專利名稱：有機發(fā)光顯示面板及其阻隔基板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種顯示面板及其阻隔基板，特別是指一種有機發(fā)光顯示面板及其阻隔基板。
背景技術(shù)：
近年來平面顯示器朝著高亮度、平面化、輕薄以及省能源的趨勢發(fā)展，有鑒于此，有機發(fā)光(OEL)顯示裝置成為目前光電產(chǎn)業(yè)中極欲發(fā)展的方向之一。有機發(fā)光顯示裝置為一種利用有機官能性材料(organic functional materials)的自發(fā)光特性來達(dá)到顯示效果的裝置，依照有機官能性材料的分子量不同，可分為小分子有機發(fā)光顯示裝置(small molecule OLED，SM-OLED)與高分子有機發(fā)光顯示裝置(polymer light-emitting display，PLED)兩大類。
由于有機發(fā)光元件(有機官能性材料)對于水氣與氧氣非常敏感，與大氣接觸后容易產(chǎn)生暗點(Dark Spot)，所以，為了確保有機發(fā)光元件的使用壽命，如圖1所示，目前的有機發(fā)光顯示面板6利用封合膜61披覆于基板62與有機發(fā)光區(qū)63上，以隔絕水氣與氧氣入侵至有機發(fā)光區(qū)63。
另一方面，隨著可攜式電子裝置的發(fā)展，傳統(tǒng)的玻璃基板因為厚度限制(約大于0.4mm)、較重、易碎以及大尺寸制作不易等缺點，已無法滿足輕、薄、短、小的需求。所以，利用質(zhì)輕、耐沖擊、可撓曲的塑料基板來代替玻璃基板已成為目前發(fā)展的趨勢。
然而，水氣對于一般塑料基材的滲透度(約為10-1-10g/m2/day，室溫下)遠(yuǎn)大于對于玻璃基材的滲透度(10-5g/m2/day，室溫下)，因此塑料基材阻絕水氣與氧氣的能力，無法像玻璃基材對元件一樣提供足夠的保護(hù)，所以如何強化塑料基板阻絕水氣、氧氣的能力成為目前首要突破的關(guān)鍵技術(shù)之一。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足與缺陷，提供一種阻止水氣以及氧氣入侵的有機發(fā)光顯示面板及其阻隔基板。
為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種有機發(fā)光顯示面板，包含一基板、數(shù)個突部、至少一阻隔層、至少一平坦層以及至少一有機發(fā)光區(qū)，其中，突部形成于基板之上；阻隔層形成于基板與突部之上；平坦層形成于阻隔層及/或基板之上；有機發(fā)光區(qū)形成于平坦層之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素。
為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種有機發(fā)光顯示面板，包含一基板、至少一阻隔層以及至少一有機發(fā)光區(qū)，其中，阻隔層形成于基板之上，且阻隔層為無機材質(zhì)；有機發(fā)光區(qū)形成于阻隔層之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素。
為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種有機發(fā)光顯示面板，包含一基板、至少一阻隔層；以及至少一有機發(fā)光區(qū)，其中，阻隔層的至少一層以光化學(xué)氣相沉積法形成于基板之上；有機發(fā)光區(qū)形成于阻隔層之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素。
為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種阻隔基板，包含一基板、數(shù)個突部、至少一阻隔層以及至少一平坦層，其中，突部形成于基板之上；阻隔層形成于突部及/或基板之上；平坦層形成于阻隔層及/或基板之上。
