用于基板載具的塔的制作方法
【專利摘要】擴(kuò)散器塔組件包括具有擴(kuò)口端的擴(kuò)散器和具有偏移部和管嘴的接頭，該管嘴的尺寸適合擴(kuò)口端。該組件可以被構(gòu)造用于提供小范圍的凈化。擴(kuò)散器塔組件可以成用于翻新現(xiàn)存的前開式晶片容器的工具組的形式。入口接頭可以包括增強(qiáng)靠近多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的基部處的凈化特性以增強(qiáng)清掃基板容器的底板的結(jié)構(gòu)。本公開的實(shí)施例產(chǎn)生在開口處提供不均勻的流動(dòng)分布的不均一流動(dòng)分布。在實(shí)施例中，其中開口沿大致垂直方向，不均勻的流動(dòng)分布被修改以將比開口頂部更大的流動(dòng)速率輸送至開口的下半部。
【專利說明】用于基板載具的塔
[0001]相關(guān)申請(qǐng)
[0002]本申請(qǐng)要求2013年10月14日遞交的美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)N0.61/890,611和2014年2月17日遞交的美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)N0.61/940，744的權(quán)益，所述美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)的公開內(nèi)容通過引用整體并入本文中。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003]本公開涉及適于用于在清潔環(huán)境中存儲(chǔ)或運(yùn)輸例如半導(dǎo)體晶片的物體的可運(yùn)輸基板容器，并且更具體地，涉及用于在容器暴露于周圍環(huán)境期間凈化所述容器內(nèi)的環(huán)境的系統(tǒng)和方法。
【背景技術(shù)】
[0004]在將基板插入基板容器(例如前開式晶片容器)或從基板容器中移除基板期間，少許灰塵、氣態(tài)雜質(zhì)或增大的濕度可能被引入基板容器中，從而對(duì)存在的晶片的產(chǎn)品良率產(chǎn)生不利的影響。因此，更加需要在基板處理期間控制所述運(yùn)輸容器內(nèi)的環(huán)境以實(shí)現(xiàn)或保持較高的清潔度。
[0005]通常使用通過入口端口注入容器內(nèi)部的惰性氣體以使得容器內(nèi)的空氣通過出口端口離開來凈化基板容器內(nèi)的微環(huán)境。已設(shè)計(jì)出輸送凈化氣體進(jìn)入容器中的系統(tǒng)和方法以在容器內(nèi)提供改善的環(huán)境。參見例如授予Roberson等人(“Roberson”)的美國(guó)專利N0.6，221，163，其公開了一種用于分子污染控制的系統(tǒng)和方法，該系統(tǒng)和方法允許凈化容器至期望的相對(duì)濕度、氧氣或微粒的水平。還參見例如授予Burns等人(“Burns”)的公開號(hào)為2012/0297981的美國(guó)專利申請(qǐng)，其公開了一種凈化氣體入口端口，該凈化氣體入口端口與用于垂直分布?xì)怏w的流動(dòng)的塔配合以在微環(huán)境內(nèi)提供凈化氣體的均勻分布。
[0006]上述的參考文獻(xiàn)被設(shè)計(jì)用于控制封閉的微環(huán)境。即，實(shí)現(xiàn)基板容器的微環(huán)境控制的傳統(tǒng)的設(shè)備和方法假定裝載和卸載基板所通過的開口被訪問門密封。這些系統(tǒng)沒有解決在插入或移除基板期間(即當(dāng)訪問門被移除并且開口被保留時(shí))環(huán)境空氣侵入基板容器中的問題。即使當(dāng)周圍環(huán)境為清潔室的環(huán)境時(shí)，這樣的環(huán)境空氣的侵入縫可能對(duì)存在的基板的良率產(chǎn)生不利的影響。
[0007]此外，所述參考文獻(xiàn)沒有解決擴(kuò)散器管與凈化端口組件的面向上的接頭之間的連接問題。這樣的連接需要是堅(jiān)固的并且端口組件需要是低輪廓的以不干涉晶片槽。因此，需要一種能解決在基板容器向周圍環(huán)境開放時(shí)周圍環(huán)境侵犯的問題的改進(jìn)的凈化設(shè)備和方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本公開的各個(gè)實(shí)施例產(chǎn)生不均一的流動(dòng)分布，該不均一的流動(dòng)分布在開口處提供不均勻的流動(dòng)分布。開口處的流動(dòng)分布被修改以對(duì)抗否則可能發(fā)生的環(huán)境空氣的涌入。在一個(gè)實(shí)施例中，其中開口限定大致沿垂直方向的平面，不均勻的流動(dòng)分布被修改成使輸送至開口的底半部的流動(dòng)速率高于輸送至開口部的頂部的流動(dòng)速度。即使在基板容器的門未被密封并且從開口移除時(shí)，采用本文中公開的流速和速度分布已經(jīng)表明將基板容器內(nèi)的相對(duì)濕度基本上維持在目標(biāo)值15 %之下。
[0009]在結(jié)構(gòu)上，在一個(gè)實(shí)施例中，公開了用于輸送基板的系統(tǒng)，其包括基板容器，該基板容器包括用于基板的插入/移除的開口和適于可封閉地覆蓋所述開口的門，所述開口位于大致平行于垂直方向的平面上。擴(kuò)散器組件設(shè)置在所述基板容器中并且適于允許氣態(tài)工作流體進(jìn)入容器內(nèi)部，所述擴(kuò)散器被定向?yàn)橐龑?dǎo)所述氣態(tài)工作流體朝向所述開口以使用氣態(tài)工作流體凈化基板容器。在一個(gè)實(shí)施例中，所述擴(kuò)散器組件被構(gòu)造為與朝向開口的下半部相比以更大的速度朝向所述開口的上半部引導(dǎo)所述氣態(tài)工作流體。擴(kuò)散器可以鄰近容器的背部設(shè)置，該背部與開口相對(duì)。
[0010]所述擴(kuò)散器包括入口塔，該入口塔適于安裝至所述基板容器以允許所述氣態(tài)工作流體進(jìn)入容器的內(nèi)部。所述入口塔可以包括限定流動(dòng)入口的第一端和與所述第一端相對(duì)的盲端，所述入口塔限定內(nèi)部流動(dòng)通道，所述內(nèi)部流動(dòng)通道從所述流動(dòng)入口延伸至所述盲端，并且所述入口塔包括多孔外套筒，該多孔外套筒與所述內(nèi)部流動(dòng)通道流體連通。所述入口塔還可以包括至少一個(gè)流動(dòng)阻礙部，該至少一個(gè)流動(dòng)阻礙部沿所述內(nèi)部流動(dòng)通道設(shè)置在所述流動(dòng)入口和所述盲端之間。在一個(gè)實(shí)施例中，至少一個(gè)流動(dòng)阻礙部為流動(dòng)孔口。
[0011]實(shí)施例提供一種多孔塔擴(kuò)散器組件，該多孔塔擴(kuò)散器組件包括具有偏移部的接頭和擴(kuò)散器塔，該偏移部具有向上延伸的管嘴，并且擴(kuò)散器塔連接至所述管嘴。擴(kuò)散器塔管可以具有擴(kuò)口接頭，該擴(kuò)口接頭在面向上管嘴上延伸。在實(shí)施例中，多孔塔擴(kuò)散器組件可以設(shè)置為工具組以翻新前開式晶片容器，以提供增強(qiáng)的凈化性能。
[0012]本公開的各個(gè)實(shí)施例產(chǎn)生流動(dòng)分布，該流動(dòng)分布在移除訪問門時(shí)緊緊沿著基板容器的底板進(jìn)行清掃。底板的清掃往往對(duì)抗否則可能發(fā)生的環(huán)境空氣的涌入。
[0013]當(dāng)基板容器在微環(huán)境的前部?jī)艋瘯r(shí)，容器門被移除并且在敞開外殼的前部中存在濕空氣的向下流動(dòng)。該空氣的向下流動(dòng)往往會(huì)在下晶片槽處進(jìn)入基板容器，從而使得它們更難以凈化。此外，現(xiàn)存的與塔擴(kuò)散器連接的入口接頭經(jīng)常最小化或消除連接處的流動(dòng)。如果凈化流動(dòng)進(jìn)入擴(kuò)散器的底部(最典型的)，那么因?yàn)椴恢苯用鎸?duì)在較低晶片槽處進(jìn)入基板容器的空氣，所以該連接處的低流動(dòng)或不流動(dòng)會(huì)解決凈化較低晶片槽的挑戰(zhàn)。
[0014]因此，各個(gè)實(shí)施例公開了用于使用在較低晶片槽處增強(qiáng)的流動(dòng)凈化基板容器以有效凈化在這些位置處進(jìn)入基板容器的高氣流的結(jié)構(gòu)和方法。
[0015]在結(jié)構(gòu)上，各個(gè)實(shí)施例公開了一種用于多孔塔擴(kuò)散器組件的入口接頭，該多孔塔擴(kuò)散器組件在基板容器中使用，該入口接頭包括:基部，該基部限定穿過該基部的軸向孔；管嘴，該管嘴從所述基部的第一面延伸并且限定中心通路，該中心通路與所述基部的所述軸向孔流體連通，所述管嘴包括壁部和限定通過所述壁部的側(cè)向孔的結(jié)構(gòu)；和多孔介質(zhì)擴(kuò)散器，該多孔介質(zhì)擴(kuò)散器可操作地連接所述管嘴。所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器包括敞開式多孔側(cè)壁部并且限定擴(kuò)散器通路，該擴(kuò)散器通路沿?cái)U(kuò)散器軸線延伸進(jìn)所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器中。所述擴(kuò)散器通路在所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的近端處限定一開口并且與所述管嘴的所述中心通路同心。在一個(gè)實(shí)施例中，所述管嘴延伸進(jìn)所述擴(kuò)散器通路的所述開口中以使得所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器對(duì)著所述側(cè)向孔。
[0016]在一個(gè)實(shí)施例中，所述基部以正交于所述基部的所述第一面的第一軸線為中心，所述管嘴的所述中心通路限定大致平行于所述第一軸線的第二軸線，并且所述第二軸線與所述第一軸線徑向偏移。所述基部的所述軸向孔還可以限定大致平行于所述第一軸線的第三軸線，并且所述第三軸線與所述第一軸線和所述第二軸線徑向偏移。
[0017]在各個(gè)實(shí)施例中，所述管嘴為帶倒鉤的管嘴，該帶倒鉤的管嘴包括倒鉤部和所述壁部的錐形部，所述倒鉤部限定所述帶倒鉤的管嘴的主外徑，所述錐形部限定鄰近所述倒鉤部的減小的外徑。所述側(cè)向孔可以貫穿所述壁部的所述錐形部。在一個(gè)實(shí)施例中，環(huán)形充氣室被限定在所述倒鉤部的所述錐形部和所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的所述擴(kuò)散器通路的邊界之間，所述環(huán)形充氣室經(jīng)由所述側(cè)向孔與所述帶倒鉤的管嘴的所述中心通路流體連通。
