一種蒸鍍掩模板及顯示基板的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種蒸鍍掩模板及顯示基板。蒸鍍掩模板包括掩模板框架、固定于掩模板框架上沿第一方向的一組第一掩模條和沿第二方向的一組第二掩模條，其中：第二掩模條與第一掩模條交叉重疊的部分嵌入第一掩模條。該技術(shù)方案減小了蒸鍍掩模板的厚度，從而改善蒸鍍不均的現(xiàn)象，相比現(xiàn)有技術(shù)，減小了掩模板陰影效應(yīng)，提高了蒸鍍品質(zhì)。
【專利說明】
一種蒸鍍掩模板及顯示基板
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示裝置制作技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種蒸鍍掩模板及顯示基板。
【背景技術(shù)】
[0002]OLED(Organic Light-Emitting D1de，有機(jī)發(fā)光二級管，簡稱0LED)顯示屏由于具有薄、輕、寬視角、主動(dòng)發(fā)光、發(fā)光顏色連續(xù)可調(diào)、成本低、響應(yīng)速度快、能耗小、驅(qū)動(dòng)電壓低、工作溫度范圍寬、生產(chǎn)工藝簡單、發(fā)光效率高及可柔性顯示等優(yōu)點(diǎn)，已被列為極具發(fā)展前景的下一代顯示技術(shù)。
[0003]OLED顯示屏在制作時(shí)，一般采用蒸鍍掩模板作為蒸鍍掩模在基板上形成蒸鍍圖案。隨著OLED技術(shù)的發(fā)展，傳統(tǒng)的蒸鍍掩模板是利用張網(wǎng)機(jī)將掩模條焊接在掩?？蚣苌现谱鞫傻模@種掩模板的掩模條在交叉處重疊設(shè)置，導(dǎo)致掩模板的厚度較大，在之后的蒸鍍等工藝制程中，容易產(chǎn)生蒸鍍不均的現(xiàn)象，蒸鍍不均勻會導(dǎo)致基板上產(chǎn)生陰影，進(jìn)而影響OLED的產(chǎn)品質(zhì)量。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型實(shí)施例的目的是提供一種蒸鍍掩模板及顯示基板，以減小掩模板陰影效應(yīng)，提尚蒸鏈品質(zhì)。
[0005]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種蒸鍍掩模板，包括掩模板框架、固定于掩模板框架上沿第一方向的一組第一掩模條和沿第二方向的一組第二掩模條，其中:所述第二掩模條與第一掩模條交叉重疊的部分嵌入所述第一掩模條。
[0006]在本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案中，第二掩模條與第一掩模條交叉重疊的部分嵌入第一掩模條，減小了蒸鍍掩模板的厚度，從而改善蒸鍍不均的現(xiàn)象，相比現(xiàn)有技術(shù)，減小了掩模板陰影效應(yīng)，提高了蒸鍍品質(zhì)。
[0007]優(yōu)選的，所述第一掩模條和第二掩模條朝向基板的一側(cè)表面位于同一平面。這樣，可以使基板與交叉重疊的掩模條之間的間距保持一致，提高了蒸鍍的均勻性。
[0008]可選的，所述第一掩模條與所述第二掩模條交叉重疊的部分具有第一凹槽，所述第二掩模條嵌入所述第一凹槽。
[0009]優(yōu)選的，所述第一掩模條的厚度為100um±lum，所述第二掩模條的厚度為50um土Ium0
[0010]可選的，所述第一掩模條與所述第二掩模條交叉重疊的部分具有第二凹槽，所述第二掩模條具有與所述第二凹槽扣合的第三凹槽。
[0011]優(yōu)選的，所述第一掩模條的厚度為100um±lum，所述第二掩模條的厚度為10um土Ium0
[0012]優(yōu)選的，相鄰的兩個(gè)第二掩模條間隔設(shè)置，所述第一掩模條位于所述相鄰的兩個(gè)第二掩模條之間的部分在背向基板的一側(cè)的邊緣具有沉向基板一側(cè)的臺階。掩模條邊緣位置的厚度對掩模板陰影效應(yīng)有較大的影響，通過設(shè)置臺階可以減小第一掩模條邊緣位置的厚度，從而進(jìn)一步減小了掩模板陰影效應(yīng)，提高了蒸鍍品質(zhì)。
[0013]優(yōu)選的，所述臺階的深度為50um±lumo
[0014]本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種顯示基板，所述顯示基板的制作應(yīng)用前述任一技術(shù)方案所述的蒸鍍掩模板。該顯示基板在制作時(shí)的蒸鍍品質(zhì)較高，顯示基板的質(zhì)量較好。
【附圖說明】
[0015]圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例蒸鍍掩模板朝向基板的一側(cè)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例蒸鍍掩模板背向基板的一側(cè)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖3為本實(shí)用新型一實(shí)施例掩模條嵌入結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖4為本實(shí)用新型另一實(shí)施例掩模條嵌入結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖5為本實(shí)用新型第三實(shí)施例第一掩膜條的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖6為本實(shí)用新型第三實(shí)施例第二掩膜條的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021 ]圖7為本實(shí)用新型第三實(shí)施例掩模條嵌入結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]附圖標(biāo)記:
[0023]10-掩?？蚣?0-第一掩模條30-第二掩模條
[0024]21-第一凹槽22-第二凹槽 23-臺階 31-第三凹槽
【具體實(shí)施方式】
[0025]為減小掩模板陰影效應(yīng)，提高蒸鍍品質(zhì)，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種蒸鍍掩模板及顯示基板。為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，以下舉實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0026]如圖1所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的蒸鍍掩模板，包括掩模板框架10、固定于掩模板框架上沿第一方向的一組第一掩模條20和沿第二方向的一組第二掩模條30，其中:第二掩模條30與第一掩模條20交叉重疊的部分嵌入第一掩模條20。