為達(dá)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種阻隔基板，包含一基板以及至少一阻隔層，其中，阻隔層形成于基板之上，且阻隔層為無機材質(zhì)。
承上所述，于本發(fā)明的有機發(fā)光顯示面板及其阻隔基板中，于基板上形成有一層或是多層結(jié)構(gòu)的阻隔層。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有機發(fā)光顯示面板及其阻隔基板可以避免水氣與氧氣經(jīng)由基板入侵至有機發(fā)光區(qū)(有機發(fā)光元件)，進(jìn)而增長有機發(fā)光顯示面板的使用壽命。又，多層結(jié)構(gòu)的阻隔層能夠錯開阻隔層之間孔隙的位置，有效地補償膜層的缺陷，使得水氣的穿透路徑增長，更進(jìn)一步防止水氣與氧氣入侵到元件內(nèi)部。且，本發(fā)明中的多層阻隔層更可由具有不同楊氏模數(shù)的阻隔層所組成，將具有較低楊氏模數(shù)的阻隔層夾置于具有較高楊氏模數(shù)的阻隔層之間以產(chǎn)生緩沖的作用，藉以降低阻隔層之間的應(yīng)力。再者，利用數(shù)個突部使得阻隔層成波浪狀，此舉可以增加阻隔層與其它部分(基板與突部)的接觸面積與附著力，同時更可減少熱漲冷縮時所產(chǎn)生的應(yīng)力，當(dāng)可撓性基板彎曲變形時，所產(chǎn)生的應(yīng)力較小，阻隔層亦較不易龜裂。另外，阻隔層可利用光化學(xué)氣相沉積法形成，利用光化學(xué)氣相沉積法不僅可以在低溫(約300℃以下)下提供足夠的成膜速率，又，由于低溫所形成的膜層結(jié)構(gòu)較為松散，可減低膜層的內(nèi)應(yīng)力，更可減少膜層剝落的可能性。


圖1為現(xiàn)有有機發(fā)光顯示面板的一示意圖；圖2A與圖2B為本發(fā)明第一實施例的有機發(fā)光顯示面板的一組示意圖；圖3為本發(fā)明第二實施例的有機發(fā)光顯示面板的一示意圖；圖4為本發(fā)明第二實施例的有機發(fā)光顯示面板的另一示意圖；圖5為本發(fā)明第三實施例的有機發(fā)光顯示面板的一示意圖；圖6為本發(fā)明第四實施例的阻隔基板的一示意圖；圖7為本發(fā)明第五實施例的阻隔基板的一示意圖；圖8為本發(fā)明第五實施例的阻隔基板的另一示意圖。
圖中符號說明
1 有機發(fā)光顯示面板11基板12突部13阻隔層14平坦層15有機發(fā)光區(qū)151 像素1511 第一電極1512 有機官能層1513 第二電極16封合元件17保護(hù)層2 有機發(fā)光顯示面板21基板221、222、223、22阻隔層23有機發(fā)光區(qū)231 像素2311 第一電極2312 有機官能層2313 第二電極24封合元件25突部26平坦層3 有機發(fā)光顯示面板31基板32阻隔層33有機發(fā)光區(qū)331 像素3311 第一電極3312 有機官能層
3313 第二電極34封合元件4 阻隔基板41基板42突部43阻隔層44平坦層5 阻隔基板51基板52阻隔層53平坦層54突部6 有機發(fā)光顯示面板61封合膜62基板63有機發(fā)光區(qū)具體實施方式
以下將參照相關(guān)附圖，說明依據(jù)本發(fā)明較佳實施例的有機發(fā)光顯示面板及其阻隔基板。
第一實施例如圖2A及圖2B所示，依據(jù)本發(fā)明第一實施例的有機發(fā)光顯示面板1，至少包含一基板11、數(shù)個突部12、一阻隔層13、一平坦層14以及一有機發(fā)光區(qū)15，其中，突部12形成于基板11之上；阻隔層13形成于基板11與突部12之上；平坦層14形成于阻隔層13及/或基板11之上；有機發(fā)光區(qū)15形成于平坦層14之上，且有機發(fā)光區(qū)15具有數(shù)個像素151。