[0018]在一些實(shí)施例中，所述管嘴的所述壁部包括形成在其外表面上的外螺紋。所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的所述近端可以包括形成在其內(nèi)表面上的內(nèi)螺紋，所述內(nèi)螺紋能夠與所述管嘴的所述外螺紋相容。
[0019]在本公開的各個(gè)實(shí)施例中，一種用于多孔塔擴(kuò)散器組件的入口接頭，該多孔塔擴(kuò)散器組件用于基板容器中，該入口接頭包括:用于安裝在所述基板容器的底板中的凈化模塊，所述凈化模塊包括具有管狀部和頂部的殼體，所述頂部包括限定貫穿其中的孔的結(jié)構(gòu)，所述孔限定一中心軸線并且以所述中心軸線為中心。聯(lián)接器可以設(shè)置在所述殼體中，所述聯(lián)接器限定貫穿通道，該貫穿通道大致以所述頂部的所述孔的所述中心軸線為中心。所述聯(lián)接器可以從接頭的殼體的頂部懸垂。這些實(shí)施例還包括多孔介質(zhì)擴(kuò)散器，該多孔介質(zhì)擴(kuò)散器具有近端，該近端可操作地連接所述聯(lián)接器并且延伸通過所述凈化模塊的所述頂部的所述孔，所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器包括敞開式多孔側(cè)壁部并且限定擴(kuò)散器通路，該擴(kuò)散器通路延伸進(jìn)所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器中，所述擴(kuò)散器通路在所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的近端處限定一開口，所述開口大致以所述孔的所述中心軸線為中心。所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的與所述孔平齊并且在所述孔的緊上方延伸的部分為多孔材料。所述聯(lián)接器可以是陰聯(lián)接器，并且可以是帶螺紋的陰聯(lián)接器。在一個(gè)實(shí)施例中，多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的近端包括在其外表面上的外螺紋，該外螺紋能夠與帶螺紋的陰聯(lián)接器相容。
【附圖說明】
[0020]圖1是在本公開實(shí)施例中的基板容器的透視圖；
[0021]圖2A和2B是進(jìn)入敞開的基板容器的環(huán)境空氣的圖示，其中(A)沒有基板存在和(B)其中分布有五個(gè)基板；
[0022]圖3A和3B是圖示環(huán)境空氣和具有傳統(tǒng)擴(kuò)散器的敞開的基板容器的內(nèi)部之間的相互作用的剖視示意圖，其中(A)利用干凈的干燥凈化氣體和(B)利用氮?dú)鈨艋瘹怏w；
[0023]圖4示出使用傳統(tǒng)擴(kuò)散器的在位于裝進(jìn)用于氮?dú)鈨艋幕迦萜髦械幕迳系牟煌恢锰帿@取的相對(duì)濕度測(cè)量數(shù)據(jù)；
[0024]圖5是現(xiàn)有技術(shù)的第一塔擴(kuò)散器組件的示意圖；
[0025]圖6是在本公開實(shí)施例中的產(chǎn)生在較低區(qū)域比較高區(qū)域中具有更大的流動(dòng)速度的流動(dòng)速度分布的塔擴(kuò)散器組件的示意圖；
[0026]圖7是在本公開的實(shí)施例中的包括作為內(nèi)部流動(dòng)限制器的流動(dòng)孔口的擴(kuò)散器的透視、截面圖；
[0027]圖8A和SB是圖示在本公開實(shí)施例中的用于(A)氮?dú)鈨艋?B)干凈的干燥空氣凈化的敞開的基板容器內(nèi)的濕度隨時(shí)間減少的圖形；
[0028]圖9A是在本公開實(shí)施例中的包括作為內(nèi)部流動(dòng)限制器的中心盤的擴(kuò)散器的透視、截面圖；
[0029]圖9B是在本公開實(shí)施例中的用于圖9A的中心盤的支撐結(jié)構(gòu)的透視圖；
[0030]圖10是在本公開實(shí)施例中的利用內(nèi)部供給管線的反向流動(dòng)擴(kuò)散器的透視圖；
[0031]圖1lA是在本公開實(shí)施例中的利用內(nèi)部供給管線的反向流動(dòng)擴(kuò)散器的透視、截面圖；
[0032]圖1lB是在本公開實(shí)施例中的圖1lA的反向流動(dòng)擴(kuò)散器的遠(yuǎn)端的局部放大圖；
[0033]圖12是采用充氣室類型的擴(kuò)散器主體的塔擴(kuò)散器組件的示意圖；
[0034]圖13是在本公開實(shí)施例中的組合擴(kuò)散器的透視圖；
[0035]圖14A-14C是在本公開實(shí)施例中的擴(kuò)散器的截面圖；
[0036]圖15A是在本公開實(shí)施例中的并聯(lián)操作的多個(gè)擴(kuò)散器的透視圖；和
[0037]圖15B是示出在本公開實(shí)施例中的基板的上升位置和圖15A的多個(gè)擴(kuò)散器的局部正視圖。
[0038]圖16A是在本公開實(shí)施例中的入口連接器的透視圖；
[0039]圖16B是圖16A的入口連接器的截面圖；
[0040]圖17A-17D是在本公開實(shí)施例中的各個(gè)管嘴構(gòu)造的正視圖；
[0041]圖18A是在本公開實(shí)施例中的入口接頭的分解透視圖；
[0042]圖18B是位于基板載具中的圖18A的入口接頭的組裝圖；
[0043]圖19是在本公開實(shí)施例中的入口接頭的截面圖；和
[0044]圖20A是前開式晶片容器的容器部的透視圖，其中一部分被移除并且具有通過連接至容器部?jī)?nèi)壁表面上的凸塊的支架安裝在其中的擴(kuò)散器塔；
[0045]圖20B是適于將擴(kuò)散器塔連接至容器部上的支架；
[0046]圖20C是具有凸塊或凸臺(tái)以及固定擴(kuò)散器塔的支架的內(nèi)壁表面的細(xì)節(jié)圖；
[0047]圖21A和21B是在本公開實(shí)施例中的具有示例性尺寸的多孔擴(kuò)散器的截面圖；
[0048]圖22圖示具有擴(kuò)散器塔的翻新工具組。
【具體實(shí)施方式】
[0049]參見圖1，在本公開的實(shí)施例中示出了用于存儲(chǔ)基板32的基板容器30?；迦萜?0包括兩個(gè)相對(duì)側(cè)部34、頂部36、底部38和背部42。底部38限定內(nèi)表面或底板40?；迦萜?0的前部44包括限定開口48的門框架46。門52適于可密封地覆蓋開口48?；迦萜?0的開口48位于大致平行于垂直方向54的平面上?；迦萜?0的特征還在于容納微環(huán)境64。
[0050]一對(duì)開槽側(cè)壁66設(shè)置在基板容器30內(nèi)，每一個(gè)開槽側(cè)壁鄰近對(duì)應(yīng)的一個(gè)側(cè)部34。開槽側(cè)壁66被對(duì)齊成使得槽彼此面對(duì)以限定多個(gè)槽位置68，并且間隔開使得一個(gè)或多個(gè)基板32支撐在其之間。為了實(shí)現(xiàn)本公開的目的，最下面的槽位置68(即最接近底部38的槽)被標(biāo)識(shí)為“第一”槽，其中槽的編號(hào)沿向上的方向增大(圖15B)。
[0051 ]基板容器30還包括至少一個(gè)擴(kuò)散器組件70，該擴(kuò)散器組件70設(shè)置在基板容器30內(nèi)并且可操作地連接至氣體源(未示出)，以便將氣態(tài)工作流體引入基板容器30中。在某些實(shí)施例中，擴(kuò)散器組件70中的一個(gè)或多個(gè)被定向?yàn)閷鈶B(tài)工作流體引向開口 48以凈化基板容器30。
[0052]參見圖2A和2B，顯示了流動(dòng)視圖72和74，其圖示了在門52被移除時(shí)環(huán)境空氣76進(jìn)入基板容器30a中?；迦萜?0a具有與基板容器30相同的多個(gè)方面，但是在獲得流動(dòng)視圖72和74時(shí)未啟動(dòng)擴(kuò)散器70。對(duì)于流動(dòng)視圖72，基板容器30a是空的(S卩，沒有基板安裝在其中)；對(duì)于流動(dòng)視圖74，基板容器30a包括從最下面的(第一)槽至最上面的槽均勻分布的5個(gè)基板。通過將煙霧介質(zhì)78引入封閉透明的基板容器30a中使得所述煙霧介質(zhì)在整個(gè)基板容器30a中變?yōu)榇笾戮鶆虻胤植紒懋a(chǎn)生流動(dòng)視圖72和74。然后通過基板容器30a的透明壁照亮煙霧介質(zhì)78。當(dāng)從基板容器30a移除門52時(shí)，環(huán)境空氣的涌入可以通過置換煙霧介質(zhì)82而被看見。因此，煙霧介質(zhì)82代表微環(huán)境64中的被調(diào)節(jié)(例如清潔、惰性和/或低濕度)氣體，而不存在煙霧介質(zhì)82的區(qū)域代表侵入的未被調(diào)節(jié)的環(huán)境空氣76。
[0053]流動(dòng)視圖72和74表示環(huán)境空氣76靠近底部38進(jìn)入基板容器78。這種趨勢(shì)在空基板容器和其中安裝有基板的基板容器中都可以被觀察到。
[0054]參見圖3A和3B，其示意性地示出以下面兩種不同的凈化氣體凈化開放式基板容器30b的凈化實(shí)驗(yàn)的定性結(jié)果:干凈的干燥空氣凈化氣體82(圖3A)和氮?dú)鈨艋瘹怏w84(圖3B)。基板容器30b具有與基板容器30相同的多個(gè)方面，其由相同編號(hào)的附圖標(biāo)記指示，并采用擴(kuò)散器組件70b，該擴(kuò)散器組件70b產(chǎn)生垂直流動(dòng)分布，該垂直流動(dòng)分布在擴(kuò)散器組件70b的遠(yuǎn)端部分或上部比近端部分或下部輸送更高的氣體速度(例如，參見圖5)。圖3A和3B的描繪通過利用借由煙/霧的可視化(類似于圖2A和2B)而被觀察，但是為清楚起見而被示意性地示出。對(duì)于所述實(shí)驗(yàn)，環(huán)境空氣76的相對(duì)濕度為約45%，而干凈的干燥空氣82和氮?dú)?4的相對(duì)濕度接近0%。氣體76、82和84的溫度為約22°C。使用兩個(gè)塔擴(kuò)散器70b，例如圖1所示，其中通過每一個(gè)擴(kuò)散器組的流速為100升/分鐘(Ipm)。
[0055]圖3A的圖示示出了當(dāng)在所述條件下使用干凈的干燥空氣82清洗基板容器30b時(shí)環(huán)境空氣76基本上被排出。干凈的干燥空氣82具有與環(huán)境空氣76大致相同的密度，或者由于沒有水蒸氣(水蒸氣具有比標(biāo)準(zhǔn)空氣的組分更輕的分子重量)而總體上甚至稍微大于環(huán)境空氣76的密度。因此，應(yīng)認(rèn)為沿基板容器30b的底部38被引入的干凈的干燥空氣82保持接近底部38的表面，由此對(duì)抗否則可能發(fā)生的環(huán)境空氣76的涌入。
