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一種PCB板樹脂塞孔電鍍制作方法與流程

文檔序號(hào):12503138閱讀:911來源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及PCB板制作方法領(lǐng)域,具體是一種PCB板樹脂塞孔電鍍制作方法。



背景技術(shù):

隨著電子工業(yè)的不斷快速發(fā)展,作為電子產(chǎn)品載體的印制電路板所承載空間越來越無法滿足設(shè)計(jì)要求,因此有的多層線路板要求導(dǎo)通孔不只是起導(dǎo)通連接功能,同時(shí)孔上方還要承擔(dān)貼件功能,這提高了對(duì)線路板制作工藝的要求,傳統(tǒng)工藝無法滿足。為此有PCB板廠提出將樹脂塞孔后電鍍流程,將焊盤位置孔經(jīng)樹脂塞孔后再鍍上銅達(dá)到焊接功能的要求。目前樹脂塞孔后電鍍有以下問題:1、樹脂塞孔后直接電鍍未走除膠渣流程,鍍銅層脫落。

2、樹脂未磨平,孔上方銅層突出,焊盤不平整

3、孔未塞滿,有空洞,焊盤凹陷。

4、此處不上銅,影響貼件品質(zhì)。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的是提供一種PCB板樹脂塞孔電鍍制作方法,以解決現(xiàn)有技術(shù)PCB板樹脂塞孔后再電鍍存在的問題。

為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為:

一種PCB板樹脂塞孔電鍍制作方法,其特征在于:包括以下步驟:

(1)、首先在PCB板上壓合外層銅箔,壓合時(shí)選用JOZ或增加減銅流程,使銅箔后端減小到4—7um;

(2)、采用電鍍法在PCB的導(dǎo)通孔中鍍銅,電鍍時(shí)電流密度值設(shè)為11—15安培/平方英尺,鍍銅時(shí)間設(shè)定為25—31分鐘,鍍銅厚度在15um以內(nèi);

(3)、采用樹脂塞孔,塞孔后要求塞孔樹脂的高度達(dá)到導(dǎo)通孔的100—120%,即要求塞孔樹脂端部至少與孔端齊平;

(4)、利用陶瓷刷研磨樹脂,將樹脂超出導(dǎo)通孔孔端的部分研磨平;

(5)、化學(xué)除膠,將塞孔樹脂咬蝕成蜂窩狀;

(6)、采用電鍍法在樹脂塞孔后的導(dǎo)通孔孔端銅,電鍍時(shí)電流值設(shè)定為10—14安培/平方英尺,時(shí)間設(shè)定為56—60分鐘,且孔端上鍍銅厚度控制在13—20um。

所述的一種PCB板樹脂塞孔電鍍制作方法,其特征在于:步驟(2)中,電鍍時(shí)電流密度值優(yōu)設(shè)為13安培/平方英尺,鍍銅時(shí)間優(yōu)設(shè)為28分鐘。

所述的一種PCB板樹脂塞孔電鍍制作方法,其特征在于:步驟(6)中,電鍍時(shí)電流值優(yōu)設(shè)為12安培/平方英尺,時(shí)間優(yōu)設(shè)為58分鐘。

與已有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果體現(xiàn)在:

1、樹脂塞孔后再次電鍍,樹脂塞孔上方焊盤處銅層不會(huì)脫落。

2、產(chǎn)品孔銅,面銅厚度均可達(dá)到客戶要求。

3、客戶端上件品質(zhì)有保證,不會(huì)因焊盤不平落影響品質(zhì)。

4、樹脂塞孔電鍍,增加化學(xué)除膠流程,生產(chǎn)報(bào)廢少,有效提高PCB板廠生產(chǎn)良率。

附圖說明

圖1為本發(fā)明流程圖。

具體實(shí)施方式

如圖1所示,一種PCB板樹脂塞孔電鍍制作方法,包括以下步驟:

(1)、首先在PCB板上壓合外層銅箔,壓合時(shí)選用JOZ或增加減銅流程,使銅箔后端減小到4—7um,便于控制電鍍銅厚,為蝕刻工序生產(chǎn)提供有利條件。;

(2)、采用電鍍法在PCB的導(dǎo)通孔中鍍銅,電鍍時(shí)電流密度值設(shè)為11—15安培/平方英尺,鍍銅時(shí)間設(shè)定為25—31分鐘,鍍銅厚度在15um以內(nèi);

(3)、采用樹脂塞孔,塞孔前利用光桌檢查PCB板有無孔塞現(xiàn)象,確保不漏塞孔或孔未塞滿,塞孔后要求塞孔樹脂的高度達(dá)到導(dǎo)通孔的100—120%,即要求塞孔樹脂端部至少與孔端齊平;

(4)、利用陶瓷刷研磨樹脂,將樹脂超出導(dǎo)通孔孔端的部分研磨平,研磨后全檢是否有樹脂未研磨平或樹脂未磨干凈,有殘留,影響品質(zhì);

(5)、化學(xué)除膠,將塞孔樹脂咬蝕成蜂窩狀,有利于沉上化學(xué)銅;

(6)、采用電鍍法在樹脂塞孔后的導(dǎo)通孔孔端銅,電鍍時(shí)電流值設(shè)定為10—14安培/平方英尺,時(shí)間設(shè)定為56—60分鐘,且孔端上鍍銅厚度控制在13—20um。

步驟(2)中,電鍍時(shí)電流密度值優(yōu)設(shè)為13安培/平方英尺,鍍銅時(shí)間優(yōu)設(shè)為28分鐘。

步驟(6)中,電鍍時(shí)電流值優(yōu)設(shè)為12安培/平方英尺,時(shí)間優(yōu)設(shè)為58分鐘。

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