于本實施例中，基板11可以是可撓性(flexible)基板或是剛性(rigid)基板。另外，基板11為高分子基板，其中高分子可以是塑料(plastic)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)基板、聚酯(polyester，PET)基板、環(huán)烯共聚物(cyclic olefin copolymer，COC)基板或金屬鉻合物基材-環(huán)烯共聚物(metallocene-based cyclic olefin copolymer，mCOC)基板等等。
另外，如圖2A及圖2B所示，本實施例的突部12形成于基板11之上。于本實施例中，突部12相互連接(如圖2A所示)。當(dāng)然，突部12亦可以獨立設(shè)置(如圖2B所示)。
于本實施例中，突部12的材質(zhì)為防水性材料，例如但不限定為感光材料(例如光阻)或二氧化硅。
再者，本實施例的突部12的形狀可以是點塊狀或是長條塊狀等等。另外，于本實施例中，如圖2A所示，突部12的側(cè)面與基板11之間的夾角θ約大于或等于90°，其是為了避免后續(xù)所形成的阻隔層13發(fā)生不連續(xù)的情形，而使得水氣與氧氣經(jīng)由孔隙進(jìn)入。
另外，如圖2A及圖2B所示，阻隔層13形成于基板11與突部12之上。由于阻隔層13形成于突部12及/或基板11之上，使得阻隔層13呈現(xiàn)類似波浪狀的結(jié)構(gòu)，此種結(jié)構(gòu)不僅增加了阻隔層13與其它部分(突部12與基板11)之間的接觸面積以及附著力，更可減少熱漲冷縮的應(yīng)力。另外，當(dāng)基板11為可撓性基板時，基板11發(fā)生彎曲變形時，阻隔層13所產(chǎn)生的應(yīng)力較小且亦較不易龜裂。
于本實施例中，阻隔層13可利用光化學(xué)氣相沉積法形成，其中光化學(xué)氣相沉積法可以是真空紫外光(Vacuum Ultra-Violet，VUV)化學(xué)氣相沉積法。
由于光化學(xué)氣相沉積法利用光子來分解激發(fā)反應(yīng)氣體，所以反應(yīng)得以在低溫(約為300℃以下)環(huán)境進(jìn)行。另外，于本實施例中，由于光化學(xué)氣相沉積法所形成的阻隔層13結(jié)構(gòu)較為松散，可降低膜層的內(nèi)應(yīng)力，所以能夠避免阻隔層13剝離脫落。當(dāng)然，阻隔層13亦可利用濺鍍法形成。
于本實施例中，阻隔層13為無機材質(zhì)，其中，阻隔層13選自氧化硅(SiOx)、類鉆石薄膜(Diamond Like Carbon，DLC)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、三氧化二鋁(Al2O3)及金屬(包括但不限于鋁、銅、金以及銀)至少其中之一。于此，阻隔層13具有防水性，可提高有機發(fā)光顯示面板1的可靠度。
另外，再請參考圖2A與圖2B，平坦層14形成于阻隔層13及/或基板11之上。本實施例中，平坦層14用以包覆不平坦的阻隔層13，作為平坦化之用。同時，平坦層14更可包覆制程中所存在的微粒子。另外，平坦層14亦具有防水以及防氧的功能，可保護(hù)后續(xù)形成的有機發(fā)光區(qū)15不受水氣與氧氣的影響。
于本實施例中，平坦層14為無機材質(zhì)，且平坦層14選自氧化硅、類鉆石薄膜、氮化硅、氮氧化硅以及三氧化二鋁至少其中之一。
另外，再請參考圖2A及圖2B，有機發(fā)光區(qū)15具有數(shù)個像素151，像素151依序包含一第一電極1511、至少一有機官能層1512及一第二電極1513，而第一電極1511位于平坦層14之上。
于本實施例中，第一電極1511利用濺鍍(sputtering)方式或是離子電鍍(ion plating)方式形成于平坦層14上。在此，第一電極1511通常作為陽極且其材質(zhì)通常為一透明的可導(dǎo)電的金屬氧化物，例如氧化銦錫(ITO)、氧化鋁鋅(AlZnO)或是氧化銦鋅(IZO)。