[0056]相反地，圖3B的圖示示出了通過靠近底部38的擴(kuò)散器組件70b被引入的氮?dú)?4具有在氮?dú)?4接近開口 48時(shí)上升至侵入環(huán)境空氣76的趨勢(shì)，從而對(duì)環(huán)境空氣76的阻擋是局部的而不是基本上完全的。環(huán)境空氣76包括分子質(zhì)量大于氮?dú)獾慕M分(例如氧氣)。因此，應(yīng)相信的是，沿基板容器30b的底部38引入的密度較大的環(huán)境空氣76保持接近底部38的表面，所以在圖3B的實(shí)驗(yàn)的條件下環(huán)境空氣76的涌入不會(huì)被有效阻擋。
[0057]參見圖4，示出當(dāng)使用氮?dú)?4作為氣態(tài)工作流體時(shí)量化侵入基板容器30b中的濕度的圖形90和92。多個(gè)空白盤94a至94f中每一個(gè)尺寸都適于代表基板，并且在中心、前邊緣、后邊緣和側(cè)邊緣處每一個(gè)都裝備有相對(duì)濕度指示器。然后基板94a至94f被裝入槽I至3(槽I是最下面的槽，而槽2和3是位于最下面的槽上方的相鄰的兩個(gè)槽)、槽6(位于開槽側(cè)壁66的高度的約1/4處)、槽13(位于開槽側(cè)壁66的高度的約1/2處)和槽25(基板容器30b的最上面的槽)。然后利用處于適當(dāng)位置中的盤并且利用氮?dú)?4作為氣態(tài)工作流體進(jìn)行實(shí)驗(yàn)(S卩，重復(fù)針對(duì)圖3B討論的實(shí)驗(yàn)條件)。重復(fù)進(jìn)行該實(shí)驗(yàn)以證明結(jié)果的可重復(fù)性。兩組數(shù)據(jù)均示出在圖4中。
[0058]圖4中示出的結(jié)果顯示駐留在槽1-3和6中的盤94a至94d被檢測(cè)到具有比槽13和25中的盤大致更高的相對(duì)濕度水平。盤94a至94d—致包括高于20%以及在某些示例中高于30 %的相對(duì)濕度指示。相反地，盤94e和94f具有一致低于20 %的相對(duì)濕度指示，其中除一個(gè)讀數(shù)之外均低于15%。
[0059]因此，應(yīng)相信的是，傳統(tǒng)擴(kuò)散器以及產(chǎn)生圖4中示出的結(jié)構(gòu)的其它凈化操作條件產(chǎn)生的速度分布不足以將基板容器30b維持在低于15%相對(duì)濕度的濕度水平。
[0060]參見圖5，解釋了現(xiàn)有技術(shù)中的標(biāo)準(zhǔn)塔擴(kuò)散器組件100的動(dòng)力學(xué)。擴(kuò)散器組件100的特征在于具有恒定的內(nèi)部流動(dòng)橫截面102、沿?cái)U(kuò)散器組件100的流動(dòng)長(zhǎng)度106的均勻出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)104(例如，均勻的孔隙率和厚度)以及使流動(dòng)橫截面102終止的盲端108 ο假設(shè)進(jìn)入并且穿過擴(kuò)散器組件100的凈化氣體112不可壓縮(S卩，總壓力相對(duì)低)并且絕熱，使得流動(dòng)可以由伯努利方程表征:
[0061 ] Ptotal =P1+Q1=P1+1/2DDDV12 Eq.(I)
[0062]Ptotal =P2+Q2 = P2+1/2D □ DV22 Eq.(2)
[0063]其中，Ptotal是總壓力(在整個(gè)擴(kuò)散器組件100中基本上恒定)，P1是擴(kuò)散器組件100中的位置I處的靜態(tài)壓力，Ql是位置I處的動(dòng)態(tài)壓力，□是駐留氣體的密度(在整個(gè)擴(kuò)散器組件100中基本上恒定)，V1是位置I處的內(nèi)部流速，P2是擴(kuò)散器組件100中的位置2處的靜態(tài)壓力，Q2是位置2處的動(dòng)態(tài)壓力，V2是位置2處的內(nèi)部流速，并且位置2處于位置I的下游。圖5的描繪還示出出口速度VI’和V2’(即氣體分別在位置I和2處離開擴(kuò)散器的速度)和圍繞擴(kuò)散器組件100的環(huán)境壓力Po。
[0064]擴(kuò)散器組件100的另一特征在于出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)104被構(gòu)造為使出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)104兩端的壓降DP相對(duì)于靜態(tài)壓力Pl和P2不顯著。
[0065]已觀察到，對(duì)于擴(kuò)散器組件100，出口速度V2’大于出口速度VI ’。應(yīng)相信的是，隨著凈化氣體112的流動(dòng)流接近盲端108，內(nèi)部流動(dòng)速度變慢，從而內(nèi)部流動(dòng)速度Vl大于內(nèi)部流動(dòng)速度V2，由此導(dǎo)致動(dòng)態(tài)壓力Ql大于動(dòng)態(tài)壓力Q2。因?yàn)镻total恒定，所以動(dòng)態(tài)壓力Ql相對(duì)于動(dòng)態(tài)壓力Q2較高會(huì)使靜態(tài)壓力Pl相對(duì)于靜態(tài)壓力P2減小。因?yàn)槌隹谒俣萔I’和V2’分別由靜態(tài)壓力Pl和P2驅(qū)動(dòng)，所以出口速度VI’將小于出口速度V2’。因此，傳統(tǒng)擴(kuò)散器組件100的速度分布產(chǎn)生沿流動(dòng)長(zhǎng)度106增加的不均勻的出口速度分布114(即，在靠近基板容器30的盲端的上端或遠(yuǎn)端處比靠近基板容器30的底部38的下端或近端處產(chǎn)生更高的速度)。
[0066]參見圖6，示出擴(kuò)散器組件140包括本公開某些實(shí)施例的特征。擴(kuò)散器組件140的導(dǎo)向原則是使內(nèi)部流動(dòng)特征顛倒以使得V2大于Vl，由此產(chǎn)生其中VI’大于V2’的速度分布142。以此方式，氣態(tài)工作流體以比通過開口 48的上半部58更大的力和動(dòng)量橫掃基板容器30的底部38并且掃過開口 48的下半部56。下面是被構(gòu)造為實(shí)現(xiàn)該動(dòng)力學(xué)的各種實(shí)施例。
[0067]參見圖7，在本公開實(shí)施例中示出了包括內(nèi)部流動(dòng)限制器162的擴(kuò)散器組件160。擴(kuò)散器組件160包括由內(nèi)部流動(dòng)限制器162分隔開的近端段164和遠(yuǎn)端段166。每一段都包括具有限定出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)174(例如開放式多孔結(jié)構(gòu)或多個(gè)孔口)的壁172的擴(kuò)散器主體168，該出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)174能夠使氣態(tài)工作流體通過擴(kuò)散器主體168徑向離開。
[0068]在一個(gè)實(shí)施例中，擴(kuò)散器主體168由通過美國(guó)佐治亞州Fariburn的Porex公司供應(yīng)的商品名為TUB-5 361的POREX多孔聚乙烯材料制成。該商品的特征包括I / 2英寸的標(biāo)稱外徑、0.29英寸的標(biāo)稱內(nèi)徑、以及出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)174，該出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)174包括15-30 的平均空隙尺寸和30%-40% (包括30%和40%在內(nèi))范圍內(nèi)的孔隙率。應(yīng)理解的是，盡管對(duì)于本文中提出的各種研究和實(shí)驗(yàn)結(jié)果中都利用了本擴(kuò)散器主體，但是所利用的POREX管的具體結(jié)構(gòu)僅是代表性的而非限制性的。
[0069]出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)174可以在各個(gè)段164或166的整個(gè)長(zhǎng)度上是均勻的，或在兩個(gè)段164和166上是均勻的。擴(kuò)散器主體168還可以限定流動(dòng)橫截面175，流動(dòng)橫截面175在各個(gè)段164或166的整個(gè)長(zhǎng)度上是均勻的和/或在兩個(gè)段164和166上是均勻的。遠(yuǎn)端段166在遠(yuǎn)端176處被盲端178蓋住。盲端178可以但不必是實(shí)心且不可滲透的。在一個(gè)實(shí)施例中，內(nèi)部流動(dòng)限制器162包括流動(dòng)孔口 182，如圖7所示。
[0070]在功能上，流動(dòng)孔口182在擴(kuò)散器組件160的近端段164和遠(yuǎn)端段166之間引發(fā)壓頭損失。壓頭損失會(huì)使遠(yuǎn)端段166內(nèi)的總壓力PT2相對(duì)于近端段164內(nèi)的總壓力PTl減小。伴隨著總壓力PT2減小，遠(yuǎn)端段166中的靜態(tài)壓力PS2相對(duì)于近端段164中的靜態(tài)壓力PSl減小。因此，如上所述，遠(yuǎn)端段166的靜態(tài)壓力的減小導(dǎo)致離開遠(yuǎn)端段166的流動(dòng)的出口速度V2’相對(duì)于近端段164的出口速度Vl，的減小。以此方式，接近基板容器30的底部38的出口速度Vl，大于在基板容器30的上部中流動(dòng)的出口速度V2 ’。
[0071]參見圖8A和SB，在本公開的實(shí)施例中示出展示擴(kuò)散器組件160的功效的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的圖形202和204。兩個(gè)圖形202和204示出時(shí)間相對(duì)于類似于基板容器30的基板容器內(nèi)的相對(duì)濕度，其中門54被移除并且利用擴(kuò)散器組件160凈化基板容器并且將相對(duì)濕度維持在15%以下。圖形202中示出的結(jié)果基于氮?dú)鈨艋粓D形204中的結(jié)果基于干凈的干燥空氣凈化。產(chǎn)生兩組數(shù)據(jù)的實(shí)驗(yàn)利用兩個(gè)擴(kuò)散器(如圖1所示)，每一個(gè)擴(kuò)散器輸送10lpm的氣態(tài)工作流體至基板容器中。兩個(gè)圖形202和204還示出來自位于晶片容器的槽3和槽6中所裝備的盤的前部位置的數(shù)據(jù)。因?yàn)橹С炙龉ぷ魉M(jìn)行的各種其他測(cè)試表明在霧可視化和相對(duì)濕度測(cè)試中凈化下部晶片槽位置中的前部位置是最具挑戰(zhàn)性的，所以選擇這些盤位置和基板容器槽位置。
