿30wt%,酹醒樹脂小球2wt%,采用刷涂工藝制備該涂層,涂層厚度2mm,然后室溫固化12h。
[0061]最后，制備低燒蝕輻射散熱面層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷25wt%，氧化鉿75wt%,采用刷涂工藝，涂層厚度0.5mm,然后室溫固化24h。
[0062]該耐高溫低燒蝕涂層在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度最高320°C。
[0063]實施例8
[0064]首先，用25wt%的全氫硅氮烷在復(fù)合材料基材上噴涂制備抗氧化過渡層，刷涂3次，每2次間隔30min。
[0065]其次，制備吸熱低燒蝕層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷32wt%，氧化鋯纖維28wt%,碳纖維7wt%,碳化鉿30wt%,酹醒樹脂小球3wt%,采用刷涂工藝制備該涂層,涂層厚度3mm,然后室溫固化24h。
[0066]最后，制備低燒蝕輻射散熱面層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷25wt%，碳化鉿75wt%,采用刷涂工藝，涂層厚度0.2mm,然后室溫固化24h。
[0067]該耐高溫低燒蝕涂層在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度最高280°C。
[0068]實施例9
[0069]首先，用25wt%的全氫硅氮烷在復(fù)合材料基材上噴涂制備抗氧化過渡層，刷涂3次，每2次間隔30min。
[0070]其次，制備吸熱低燒蝕層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷32wt%，氧化鋯纖維28wt%,碳纖維7wt%,碳化鉿30wt%,酹醒樹脂小球3wt%,采用刷涂工藝制備該涂層,涂層厚度3mm,然后室溫固化24h。
[0071]最后，制備低燒蝕輻射散熱面層漿料，其原料配比為:聚硅氧氮烷25wt%，碳化鉿75wt%,采用刷涂工藝，涂層厚度0.2mm,然后室溫固化24h。
[0072]該耐高溫低燒蝕涂層在2000°C等離子火焰燒蝕100s，碳碳基材溫度最高280°C。
[0073]本發(fā)明說明書中未作詳細(xì)描述的內(nèi)容屬本領(lǐng)域技術(shù)人員的公知技術(shù)。
【權(quán)利要求】
1.一種耐高溫低燒蝕涂層，其特征在于包括:由內(nèi)至外的抗氧化過渡底層、吸熱低燒蝕中間層、低燒蝕輻射散熱面層，所述的抗氧化過渡底層為氧化硅層，所述的吸熱低燒蝕中間層包括25wt %?35wt %的陶瓷前驅(qū)體樹脂、25wt %?35wt %的陶瓷纖維、30wt %?35wt %的陶瓷粉、5wt %?1wt %的碳纖維、2wt %?5wt %的樹脂小球,所述的低燒蝕福射散熱面層包括20wt%? 40wtMtJ耐高溫樹脂粘結(jié)劑、60wt%? 80wt%的高溫高福射填料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐高溫低燒蝕涂層，其特征在于:所述的氧化硅層由濃度為5wt%?50wt%的全氫硅氮烷溶液制成，溶劑為二氯甲烷或正丁醚。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種耐高溫低燒蝕涂層，其特征在于:所述的陶瓷前驅(qū)體樹脂為聚硅氧氮烷。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種耐高溫低燒蝕涂層，其特征在于:所述的陶瓷纖維為氧化鋯纖維。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種耐高溫低燒蝕涂層，其特征在于:所述的陶瓷粉為硼化鋯，碳化鋯，硼化鉿，或者碳化鉿。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種耐高溫低燒蝕涂層，其特征在于:所述的碳纖維為粘膠基碳纖維。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種耐高溫低燒蝕涂層，其特征在于:所述的樹脂小球為酚醛樹脂小球。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種耐高溫低燒蝕涂層，其特征在于:所述的耐高溫樹脂粘結(jié)劑為聚硅氧氮烷。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種耐高溫低燒蝕涂層，其特征在于:所述的高溫高輻射填料為氧化鉿，碳化鉿，或者硼化鉿。
10.一種耐高溫低燒蝕涂層的制備方法，其特征在于包括如下步驟: (1)選用全氫硅氮烷作為溶質(zhì)，二氯甲烷或正丁醚作為溶劑，配置濃度為5wt% -50wt%的全氫硅氮烷溶液； (2)將制備好的全氫硅氮烷溶液刷涂在基材上，每刷涂一次后靜置10?30分鐘，待表干后再刷涂下一次，共刷涂I?3次，完成抗氧化過渡底層的制備； (3)將25wt%?35wt%的陶瓷前驅(qū)體樹脂、25wt%?35wt%的陶瓷纖維、30wt %?35wt%的陶瓷粉、5wt%?10wt%的碳纖維、2wt%?5wt%的樹脂小球通過三棍磨或者捏合機(jī)混合的方式制備出混合均勻的中間層漿料； (4)在已經(jīng)表干的抗氧化過渡層上采用刷涂或者空氣噴涂的方式涂覆中間層漿料，涂覆完畢后室溫固化12?24小時，完成吸熱低燒蝕中間層的制備； (5)將陶瓷前驅(qū)體樹脂粘結(jié)劑和高溫高輻射填料采用球磨、砂磨或者手工研磨的方式混合均勻制備成外層衆(zhòng)料； (6)在已經(jīng)固化好的吸熱低燒蝕中間層上采用刷涂或者空氣噴涂的方式涂覆外層漿料，涂覆完畢后室溫固化12?24小時，完成低燒蝕輻射散熱面層的制備。
【文檔編號】C04B35/622GK104261851SQ201410484208
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年9月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月19日
【發(fā)明者】李俊峰, 盧鵡, 羅正平, 李穎, 曾一兵, 趙立波 申請人:航天材料及工藝研究所, 中國運載火箭技術(shù)研究院