另外，有機官能層1512通常包含一電洞注入層、一電洞傳遞層、一發(fā)光層、一電子傳遞層以及一電子注入層(圖中未顯示)。其中，有機官能層1512利用蒸鍍(evaporation)、旋轉(zhuǎn)涂布(spin coating)、噴墨印刷(ink jet printing)或是印刷(printing)等方式形成于第一電極1511上。此外，有機官能層1512所發(fā)射的光線可為藍(lán)光、綠光、紅光、白光、其它的單色光或單色光組合成的彩色光。
再請參考圖2A及圖2B，第二電極1513位于有機官能層1512上。于此，第二電極1513使用蒸鍍或是濺鍍(sputtering)等方法形成于有機官能層1512上。另外，第二電極1513的材質(zhì)可選自但不限定為鋁(Al)、鈣(Ca)、鎂(Mg)、銦(In)、錫(Sn)、錳(Mn)、銀(Ag)、金(Au)及含鎂的合金(例如鎂銀(Mg:Ag)合金、鎂銦(Mg:In)合金、鎂錫(Mg:Sn)合金、鎂銻(Mg:Sb)合金及鎂碲(Mg:Te)合金)等。
再請參考圖2A，本實施例的有機發(fā)光顯示面板1更包含一封合元件16，其設(shè)置于平坦層14之上。于此，封合元件16可以是蓋板，其以一黏著膠貼合于平坦層14之上。由于有機發(fā)光區(qū)15(有機發(fā)光元件)對于水分與氧氣非常敏感，在與大氣接觸后容易產(chǎn)生暗點，所以加上封合元件16以避免有機發(fā)光區(qū)15受到水分與氧氣的影響。
另外，再請參考圖2B，本實施例的有機發(fā)光顯示面板1更包含一保護(hù)層17，其披覆于有機發(fā)光區(qū)15與平坦層14之上。于此，保護(hù)層17亦用以避免有機發(fā)光區(qū)15受到水分與氧氣的影響。
第二實施例如圖3所示，依據(jù)本發(fā)明第二實施例的有機發(fā)光顯示面板2至少包含一基板21、數(shù)個阻隔層22以及一有機發(fā)光區(qū)23，其中，阻隔層22形成于基板21之上，且阻隔層為無機材質(zhì)；有機發(fā)光區(qū)23形成于阻隔層22之上，且有機發(fā)光區(qū)23具有數(shù)個像素231。
于本實施例中，阻隔層22中的至少一層可利用光化學(xué)氣相沉積法形成。當(dāng)然，阻隔層22中的至少一層亦可利用濺鍍法形成。
如上所述，利用光化學(xué)氣相沉積法所形成的阻隔層22結(jié)構(gòu)較為松散，可降低膜層的內(nèi)應(yīng)力，所以能夠避免阻隔層22剝離脫落。
于本實施例中，阻隔層22為無機材質(zhì)，其中，阻隔層22選自氧化硅、類鉆石薄膜、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁及金屬(包括但不限于鋁、銅、金以及銀)至少其中之一。于此，阻隔層22具有防水性，可進(jìn)一步提高有機發(fā)光顯示面板2的可靠度。
再者，本實施例的阻隔層22亦可同時具有防水性以及緩沖功能。例如如圖3所示，阻隔層221、223(材質(zhì)如氮化硅、氮氧化硅、類鉆石薄膜、三氧化二鋁及金屬(例如、鋁、銅、金以及銀))具有極高的防水性，能夠有效防止水氣以及氧氣的入侵；而夾置于阻隔層221、223之間的阻隔層222(材質(zhì)如氧化硅)則具有較小的機械強度，使其具有緩沖功能，能夠有效地降低阻隔層22的內(nèi)應(yīng)力。此種多層結(jié)構(gòu)能夠錯開阻隔層22之間孔隙的位置，有效地補償膜層的缺陷，另外更使得水氣的穿透路徑增長，進(jìn)一步加強防水的效果。
再請參照圖3，有機發(fā)光區(qū)23具有數(shù)個像素231，像素231依序包含一第一電極2311、至少一有機官能層2312及一第二電極2313，而第一電極2311位于阻隔層22之上。
本實施例中的基板21、有機發(fā)光區(qū)23、像素231、第一電極2311、有機官能層2312及第二電極2313的特征與功能與第一實施例中相同元件相同，在此亦不再贅述。
再請參照圖3，本實施例的有機發(fā)光顯示面板2更包含一封合元件24。
另外，本實施例的有機發(fā)光顯示面板2更包含一保護(hù)層(未示于圖中)披覆于有機發(fā)光區(qū)23與阻隔層22之上。