[0027]第一掩模條和第二掩模條的具體排布方向和數(shù)量不限，例如，第二掩模條可以為縱向固定于掩?？蚣苌系娜齻€(gè)掩模條，第一掩模條為橫向并排固定于掩模框架上的多個(gè)掩模條，掩模框架、第一掩模條和第二掩模條共同拼接成掩膜板本體。
[0028]在本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案中，第二掩模條30與第一掩模條20交叉重疊的部分嵌入第一掩模條20，減小了蒸鍍掩模板的厚度，從而改善蒸鍍不均的現(xiàn)象，相比現(xiàn)有技術(shù)，減小了掩模板陰影效應(yīng)，提高了蒸鍍品質(zhì)。
[0029]在本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例中，第一掩模條20和第二掩模條30朝向基板的一側(cè)表面位于同一平面。這樣，可以使基板與交叉重疊的掩模條之間的間距保持一致，提高了蒸鍍的均勻性。
[°03°]如圖1所不，在本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，第一掩模條20與第二掩模條30交叉重疊的部分具有第一凹槽21，第二掩模條30嵌入第一凹槽21。第一凹槽21的具體結(jié)構(gòu)不限，如圖3所示，第一凹槽21可以采用具有位置相對的兩個(gè)側(cè)壁和與兩個(gè)側(cè)壁連接的底壁的結(jié)構(gòu)形式;或者，如圖4所示，第一凹槽21也可以采用具有相交的側(cè)壁和底壁的結(jié)構(gòu)形式，這兩個(gè)實(shí)施例均可實(shí)現(xiàn)第二掩模條30與第一掩模條20的嵌入結(jié)構(gòu)。
[0031]采用上述圖3和圖4所示實(shí)施例時(shí)，優(yōu)選的，所用的第一掩模條20的厚度為100um±lum，第二掩模條30的厚度為50um土 lum。本申請的發(fā)明人經(jīng)過試驗(yàn)得出，50um土 Ium厚度的掩模條能夠滿足顯示基板制作過程中對掩模條的強(qiáng)度要求。
[0032]如圖5?7所示，在本實(shí)用新型的第三個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，第一掩模條20與第二掩模條30交叉重疊的部分具有第二凹槽22，第二掩模條30具有與第二凹槽22扣合的第三凹槽31。在該技術(shù)方案中，第一掩膜條20與第二掩模條30可以正交設(shè)置，在第二掩模條30嵌入第一掩膜條20時(shí)，將圖6中所示第二掩模條旋轉(zhuǎn)90°，使第二凹槽22和第三凹槽31扣合。采用該技術(shù)方案時(shí)，優(yōu)選的，第一掩模條20的厚度為100um±lum，第二掩模條30的厚度為100um±Ium0
[0033]如圖2所示，在本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例中，相鄰的兩個(gè)第二掩模條30間隔設(shè)置，第一掩模條20位于相鄰的兩個(gè)第二掩模條30之間的部分在背向基板的一側(cè)的邊緣具有沉向基板一側(cè)的臺階23。掩模條邊緣位置的厚度對掩模板陰影效應(yīng)有較大的影響，通過設(shè)置臺階23可以減小第一掩模條20邊緣位置的厚度，從而進(jìn)一步減小了掩模板陰影效應(yīng)，提高了蒸鍍品質(zhì)。
[0034]在本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例中，臺階的深度為50um±lumo
[0035]綜上，相比現(xiàn)有技術(shù)，采用本實(shí)用新型實(shí)施例提供的蒸鍍掩模板，減小了掩模板陰影效應(yīng)，提高了蒸鍍品質(zhì)。
[0036]本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種顯示基板，該顯示基板的制作應(yīng)用前述任一技術(shù)方案的蒸鍍掩模板。該顯示基板在制作時(shí)的蒸鍍品質(zhì)較高，顯示基板的質(zhì)量較好。
[0037]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種蒸鍍掩模板，其特征在于，包括:掩模板框架、固定于掩模板框架上沿第一方向的一組第一掩模條和沿第二方向的一組第二掩模條，其中:所述第二掩模條與第一掩模條交叉重疊的部分嵌入所述第一掩模條。2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模板，其特征在于，所述第一掩模條和第二掩模條朝向基板的一側(cè)表面位于同一平面。3.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩模板，其特征在于，所述第一掩模條與所述第二掩模條交叉重疊的部分具有第一凹槽，所述第二掩模條嵌入所述第一凹槽。4.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍掩模板，其特征在于，所述第一掩模條的厚度為10um±lum，所述第二掩模條的厚度為50um±lum。5.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩模板，其特征在于，所述第一掩模條與所述第二掩模條交叉重疊的部分具有第二凹槽，所述第二掩模條具有與所述第二凹槽扣合的第三凹槽。6.如權(quán)利要求5所述的蒸鍍掩模板，其特征在于，所述第一掩模條的厚度為10um±lum，所述第二掩模條的厚度為100um±lumo7.如權(quán)利要求1?6任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模板，其特征在于，相鄰的兩個(gè)第二掩模條間隔設(shè)置，所述第一掩模條位于所述相鄰的兩個(gè)第二掩模條之間的部分在背向基板的一側(cè)的邊緣具有沉向基板一側(cè)的臺階。8.如權(quán)利要求7所述的蒸鍍掩模板，其特征在于，所述臺階的深度為50um± Ium。9.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板的制作應(yīng)用如權(quán)利要求1?8任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模板。
【文檔編號】C23C14/04GK205420527SQ201620218013
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年3月18日
【發(fā)明人】張沈鈞
【申請人】合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司