[0072]對(duì)于每一個(gè)實(shí)驗(yàn)，晶片載具30的門52打開并且使微環(huán)境充滿具有45%的相對(duì)濕度的環(huán)境空氣76(通常為用于基板處理的清潔室)。在兩個(gè)圖形202和204中，氣態(tài)工作流體在大約300秒處經(jīng)由擴(kuò)散器160被引入圖形中。無論采用哪種氣態(tài)工作流體，槽6處的盤都顯示大致穩(wěn)定單調(diào)的相對(duì)濕度的減小。當(dāng)利用干凈的干燥空氣作為氣態(tài)工作流體(圖SB)時(shí)，槽3處的盤也單調(diào)減小。這些數(shù)據(jù)在600秒的時(shí)間標(biāo)記處(S卩，在引入氣態(tài)工作流體之后約300秒)全部接近O %的相對(duì)濕度。
[0073]用于氮?dú)鈨艋牟?處的盤不會(huì)單調(diào)地減小，且相對(duì)濕度也不接近0%。相反，槽3前部處的相對(duì)濕度有點(diǎn)不穩(wěn)定，其表明有環(huán)境空氣間歇地侵入打開的基板容器中。
[0074]然而，該結(jié)果表明擴(kuò)散器組件160起到令人滿意的作用。相對(duì)濕度會(huì)在進(jìn)入凈化循環(huán)不到10秒時(shí)達(dá)到15%的目標(biāo)相對(duì)濕度閾值以下并且在此之后不會(huì)再超過15%的相對(duì)濕度標(biāo)記。因此，圖形202和204的數(shù)據(jù)證實(shí)了擴(kuò)散器組件160在將氮?dú)饣蚋蓛舻母稍锟諝庥米鳉鈶B(tài)工作流體時(shí)的功效。
[0075]參見圖9A和9B，在本公開的實(shí)施例中示出了采用流動(dòng)限制器原理的擴(kuò)散器組件190。擴(kuò)散器組件190包括單個(gè)擴(kuò)散器主體192，由入口桿組件196支撐的中心盤194插入該單個(gè)擴(kuò)散器主體192中。擴(kuò)散器主體192可以包括與擴(kuò)散器組件160的近端段164和遠(yuǎn)端段166相同的多個(gè)屬性(例如，限定出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)的壁、具有均勻流動(dòng)橫截面的內(nèi)部流動(dòng)通道、盲端)。中心盤194和入口桿組件196與擴(kuò)散器主體192配合以限定限制流動(dòng)且引發(fā)壓頭損失的半環(huán)形通道198。因此，擴(kuò)散器組件190在與擴(kuò)散器組件160相同的原理下運(yùn)行，并且可以在出口速度的分布中產(chǎn)生相同的“臺(tái)階”。
[0076]應(yīng)注意的是，擴(kuò)散器組件160和擴(kuò)散器組件190都不局限于單個(gè)內(nèi)部流動(dòng)限制器。SP，多個(gè)限定限制器(未示出)可以被用來沿所述擴(kuò)散器組件160和180的長(zhǎng)度產(chǎn)生一系列減小的壓力，由此產(chǎn)生多臺(tái)階的外部速度分布。
[0077]參見圖10，在本公開實(shí)施例中示出了反向流動(dòng)擴(kuò)散器組件220。反向流動(dòng)擴(kuò)散器組件220包括擴(kuò)散器主體222，該擴(kuò)散器主體222具有近端224和遠(yuǎn)端224并且包括限定出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)232(例如，敞開的多孔結(jié)構(gòu)或多個(gè)孔)的壁228，該出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)232使氣態(tài)工作流體通過擴(kuò)散主體222徑向離開。在一個(gè)示例以及非限制性的實(shí)施例中，擴(kuò)散器主體222由如上所述的POREX多孔聚乙烯材料形成或具有與其類似的特征。
[0078]具有近端236和遠(yuǎn)端238的供給管線234鄰近并且大致平行于擴(kuò)散器主體222定位。與擴(kuò)散器主體222不同，供給管線234的結(jié)構(gòu)不利于穿過其的徑向流動(dòng)；相反，供給管線234的壁是實(shí)心的，以使得進(jìn)入近端236的流動(dòng)流240從遠(yuǎn)端238離開。
[0079]擴(kuò)散器主體222的遠(yuǎn)端236和供給管線234的遠(yuǎn)端238例如通過U形接頭242流體連通。入口接頭244可以連接至擴(kuò)散器主體222和供給管線234的近端224和236。在圖示的實(shí)施例中，入口接頭244與供給管線234的近端236流體連通，同時(shí)在擴(kuò)散器主體222的近端224處提供盲端246。接頭244還可以適用于連接于在基板容器30的底部38處形成的端口(未示出)中。
[0080]在操作中，凈化氣體246被引入入口接頭244中，入口接頭244將凈化氣體246導(dǎo)引入供給管線234中。凈化氣體通過供給管線234和U形接頭242，流動(dòng)在此處反向并且進(jìn)入擴(kuò)散器主體222的遠(yuǎn)端226。然后凈化氣體246經(jīng)由出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)232通過壁228徑向離開擴(kuò)散器主體222。
[0081 ]在功能上，對(duì)于具有類似于上述POREX多孔聚乙烯材料的特征的擴(kuò)散器主體222，相對(duì)于盲端246離開擴(kuò)散器主體222的速度分布可以類似于圖5中的相對(duì)于盲端108的速度分布114。然而，流動(dòng)流240的反向?qū)е孪鄬?duì)于擴(kuò)散器組件220的入口的速度分布的反向。即，對(duì)于反向流動(dòng)的擴(kuò)散器主體220，鄰近擴(kuò)散器主體222的盲端246(即近端224)的高速度在鄰近基板容器30的底部38處高于鄰近頂部36的速度，以使得氣態(tài)工作流體利用比穿過開口 48的上半部58更大的力和動(dòng)量離開基板容器30的開口 48的下半部56。
[0082]參見圖1IA和IIB，在本公開實(shí)施例中示出了反向流動(dòng)擴(kuò)散器組件260。反向流動(dòng)擴(kuò)散器組件260包括與反向流動(dòng)擴(kuò)散器組件220相同的多個(gè)屬性，其由相同編號(hào)的附圖標(biāo)記指示。結(jié)構(gòu)上，反向流動(dòng)擴(kuò)散器組件260與反向流動(dòng)擴(kuò)散器組件220的不同之處在于供給管線234位于內(nèi)側(cè)并且與擴(kuò)散器主體222以中心軸線262為中心以在供給管線234和擴(kuò)散器主體222之間限定環(huán)形流動(dòng)通道264。而且，擴(kuò)散器主體222的近端224包括終止環(huán)形流動(dòng)通道264的塞266，并且擴(kuò)散器主體222的遠(yuǎn)端226包括盲端268，供給管線234的盲端238與盲端266軸向偏移。
[0083]在功能上，盲端268用來使離開供給管線234的流動(dòng)流240反向并且將其軸向重新引導(dǎo)入環(huán)形流動(dòng)通道264(圖11B)中。塞266實(shí)際上是環(huán)形流動(dòng)通道264的盲端，以使得進(jìn)入環(huán)形流動(dòng)通道264的凈化氣體經(jīng)由出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)232徑向離開擴(kuò)散器主體222。流動(dòng)流240的反向和由塞266在擴(kuò)散器主體222的近端224處提供的阻擋使離開擴(kuò)散器主體222的速度分布具有與反向流動(dòng)擴(kuò)散器組件220的速度分布類似的特性。
[0084]上述所公開的實(shí)施例基于沿?cái)U(kuò)散器主體的長(zhǎng)度的靜態(tài)壓力的改變的原理產(chǎn)生不均勻的流動(dòng)分布。然而，通過改變?cè)搫?dòng)力學(xué)，可以修改擴(kuò)散器主體來基于不同的遠(yuǎn)離提供需要的流動(dòng)分布，在本文中被稱為如下文描述的“充氣室填充效應(yīng)(plenum chargeeffect)，，ο
[0085]參見圖12，示出采用充氣室型擴(kuò)散器主體282的塔擴(kuò)散器組件280。擴(kuò)散器主體282與擴(kuò)散器主體168、192和222之間的一個(gè)不同之處在于充氣室型擴(kuò)散器主體282的出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)284被構(gòu)造為使得穿過其124的壓降DP大致大于靜態(tài)壓力Pl和P2。這樣，擴(kuò)散器組件120用作充氣室，在該充氣室內(nèi)，軸向速度Vl和V2較小以使得總壓力Ptotal以及靜態(tài)壓力Pl和P2基本上相同。因此，當(dāng)沿內(nèi)部流動(dòng)流的靜態(tài)壓力改變不顯著時(shí)會(huì)促進(jìn)“充氣室填充效應(yīng)”。
[0086]—種實(shí)施充氣室填充效應(yīng)的方式是利用充氣室類型的擴(kuò)散器主體282，其中充氣室類型的擴(kuò)散器主體282的孔隙率相對(duì)于擴(kuò)散器主體168、192和222的孔隙率減小，由此增加對(duì)徑向流出物的阻力。另一種方式是使充氣室型擴(kuò)散器主體282的壁的厚度相對(duì)于擴(kuò)散器主體168、19 2和2 2 2的壁的厚度增加，這也增加了對(duì)徑向流出物的阻力。可以將開孔直徑的尺寸減小至相同的效果。又一種方式是使充氣室型擴(kuò)散器主體282的內(nèi)部流動(dòng)橫截面相對(duì)于擴(kuò)散器主體168、192和222的內(nèi)部流動(dòng)橫截面增大，由此對(duì)于給定的體積流動(dòng)速率減小流動(dòng)流的速度。可以單獨(dú)地或組合地改變這些參數(shù)以產(chǎn)生需要的充氣室填充效應(yīng)。
[0087]將充氣室型擴(kuò)散器主體282視為具有恒定的內(nèi)部流動(dòng)橫截面284、沿其長(zhǎng)度均勻的出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)284(例如，均勻的孔隙率和厚度)和使流動(dòng)橫截面284終止的盲端288。對(duì)于促進(jìn)充氣室填充效應(yīng)的塔擴(kuò)散器組件280，徑向離開充氣室型擴(kuò)散器主體282的出口速度分布292將基本上是均勻的。因此，需要進(jìn)行其它修改來影響不均勻的速度分布。下文將描述采用這樣的其它修改的充氣室填充型實(shí)施例。