于本實施例中，封合元件24與保護(hù)層的特征與功能皆與第一實施例中相同元件相同，在此不再贅述。
另外，再請參考圖4，本實施例的有機發(fā)光顯示面板2更包含數(shù)個突部25，突部25形成于基板21之上。于此，突部25的特征與功能皆與第一實施例中的突部12相同，在此亦不再贅述。
另外，再請參照圖4，本實施例的有機發(fā)光顯示面板2更包含一平坦層26，平坦層26形成于阻隔層22及/或基板21與有機發(fā)光區(qū)23之間，于此，平坦層26的特征與功能與第一實施例的平坦層14的特征與功能相同，在此亦不再贅述。
第三實施例再請參考圖5，本發(fā)明第三實施例的有機發(fā)光顯示面板3至少包含一基板31、一阻隔層32以及一有機發(fā)光區(qū)33，其中，阻隔層32以光化學(xué)氣相沉積法形成于基板31之上；有機發(fā)光區(qū)33形成于阻隔層32之上，且有機發(fā)光區(qū)33具有數(shù)個像素331。
于此，像素331依序包含一第一電極3311、至少一有機官能層3312及一第二電極3313，而第一電極3311位于阻隔層32之上。
另外，如圖5所示，阻隔層32以光化學(xué)氣相沉積法形成于基板31之上。于此，其中光化學(xué)氣相沉積法可以是真空紫外光(VacuumUltra-Violet，VUV)化學(xué)氣相沉積法。如上所述，利用光化學(xué)氣相沉積法所形成的阻隔層32結(jié)構(gòu)較為松散，可降低膜層的內(nèi)應(yīng)力，所以能夠避免阻隔層32剝離脫落。再者，阻隔層32的材質(zhì)與第一實施例中的阻隔層13相同，在此亦不再贅述。
再者，本實施例中的基板31、有機發(fā)光區(qū)33、像素331、第一電極3311、有機官能層3312及第二電極3313的特征與功能皆與第一實施例中的相同元件相同，在此亦不再贅述。
再請參照圖5，本實施例的有機發(fā)光顯示面板3更包含一封合元件34。
另外，本實施例的有機發(fā)光顯示面板3更包含一保護(hù)層(未示于圖中)披覆于有機發(fā)光區(qū)33與阻隔層32之上。
于本實施例中，封合元件34與保護(hù)層的特征與功能皆與第一實施例中相同元件相同，在此不再贅述。
第四實施例如圖6所示，本發(fā)明第四實施例的阻隔基板4至少包含一基板41、數(shù)個突部42、一阻隔層43以及一平坦層44，其中，突部42形成于基板41之上；阻隔層43形成于突部42及/或基板41之上；平坦層44形成于阻隔層43及/或基板41之上。
本實施例中的基板41、突部42、阻隔層43以及平坦層44的特征與功能皆與第一實施例中的相同元件相同，在此亦不再贅述。
第五實施例如圖7所示，本發(fā)明第五實施例的阻隔基板5至少包含一基板51以及數(shù)個阻隔層52，其中，阻隔層52形成于基板51之上，且阻隔層52為無機材質(zhì)。
本實施例的基板51與阻隔層52的特征與功能皆與第二實施例中相同元件相同，在此亦不再贅述。
如圖8所示，本實施例的阻隔基板5更包含數(shù)個突部54，形成于基板51之上。
如圖8所示，本實施例的阻隔基板5更包含一平坦層53，形成于基板51及/或阻隔層52之上。
本實施例中的突部54與平坦層53的特征與功能皆與第二實施例中的相同元件相同，在此亦不再贅述。
于本發(fā)明的有機發(fā)光顯示面板及其阻隔基板中，于基板上形成有一層或是多層結(jié)構(gòu)的阻隔層。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有機發(fā)光顯示面板及其阻隔基板可以避免水氣與氧氣經(jīng)由基板入侵至有機發(fā)光區(qū)(有機發(fā)光元件)，進(jìn)而增長有機發(fā)光顯示面板的使用壽命。又，多層結(jié)構(gòu)的阻隔層能夠錯開阻隔層之間孔隙的位置，有效地補償膜層的缺陷，使得水氣的穿透路徑增長，更進(jìn)一步防止水氣與氧氣入侵到元件內(nèi)部。且，本發(fā)明中的多層阻隔層更可由具有不同楊氏模數(shù)的阻隔層所組成，將具有較低楊氏模數(shù)的阻隔層夾置于具有較高楊氏模數(shù)的阻隔層之間以產(chǎn)生緩沖的作用，藉以降低阻隔層之間的應(yīng)力。再者，利用數(shù)個突部使得阻隔層成波浪狀，此舉可以增加阻隔層與其它部分(基板與突部)的接觸面積與附著力，同時更可減少熱漲冷縮時所產(chǎn)生的應(yīng)力，當(dāng)可撓性基板彎曲變形時，所產(chǎn)生的應(yīng)力較小，阻隔層亦較不易龜裂。另外，阻隔層可利用光化學(xué)氣相沉積法形成，利用光化學(xué)氣相沉積法不僅可以在低溫(約300℃以下)下提供足夠的成膜速率，又，由于低溫所形成的膜層結(jié)構(gòu)較為松散，可減低膜層的內(nèi)應(yīng)力，更可減少膜層剝落的可能性。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇，而對其進(jìn)行的等效修改或變更，均應(yīng)包含于權(quán)利要求書的范圍中。
權(quán)利要求
1.一種有機發(fā)光顯示面板，其特征在于，包含一基板；數(shù)個突部，形成于基板之上；至少一阻隔層，形成于基板與突部之上；至少一平坦層，形成于阻隔層及/或基板之上；以及至少一有機發(fā)光區(qū)，其形成于平坦層之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素。
2.如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，基板選自剛性基板、可撓性基板及高分子基板至少其中之一。
3.如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，突部的材質(zhì)為防水性材料。
4.如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層及平坦層為無機材質(zhì)。
5.如權(quán)利要求4所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層選自氧化硅、氮化硅、類鉆石薄膜、氮氧化硅、三氧化二鋁及金屬至少其中之一。
6.如權(quán)利要求4所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，平坦層選自氧化硅、類鉆石薄膜、氮化硅、氮氧化硅以及三氧化二鋁至少其中之一。
7.如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層具有防水性。
8.如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層的至少一層以光化學(xué)氣相沉積法或所以濺鍍法形成。
9.如權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，像素依序包含一第一電極、至少一有機官能層及一第二電極。
10.一種有機發(fā)光顯示面板，其特征在于，包含一基板；至少一阻隔層，形成于基板之上，且阻隔層為無機材質(zhì)；以及至少一有機發(fā)光區(qū)，其形成于阻隔層之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素。
11.如權(quán)利要求10所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，基板選自剛性基板、可撓性基板及高分子基板至少其中之一。
12.如權(quán)利要求10所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層選自氧化硅、氮化硅、類鉆石薄膜、氮氧化硅、三氧化二鋁及金屬至少其中之一。
13.如權(quán)利要求10所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層具有防水性。
14.如權(quán)利要求10所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層的至少一層具有緩沖性。