[0088]參見圖13，在本公開實(shí)施例中示出了分段式充氣室型擴(kuò)散器組件300。分段式充氣室型擴(kuò)散器組件300包括近端302、盲遠(yuǎn)端304、以及如圖所示的三個(gè)段306a、306b和306c，所述三個(gè)段306a、306b和306c經(jīng)由沿中心軸線312的中心通道308流體連通。中心通道308可以沿組件300的長(zhǎng)度限定相同的流動(dòng)橫截面。然而，在一個(gè)實(shí)施例中，段306a、306b和306c每一個(gè)都產(chǎn)生充氣室填充效應(yīng)并且每一個(gè)都被構(gòu)造為具有獨(dú)特的出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)314a、314b和314c;即，段306a、306b和306c中的每一個(gè)都具有開口尺寸、開口幾何形狀和孔隙率的獨(dú)特組合，以使得對(duì)于段306a、306b和306c中的每一個(gè)來說對(duì)徑向流出物的阻力都不相同。
[0089]為了影響在近端302處(即最接近基板容器30的底部38的位置處)比在遠(yuǎn)端304處輸送更高速度的出口流動(dòng)速度分布316，出口流動(dòng)結(jié)構(gòu)314a、314b和314c被修改以使得對(duì)徑向流出物的阻力對(duì)于段306c最大，而對(duì)于段306a最小，并且對(duì)于段306b的徑向流出物的阻力落入二者之間。
[0090]應(yīng)注意的是，對(duì)三個(gè)段306a、306b和306c的描述不是限制性的，而是僅代表多個(gè)段。在其它實(shí)施例中可以采用更多或更少的段。
[0091]參見圖14A、14B和14C，分別示出了在本公開的多個(gè)實(shí)施例中的充氣室型擴(kuò)散器組件320、340和360。充氣室型擴(kuò)散器組件320、340和360的開孔尺寸、開孔幾何形狀和孔隙率可以沿其各自的流動(dòng)長(zhǎng)度322、342和362恒定。另一方面，組件320、340和360分別利用沿其各自的長(zhǎng)度322、342和362變化的流動(dòng)橫截面324、344和364。充氣室型擴(kuò)散器組件320和340還采用沿其各自的長(zhǎng)度322和342變化的厚度326和346。
[0092]在功能上，充氣室型擴(kuò)散器組件320在近端328處具有比遠(yuǎn)端332處更大的流動(dòng)橫截面324和更薄的壁。借助這樣的幾何結(jié)構(gòu)，出口速度分布334可以在近端328處具有比遠(yuǎn)端332處更高的速度。具有近端348和遠(yuǎn)端352并且產(chǎn)生出口速度分布534的充氣室型擴(kuò)散器組件340以相同的原理運(yùn)行，但是流動(dòng)橫截面344的改變呈離散的階梯的形式，而不是呈錐形流動(dòng)橫截面324幾何形狀的形式。對(duì)于具有近端368、遠(yuǎn)端372并且產(chǎn)生出口速度分布374的充氣室型擴(kuò)散器組件360，壁厚基本上恒定，以使得對(duì)沿其長(zhǎng)度的徑向流動(dòng)的阻力的變化主要依賴于流動(dòng)橫截面364的變化。
[0093]參見圖15A和15B，在本公開實(shí)施例中示出了多擴(kuò)散器組件380。多擴(kuò)散器組件380包括三個(gè)單獨(dú)的擴(kuò)散器主體382a、382b和382c，每一個(gè)都具有近端384a、384b和384c，近端384a、384b和384c可操作地連接至各個(gè)入口管386a、386b和386c，并且每一個(gè)都具有盲遠(yuǎn)端388a、388b和388c。
[0094]在一個(gè)實(shí)施例中，每一個(gè)擴(kuò)散器主體382a、382b和382c都被構(gòu)造為充氣室型擴(kuò)散器主體，使得每一個(gè)都產(chǎn)生如圖12所示的均勻的速度流動(dòng)分布。然而，對(duì)于每一個(gè)擴(kuò)散器來說，對(duì)徑向流出物的阻力都不同。在一個(gè)實(shí)施例中，擴(kuò)散器主體382c展示出對(duì)徑向流出物的高阻力，擴(kuò)散器主體382a展示出對(duì)徑向流出物的低阻力，并且擴(kuò)散器主體382b展示出對(duì)徑向流出物的阻力落入二者之間。利用最接近基板容器30的下部38的擴(kuò)散器主體382a，氣態(tài)工作流體橫過底部38進(jìn)行清掃并使用比通過開口 48的上半部58(圖1)更大的力和動(dòng)量掃過基板容器30的開口 48的下半部56。
[0095]在另一實(shí)施例中，擴(kuò)散器主體382a、382b和382c每一個(gè)都被構(gòu)造為產(chǎn)生不均勻的速度流動(dòng)分布，例如圖5中所示。盡管這樣的設(shè)置沒必要在緊鄰底部38處提供最高的速度，但是擴(kuò)散器主體382a仍可以被修改以產(chǎn)生大于由擴(kuò)散器主體382b和382c輸出的標(biāo)稱速度的標(biāo)稱速度。以此方式，氣態(tài)工作流體橫過底部38進(jìn)行清掃并使用比通過開口 48的上半部58更大的力和動(dòng)量掃過基板容器30的開口 48的下半部56。
[0096]在其它實(shí)施例中，每一個(gè)擴(kuò)散器主體382a、382b和382c都被構(gòu)造為反向流動(dòng)擴(kuò)散器組件，例如圖10或11中所示。擴(kuò)散器主體382a可以被修改以產(chǎn)生大于由擴(kuò)散器主體382b和382c輸出的標(biāo)稱速度的標(biāo)稱速度。以此方式，氣態(tài)工作流體橫過底部進(jìn)行清掃并使用比通過開口 48的上半部58更大的力和動(dòng)量掃過基板容器30的開口 48的下半部56。這樣的設(shè)置還在緊鄰底部38的位置處提供最高的速度，以增強(qiáng)清掃作用。
[0097]在一些實(shí)施例中，入口386a、386b和386c可以分別與流動(dòng)閥(未示出)流體連通，該流動(dòng)閥可以被調(diào)節(jié)以增加或減小流過各個(gè)擴(kuò)散器主體382a、382b和382c的相對(duì)流動(dòng)速率。即使在每一個(gè)擴(kuò)散器主體382a、382b和382c都具有相同的出口流動(dòng)特征的構(gòu)造中，流動(dòng)速率的調(diào)節(jié)仍可以在多擴(kuò)散器組件380的長(zhǎng)度上產(chǎn)生變化的出口速度分布。
[0098]圖15B的圖示還展示出相對(duì)于基板容器30的頂部36和底部38的槽位置的順序。
[0099]應(yīng)注意的是，三個(gè)擴(kuò)散器主體382a、382b和382c的圖示不是限制性的，而僅代表多個(gè)擴(kuò)散器主體。在其它實(shí)施例中可以使用更多或更少的擴(kuò)散器主體。
[0100]上述擴(kuò)散器組件全部為“塔式”擴(kuò)散器。還可以利用其它類型的擴(kuò)散器。例如，可以沿基板容器30的背部42設(shè)置充氣室型擴(kuò)散器腔室(未示出)，例如以具有鄰近基板的內(nèi)壁部分的雙重壁的形式設(shè)置。內(nèi)壁可以是多孔的或包括孔或排氣槽。孔隙率/孔密度可以沿內(nèi)壁的高度變化以使得在靠近基板容器30的底部38處對(duì)流動(dòng)的阻力小于靠近頂部36處對(duì)流動(dòng)的阻力。通過與擴(kuò)散器腔室流體連通并且穿過基板容器30的底部38的多個(gè)端口，可以促進(jìn)充氣室型擴(kuò)散器腔室的填充。
[0101]參見圖16A、16B和16C，描繪了多孔塔擴(kuò)散器組件399的實(shí)施例和部件。在本公開的一個(gè)實(shí)施例中示出了用于與被構(gòu)造為管狀塔的多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402連接的入口接頭400。入口接頭400包括基部404，基部404限定穿過基部404的軸向孔408，軸向孔408以孔軸線409為中心。管嘴406從基部404的第一面410延伸，管嘴406包括近端411和遠(yuǎn)端413，并且限定穿過管嘴的中心通路412，該中心通路412與基部404的軸向孔408流體連通。在一個(gè)實(shí)施例中，管嘴406包括壁部414，該壁部414具有限定側(cè)向孔416的結(jié)構(gòu)，該側(cè)向孔416穿過壁部414。入口接頭可以利用卡口型連接而連接至連接部418中的上插口(socket)417，在該卡口型連接中，凸塊419接合插口中的槽420。彈性構(gòu)件421被固定在下插口 423中以便與凈化噴嘴接合。該彈性構(gòu)件可以被構(gòu)造為如圖所示的墊圈(grommet)并且可以具有定位在其中的通孔425.2中的止回閥425。連接部可以是前開式晶片容器的容器部的一體部件。
[0102]在各個(gè)實(shí)施例中，多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402可以可操作地與管嘴406連接。多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402可以包括限定敞開式多孔結(jié)構(gòu)424的壁422，從而能夠使氣態(tài)工作流體通過多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402徑向離開。多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402可以由POREX多孔聚乙烯材料形成或具有與其類似的特性。
[0103]多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402可以限定擴(kuò)散器通路426，該擴(kuò)散器通路426沿?cái)U(kuò)散器軸線428延伸進(jìn)多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402中。擴(kuò)散器通路426可以在多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402的近端434處限定開口 432，開口 432與所述管嘴406的中心通路412同心。多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402可以包括在近端434處發(fā)熱擴(kuò)口部427，該擴(kuò)口部具有大于多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402遠(yuǎn)端處的內(nèi)徑和/或外徑。管嘴406延伸進(jìn)擴(kuò)散器通路426的開口432中，以使多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402對(duì)著側(cè)向孔416。