15.如權(quán)利要求10所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，阻隔層的至少一層以光化學(xué)氣相沉積法或所以濺鍍法形成。
16.如權(quán)利要求10所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，像素依序包含一第一電極、至少一有機官能層及一第二電極。
17.如權(quán)利要求10所述的有機發(fā)光顯示面板，更包含數(shù)個突部，形成于基板與阻隔層之間。
18.如權(quán)利要求17所述的有機發(fā)光顯示面板，其中，突部的材質(zhì)為防水性材料。
19.如權(quán)利要求17所述的有機發(fā)光顯示面板，更包含至少一平坦層，形成于阻隔層及/或基板與有機發(fā)光區(qū)之間。
20.一種阻隔基板，其特征在于，包含一基板；數(shù)個突部，形成于基板之上；至少一阻隔層，形成于突部及基板之上；以及至少一平坦層，形成于阻隔層及/或基板之上。
21.如權(quán)利要求20所述的阻隔基板，其中，基板選自剛性基板、可撓性基板、玻璃基板及高分子基板至少其中之一。
22.如權(quán)利要求20所述的阻隔基板，其中，突部的材質(zhì)為防水性材料。
23.如權(quán)利要求20所述的阻隔基板，其中，阻隔層及平坦層為無機材質(zhì)。
24.如權(quán)利要求23所述的阻隔基板，其中，阻隔層選自氧化硅、類鉆石薄膜、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁及金屬至少其中之一。
25.如權(quán)利要求23所述的阻隔基板，其中，平坦層選自氧化硅、類鉆石薄膜、氮化硅、氮氧化硅以及三氧化二鋁至少其中之一。
26.如權(quán)利要求20所述的阻隔基板，其中，阻隔層具有防水性。
27.如權(quán)利要求20所述的阻隔基板，其中，阻隔層的至少一層以光化學(xué)氣相沉積法或所以濺鍍法形成。
28.一種阻隔基板，包含一基板；以及至少一阻隔層，形成于基板之上，且阻隔層為無機材質(zhì)。
29.如權(quán)利要求28所述的阻隔基板，其中，基板選自剛性基板、可撓性基板、玻璃基板及高分子基板至少其中之一。
30.如權(quán)利要求28所述的阻隔基板，其中，阻隔層選自氧化硅、類鉆石薄膜、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二鋁及金屬至少其中之一。
31.如權(quán)利要求28所述的阻隔基板，其中，阻隔層具有防水性。
32.如權(quán)利要求28所述的阻隔基板，其中，阻隔層的至少一層具有緩沖性。
33.如權(quán)利要求28所述的阻隔基板，其中，阻隔層的至少一層以光化學(xué)氣相沉積法或所以濺鍍法形成。
34.如權(quán)利要求28所述的阻隔基板，更包含數(shù)個突部，形成于基板與阻隔層之間。
35.如權(quán)利要求34所述的阻隔基板，其中，突部的材質(zhì)為防水性材料。
36.如權(quán)利要求34所述的阻隔基板，更包含至少一平坦層，形成于基板及/或阻隔層之上。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種有機發(fā)光顯示面板，包含一基板、數(shù)個突部、至少一阻隔層、至少一平坦層以及至少一有機發(fā)光區(qū)，其中，突部形成于基板之上；阻隔層形成于基板與突部之上；平坦層形成于阻隔層及/或基板之上；有機發(fā)光區(qū)形成于平坦層之上，且有機發(fā)光區(qū)具有至少一像素。
文檔編號H05B33/14GK1612649SQ20031010441
公開日2005年5月4日 申請日期2003年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月29日
發(fā)明者楊富祥, 李欣真, 吳志豪, 張毅 申請人:錸寶科技股份有限公司