[0104]在一些實(shí)施例中，管狀部431從基部404的第二面433懸垂，第二面433與基部404的第一面410相對(duì)。在各個(gè)實(shí)施例中，基部404以正交于基部404的第一面410的第一軸線436為中心。管狀部可以限定入口端口 437，該入口端口 427也以第一軸線436為中心。管嘴406的中心通路412可以限定第二軸線438，該第二軸線438大致平行于第一軸線436。在一個(gè)實(shí)施例中，第二軸線438與第一軸線436徑向偏移。
[0105]在一個(gè)實(shí)施例中，管嘴406是帶倒鉤的管嘴406a，其包括在管嘴406a的遠(yuǎn)端413處的倒鉤部442、和壁部414的錐形部444，倒鉤部442限定帶倒鉤的管嘴406a的主外徑446，并且錐形部444在鄰近倒鉤部442處限定局部最小外徑448。側(cè)向孔416穿過壁部414的錐形部444。環(huán)形充氣室452被限定在倒鉤部442的錐形部444與多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402的擴(kuò)散器通路426的邊界454之間，環(huán)形充氣室452經(jīng)由側(cè)向孔416與帶倒鉤的管嘴406a的中心通路412流體連通。在各個(gè)實(shí)施例中，例如O形環(huán)的彈性帶456連接在多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402的近端434附近，以幫助將多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402固定至管嘴406。
[0106]參見圖17A至17D，示出了具有從基部404的第一面410延伸的管嘴406的其它公開的實(shí)施例。此處，附圖標(biāo)記406總體地或共同地指代一個(gè)或多個(gè)管嘴406，而后面緊跟字母后綴的附圖標(biāo)記406(例如406a)指代本公開的一個(gè)特定的管嘴。各個(gè)管嘴406所共有的方面以相同編號(hào)的附圖標(biāo)記指不。在一個(gè)實(shí)施例中，管嘴406a包括形成在管嘴406a的壁部416的外表面464上的外螺紋462，其中至少一個(gè)側(cè)向孔416穿過外螺紋462(圖17A)。在另一實(shí)施例中，管嘴406c也包括外螺紋462和至少一個(gè)側(cè)向孔416，并具有從至少一個(gè)側(cè)向孔416延伸的通道466，以經(jīng)由通道466橫向穿過外螺紋462至管嘴406c的遠(yuǎn)端443(圖17B)。在另一實(shí)施例中，管嘴406d包括限定槽472的結(jié)構(gòu)，該槽472從至少一個(gè)側(cè)向孔416延伸穿過管嘴的遠(yuǎn)端443(圖17C)。在一個(gè)實(shí)施例中，管嘴406e相對(duì)于其他管嘴406變短，并且膠接接頭或焊接接頭474設(shè)置在多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402的近端434和入口接頭400之間(圖17D)。
[0107]在各個(gè)實(shí)施例中，并且通過非限制性示例，側(cè)向孔416可以具有3mm-12mm范圍內(nèi)的直徑，并且其中心可以位于正交于基部404的第一面410的一距離處，該距離在3mm-15mm之間(包括3mm和15mm)。對(duì)于圖17D的管嘴406e，遠(yuǎn)端413可以位于正交于基部404的第一面410的一距離處，該距離在3mm-15mm之間(包括3mm和15mm)。
[0108]在各個(gè)實(shí)施例中，O形環(huán)476安置在管嘴416的近端411處。O形環(huán)476可以接觸外表面464和基部404的第一面410兩者，如圖16B所示。在一些實(shí)施例中，凸面478形成或設(shè)置在管嘴406的近端411處，如圖17C和17D所示。在某些實(shí)施例中，多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402的擴(kuò)散器通路426的邊界454包括限定內(nèi)螺紋482的結(jié)構(gòu)，該內(nèi)螺紋482被構(gòu)造為與外螺紋462配合。
[0109]參見圖18A和18B，在本公開實(shí)施例中示出了入口接頭486。入口接頭486包括與入口接頭400相同的多個(gè)方面，其由相同編號(hào)的附圖標(biāo)記標(biāo)示。代替管嘴，入口接頭486包括軸環(huán)部488，該軸環(huán)部488包圍軸向孔408并且從基部404的第一面410軸向延伸，軸環(huán)部488包括近端部490和遠(yuǎn)端部492，遠(yuǎn)端部492限定容納多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402的開口 494。在一個(gè)實(shí)施例中，軸環(huán)部488包括一個(gè)或多個(gè)孔495。在一個(gè)實(shí)施例中，0形環(huán)496設(shè)置在位于軸環(huán)部488的內(nèi)表面498上的壓蓋497內(nèi)。還可以采用墊片499以在入口接頭486與基板容器30的底部38之間提供密封。
[0110]在功能上，與不包括側(cè)向孔或變短管嘴的傳統(tǒng)凈化塔相比，圖16A-16C、圖17A至17C和圖18A-18B的各個(gè)實(shí)施例的一個(gè)或多個(gè)孔416和495以及圖17D的變短管嘴406e使空氣更靠近晶片容器30的底部38的表面40進(jìn)入多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402。
[0111]管嘴406a至406d以及軸環(huán)部488可以提供足夠的支承表面484，擴(kuò)散器通路426的邊界454可以抵靠支承表面484對(duì)齊以牢固地固定多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402，而不會(huì)松動(dòng)或傾倒。管嘴406e的膠接接頭或焊接接頭474可以補(bǔ)償管嘴406e相對(duì)于其他管嘴406a至406d而言減小的支承表面。當(dāng)然，某些實(shí)施例(未示出)可以包括與膠接接頭組合的更長(zhǎng)且具有開孔的管嘴。
[0112]安裝在管嘴406b的基部處的O形環(huán)476可以用來對(duì)齊多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402的近端434。0形環(huán)476還可以被壓縮在多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402的近端434與入口接頭400之間，由此在內(nèi)螺紋482和外螺紋462之間提供偏壓力，該偏壓力會(huì)在操作中減小多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402在螺紋式管嘴406(即管嘴406b、406c和406d)上的旋轉(zhuǎn)。被壓縮的O形環(huán)476還可以提供密封以阻止氣體軸向流出多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402的近端434和開口 432。
[0113]參見圖19，在本公開的實(shí)施例中示出了包括具有入口接頭504的凈化模塊502的多孔塔擴(kuò)散器組件500。凈化模塊502可以包括具有管狀部508和頂部512的殼體506，頂部512包括限定穿過其的孔514的結(jié)構(gòu)。凈化模塊502可以被構(gòu)造以安裝在基板容器30的底部38中，以使得頂部512與底部38的內(nèi)表面40大致平齊?？?14限定中心軸線516并且以中心軸線516為中心。在一個(gè)實(shí)施例中，殼體506也以孔514的中心軸線516為中心。凈化模塊502可以包括止回閥518，該止回閥518允許流進(jìn)基板容器30中同時(shí)禁止或阻止流出基板容器30。凈化模塊502還可以包括過濾器組件520，該過濾器組件520過濾通過其的氣體。此外，接合凈化噴嘴的彈性構(gòu)件521可以被構(gòu)造為彈性管狀部521.2和一體式隔膜部521.4，該隔膜部521.4具有連接至管狀部521.2的中心孔521.7。管狀部被密封地夾緊在組件內(nèi)并且隔膜部從其向內(nèi)延伸，以為凈化噴嘴提供彈性安置表面。接合具有開孔的隔膜部的凈化噴嘴位于孔和管狀部之間。
[0114]聯(lián)接器522設(shè)置在殼體506內(nèi)，聯(lián)接器522限定貫通通道524。在一個(gè)實(shí)施例中，貫通通道524以頂部512的孔514的中心軸線516大致為中心。多孔介質(zhì)擴(kuò)散器526具有近端528，該近端528可操作地連接聯(lián)接器522并且延伸通過凈化模塊502的頂部508的孔514，多孔介質(zhì)擴(kuò)散器526限定延伸進(jìn)多孔介質(zhì)擴(kuò)散器526中的擴(kuò)散器通路532。擴(kuò)散器通路532在多孔介質(zhì)擴(kuò)散器526的近端528處限定開口534。在一個(gè)實(shí)施例中，開口534大致以孔514的中心軸線516為中心。
[0115]多孔介質(zhì)擴(kuò)散器526包括壁、開放式多孔側(cè)壁部536(“多孔”被限定為使氣態(tài)工作流體通過多孔介質(zhì)擴(kuò)散器526徑向離開的敞開式多孔結(jié)構(gòu))。在一個(gè)實(shí)施例中，多孔介質(zhì)擴(kuò)散器526的多孔側(cè)壁部536延伸通過孔514和/或在孔514緊上方延伸，以使得多孔側(cè)壁部536緊鄰基板容器30的底部38的內(nèi)表面40。
[0116]在一些實(shí)施例中，聯(lián)接器522為陰聯(lián)接器并且可以包括內(nèi)螺紋538(如圖所示)。在一個(gè)實(shí)施例中，多孔介質(zhì)擴(kuò)散器526的近端528可以包括在其外表面544上的外螺紋542，外螺紋542能夠與內(nèi)螺紋538相容。在一個(gè)實(shí)施例中，聯(lián)接器522可以從殼體506的頂部512懸垂;在其它實(shí)施例中，聯(lián)接器522可以從管狀部508和/或從過濾器組件520懸置。
[0117]在功能上，將多孔側(cè)壁部536設(shè)置為緊鄰基板容器30的底部38的內(nèi)表面40使得離開多孔側(cè)壁部536的空氣對(duì)內(nèi)表面40進(jìn)行清掃的功效高于在內(nèi)表面40上方更高處發(fā)出的凈化流對(duì)內(nèi)表面40進(jìn)行清掃的功效。在一些實(shí)施例中，底部38對(duì)于殼體506來說具有足夠的厚度以限定在不需要替換或重新設(shè)計(jì)止回閥518的情況下允許入口接頭504整合的高度。
[0118]管狀部508可以被構(gòu)造用于連接基板容器30的底部38，并且還可以容納允許僅沿一個(gè)方向(即，流進(jìn)或流出基板容器30)流動(dòng)的止回閥。
[0119]圖20A、20B和20C圖示擴(kuò)散器塔600，該擴(kuò)散器塔600利用支架608而被安裝至前開式晶片容器的容器部604，該支架608被固定至例如凸塊或凸臺(tái)612的容器部結(jié)構(gòu)。塔支架具有夾緊部614，該夾緊部614的尺寸適于將管狀擴(kuò)散器彈性地固定在其中。
[0120]參見圖21A和21B，在本公開實(shí)施例中示出具有非限制性尺寸的多孔介質(zhì)擴(kuò)散器402A。該非限制性尺寸以英寸示出，其中括號(hào)內(nèi)的值以毫米為單位。擴(kuò)口部427示出為具有標(biāo)稱為9.27mm的內(nèi)徑427.1和標(biāo)稱為14.61mm的外徑427.2。在各個(gè)非限制性實(shí)施例中，內(nèi)徑427.1可以在9-10mm之間，并且外徑427.2可以在14-16mm之間。在各個(gè)非限制性實(shí)施例中，內(nèi)徑427.1可以在5-15111111之間，并且外徑427.2可以在7-20111111之間。在非限制性實(shí)施例中，擴(kuò)散器的壁厚可以在2-4_之間。過濾器可以由燒結(jié)聚合物或燒結(jié)陶瓷形成。
[0121]在各個(gè)非限制性實(shí)施例中，內(nèi)徑427.1可以在5-15mm之間，并且外徑427.2可以在10_20mm 之間。
[0122]參見圖22，圖示翻新工具組700，其提供擴(kuò)散器702、接頭704和包裝712。也可以提供用于指導(dǎo)安裝的書面說明706。
[0123]上述公開的擴(kuò)散器組件全部為“塔式”擴(kuò)散器。也可以采用其他類型的擴(kuò)散器。例如，可以沿基板容器30的背部42設(shè)置充氣型擴(kuò)散器腔室(未示出)，例如呈具有鄰近基板的內(nèi)壁部的雙重壁的形式。內(nèi)壁可以為多孔的或包括孔或排氣槽。孔隙率/孔密度可以沿內(nèi)壁的高度變化以使得對(duì)靠近基板容器30的底部38的流動(dòng)的阻力小于對(duì)靠近頂部36的流動(dòng)的阻力。通過與擴(kuò)散器腔室流體連通的并且穿過基板容器30的底部38的多個(gè)端口，可以促進(jìn)充氣室型擴(kuò)散器腔室的填充。
[0124]上文引用的下述參考文獻(xiàn)被本專利申請(qǐng)的
【申請(qǐng)人】所有，并且除其中包含的明確定義之外其通過引用被并入本文中:授予Rober son等人的美國(guó)專利N0.6,221,163和授予Burns等人的公開號(hào)為N0.2012/0297981的美國(guó)專利申請(qǐng)。
[0125]此外，本文中包含的參照“實(shí)施例(多個(gè)實(shí)施例)”、“本公開的實(shí)施例(多個(gè)實(shí)施例)”和“所公開的實(shí)施例(多個(gè)實(shí)施例)”指代本專利申請(qǐng)的不視為現(xiàn)有技術(shù)的說明書(包括權(quán)利要求的文本和附圖)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種在前開式晶片容器中使用的多孔塔擴(kuò)散器組件，該擴(kuò)散器組件包括: 入口接頭，該入口接頭具有基部、一體式偏移部和一體式面向上管嘴； 多孔塔，該多孔塔被構(gòu)造成為燒結(jié)聚合物管狀部和擴(kuò)口下部，該擴(kuò)口下部能夠接合或接合在所述面向上管嘴上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，還包括用于接合凈化噴嘴的彈性墊圈和尺寸適于裝配在墊圈中的通孔內(nèi)的止回閥。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，所述多孔塔擴(kuò)散器組件被構(gòu)造為翻新工具組，并且還包括容納入口接頭和多孔塔的包裝。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，還包括書面說明。5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，還包括用于與朝向遠(yuǎn)離擴(kuò)口下部的部分相比增加朝向擴(kuò)口下部的凈化的裝置。6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中所述多孔塔包括具有不同孔隙率的至少兩個(gè)不同部分。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中高孔隙率部比低孔隙率部更靠近所述多孔塔的接頭端定位。8.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中所述多孔塔包括具有對(duì)徑向流出物的阻力的至少兩個(gè)不同部分。9.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中面向上管嘴具有多個(gè)倒鉤。10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中面向上管嘴具有孔，并且其中當(dāng)多孔塔安置在接頭上時(shí)，一環(huán)形空間被限定在所述孔處，并且其中所述孔位于環(huán)形空間處，藉此凈化氣體能夠從擴(kuò)口部被分散。11.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中面向上管嘴具有尺寸適于與多孔塔過盈配合的螺紋或多個(gè)倒鉤。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，包括在管嘴中的徑向孔，并且管嘴的尺寸適于僅向上延伸至大約前開式晶片容器中的第一晶片。13.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，所述多孔塔擴(kuò)散器組件與前開式晶片容器組合。14.根據(jù)權(quán)利要求5-13中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，所述多孔塔擴(kuò)散器組件與前開式晶片容器組合。15.—種在前開式晶片容器中使用的多孔塔擴(kuò)散器組件，該擴(kuò)散器組件包括: 入口接頭，該入口接頭具有基部和一體式面向上管嘴； 多孔塔，該多孔塔被構(gòu)造成為燒結(jié)聚合物管狀部和下部，該下部能夠接合或接合在面向上管嘴上； 多孔塔部，該多孔塔部包括具有對(duì)凈化氣體的徑向流出物的不同阻力的至少兩個(gè)不同的部分。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中面向上管嘴具有尺寸適于與多孔塔過盈配合的螺紋或多個(gè)倒鉤。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，包括在管嘴中的徑向孔。18.根據(jù)權(quán)利要求15、16、17或18所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，所述多孔塔擴(kuò)散器組件與前開式晶片容器和相同的第二多孔塔擴(kuò)散器組件組合。19.一種前開式晶片容器，包括容器部，該容器部具有前開口和密封地閉合該前開口的門，所述容器部具有底壁，所述前開口式晶片容器還包括: 入口接頭，該入口接頭具有基部、一體式偏移部和一體式面向上管嘴，所述接頭安置在底壁中的孔處； 多孔塔，該多孔塔被構(gòu)造成為燒結(jié)聚合物管狀部和具有較大直徑部的下部，該下部接合在面向上管嘴上。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的前開式晶片容器，其中管嘴具有倒鉤、螺紋、徑向孔中的一個(gè)，并且其中一環(huán)形延伸空間在徑向孔處被限定在管嘴和多孔塔之間。21.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，還包括用于與朝向遠(yuǎn)離擴(kuò)口下部的部分相比增加朝向擴(kuò)口下部的凈化的裝置。22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的前開式晶片容器，還包括另一個(gè)入口接頭，該另一個(gè)入口接頭具有基部、一體式偏移部和一體式面向上管嘴，該另一個(gè)入口接頭安置在底壁中的另一個(gè)孔處； 另一個(gè)多孔塔，該另一個(gè)多孔塔被構(gòu)造成為燒結(jié)聚合物管狀部和擴(kuò)口下部，該擴(kuò)口下部接合在面向上管嘴上。23.—種用于前開式晶片容器的凈化翻新工具組，該工具組包括: 具有擴(kuò)口端的多孔介質(zhì)擴(kuò)散器； 具有管嘴以容納擴(kuò)口端的入口接頭;和 容納多孔介質(zhì)擴(kuò)散器和入口接頭的包裝。24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的凈化翻新工具組，還包括彈性墊圈和止回閥。25.根據(jù)權(quán)利要求23或24所述的凈化翻新工具組，其中入口接頭具有偏移部。26.根據(jù)權(quán)利要求23所述的凈化翻新工具組，其中接頭和管嘴的尺寸適于僅向上延伸至大約前開式晶片容器中的第一晶片。27.—種用于多孔塔擴(kuò)散器組件的入口接頭，該多孔塔擴(kuò)散器組件用于基板容器中，該入口接頭包括: 基部，該基部限定穿過該基部的軸向孔； 管嘴，該管嘴從所述基部的第一面延伸并且限定中心通路，該中心通路與所述基部的所述軸向孔流體連通，所述管嘴包括壁部和限定穿過所述壁部的側(cè)向孔的結(jié)構(gòu);和 多孔介質(zhì)擴(kuò)散器，該多孔介質(zhì)擴(kuò)散器能夠與所述管嘴操作地連接，所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器包括敞開的多孔側(cè)壁部并且限定一擴(kuò)散器通路，該擴(kuò)散器通路沿?cái)U(kuò)散器軸線延伸到所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器中，所述擴(kuò)散器通路在所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的近端處限定一開口并與所述管嘴的所述中心通路同心， 其中所述管嘴延伸到所述擴(kuò)散器通路的所述開口中以使得所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器對(duì)著所述側(cè)向孔。28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的入口接頭，還包括管狀部，該管狀部從所述基部的第二面懸垂，所述第二面與所述基部的所述第一面相對(duì)。29.根據(jù)權(quán)利要求27所述的入口接頭，其中: 所述基部以正交于所述基部的所述第一面的第一軸線為中心； 所述管嘴的所述中心通路限定大致平行于所述第一軸線的第二軸線;和 所述第二軸線與所述第一軸線徑向偏移。30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的入口接頭，其中: 所述基部的所述軸向孔限定大致平行于所述第一軸線的第三軸線;和所述第三軸線與所述第一軸線和所述第二軸線徑向偏移。31.根據(jù)權(quán)利要求27所述的入口接頭，其中: 所述管嘴為帶倒鉤的管嘴，該帶倒鉤的管嘴包括倒鉤部和所述壁部的錐形部，所述倒鉤部限定所述帶倒鉤的管嘴的主外徑，所述錐形部限定鄰近所述倒鉤部的減小的外徑； 所述側(cè)向孔貫穿所述壁部的所述錐形部;和 環(huán)形充氣室被限定在所述倒鉤部的所述錐形部和所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的所述擴(kuò)散器通路的邊界之間，所述環(huán)形充氣室經(jīng)由所述側(cè)向孔與所述帶倒鉤的管嘴的所述中心通路流體連通。32.根據(jù)權(quán)利要求27所述的入口接頭，其中所述管嘴的所述壁部包括形成在該壁部的外表面上的外螺紋。33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的入口接頭，其中所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的所述近端包括形成在該近端的內(nèi)表面上的內(nèi)螺紋，所述內(nèi)螺紋能夠與所述管嘴的所述外螺紋相容。34.根據(jù)權(quán)利要求27所述的入口接頭，其中所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器包括在所述近端處的擴(kuò)口部。35.—種用于多孔塔擴(kuò)散器組件的入口接頭，該多孔塔擴(kuò)散器組件用于基板容器中，該入口接頭包括: 用于安裝在所述基板容器的底板中的凈化模塊，所述凈化模塊包括具有管狀部和項(xiàng)部的殼體，所述項(xiàng)部包括限定貫穿該項(xiàng)部的孔的結(jié)構(gòu)，所述孔限定一中心軸線并且以所述中心軸線為中心； 設(shè)置在所述殼體中的聯(lián)接器，所述聯(lián)接器限定一貫穿通道，該貫穿通道大致以所述頂部的所述孔的所述中心軸線為中心;和 多孔介質(zhì)擴(kuò)散器，該多孔介質(zhì)擴(kuò)散器具有近端，該近端能夠與所述聯(lián)接器操作地連接并延伸通過所述凈化模塊的所述頂部的所述孔，所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器包括敞開的多孔側(cè)壁部并且限定一擴(kuò)散器通路，該擴(kuò)散器通路延伸到所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器中，所述擴(kuò)散器通路在所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的近端處限定一開口，所述開口大致以所述孔的所述中心軸線為中心， 其中所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的與所述孔平齊并且在所述孔緊上方延伸的部分為多孔材料。36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的入口接頭，其中所述聯(lián)接器為陰聯(lián)接器。37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的入口接頭，其中所述陰聯(lián)接器為帶螺紋的陰聯(lián)接器。38.根據(jù)權(quán)利要求37所述的入口接頭，其中所述多孔介質(zhì)擴(kuò)散器的所述近端包括在該近端的外表面上的外螺紋，所述外螺紋能夠與所述帶螺紋的陰聯(lián)接器相容。39.一種用于輸送基板的系統(tǒng)，包括: 基板容器，該基板容器包括用于基板的插入/移除的開口和適于能夠密封地覆蓋所述開口的門，所述開口在大致平行于垂直方向的平面上； 擴(kuò)散器組件，該擴(kuò)散器組件設(shè)置在所述基板容器中并且適于允許氣態(tài)工作流體進(jìn)入所述基板容器的內(nèi)部，所述擴(kuò)散器被定向?yàn)橐龑?dǎo)所述氣態(tài)工作流體朝向所述開口以使用氣態(tài)工作流體凈化基板容器，所述擴(kuò)散器組件被構(gòu)造為與朝向所述開口的上半部相比以更高的速度朝向所述開口的下半部引導(dǎo)所述氣態(tài)工作流體。40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的系統(tǒng)，其中所述擴(kuò)散器鄰近所述基板容器的背部設(shè)置，所述背部與所述開口相對(duì)。41.根據(jù)權(quán)利要求39所述的系統(tǒng)，其中所述擴(kuò)散器包括入口塔，該入口塔適于安裝至所述基板容器以允許所述氣態(tài)工作流體進(jìn)入所述基板容器的內(nèi)部，所述入口塔包括限定流動(dòng)入口的第一端和與所述第一端相對(duì)的盲端，所述入口塔限定從所述流動(dòng)入口延伸至所述盲端的內(nèi)部流動(dòng)通道并包括與所述內(nèi)部流動(dòng)通道流體連通的多孔外套筒。42.根據(jù)權(quán)利要求39所述的系統(tǒng)，其中所述入口塔包括至少一個(gè)流動(dòng)阻礙部，該至少一個(gè)流動(dòng)阻礙部沿所述內(nèi)部流動(dòng)通道設(shè)置在所述流動(dòng)入口和所述盲端之間。43.根據(jù)權(quán)利要求39-42中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中所述入口塔具有至少兩個(gè)不同的部分，該至少兩個(gè)不同的部分每一個(gè)都具有相對(duì)于另一部分對(duì)徑向流出物的不同阻力。44.根據(jù)權(quán)利要求39-42中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中所述塔具有至少兩個(gè)不同的部分，該至少兩個(gè)不同的部分每一個(gè)都具有相對(duì)于另一部分不同的孔隙率。45.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中接頭和管嘴的尺寸適于延伸至大約前開式晶片容器中的最下面的晶片。46.一種前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，該多孔塔擴(kuò)散器組件包括: 入口接頭，該入口接頭具有基部、一體式偏移部和一體式面向上管嘴;和 多孔塔，該多孔塔被構(gòu)造成為燒結(jié)聚合物管狀部和擴(kuò)口下部，該擴(kuò)口下部能夠接合或接合在面向上管嘴上。47.根據(jù)權(quán)利要求46所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，還包括用于接合凈化噴嘴的彈性墊圈和尺寸適于裝配在墊圈中的通孔中的止回閥。48.根據(jù)權(quán)利要求46所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，還包括如另外的入口接頭和多孔塔。49.根據(jù)權(quán)利要求46-48中任一項(xiàng)所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，還包括用于與朝向遠(yuǎn)離擴(kuò)口下部的部分相比增加朝向擴(kuò)口下部的凈化的裝置。50.根據(jù)權(quán)利要求46-48中任一項(xiàng)所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中所述多孔塔包括具有不同孔隙率的至少兩個(gè)不同部分。51.根據(jù)權(quán)利要求6所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中高孔隙率部分比低孔隙率部分更靠近多孔塔的接頭端定位。52.根據(jù)權(quán)利要求46-48中任一項(xiàng)所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中所述多孔塔包括具有對(duì)徑向流出物的阻力的至少兩個(gè)不同部分。53.根據(jù)權(quán)利要求46-48中任一項(xiàng)所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中面向上管嘴具有多個(gè)倒鉤。54.根據(jù)權(quán)利要求53所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中面向上管嘴具有一孔，并且其中當(dāng)多孔塔安置在接頭上時(shí)，一環(huán)形空間被限定在所述孔處，并且其中所述孔位于環(huán)形空間處，藉此凈化氣體能夠從擴(kuò)口部被分散。55.根據(jù)權(quán)利要求46-48中任一項(xiàng)所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，其中面向上管嘴具有尺寸適于與多孔塔過盈配合的螺紋或多個(gè)倒鉤。56.根據(jù)權(quán)利要求55所述的前開式晶片容器中的多孔塔擴(kuò)散器組件，包括在管嘴中的徑向孔，并且管嘴的尺寸適于僅向上延伸至大約前開式晶片容器中的第一且最下面的晶片。
【文檔編號(hào)】H01L21/02GK105900217SQ201480064391
【公開日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2014年10月14日
【發(fā)明人】馬克·V·史密斯, 克里斯多弗·比蒂, 穆拉里·班德瑞迪
【申請(qǐng)人】安格斯公司