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多電極可見光通訊發(fā)光器件及其制備方法

文檔序號:10537000閱讀:320來源:國知局
多電極可見光通訊發(fā)光器件及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種多電極可見光通訊發(fā)光器件及其制備方法,該器件依次包括N型半導體層、絕緣層、多量子阱層和P型半導體層,所述P型半導體層上刻有絕緣槽,以絕緣槽為邊界,P型半導體層分為外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層,所述外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層分別沉積有若干個電極,所述絕緣層上也沉積有若干個電極,外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層上的電極通過金線分別與絕緣層上的電極連接,分別給內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層通入直流驅(qū)動電流源和高頻電流源,或分別通入高頻電流源和直流驅(qū)動電流源。
【專利說明】
多電極可見光通訊發(fā)光器件及其制備方法
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及光電器件技術領域,具體涉及一種多電極可見光通訊發(fā)光器件及其制備方法。
【背景技術】
[0002]基于發(fā)光二極管的可見光通訊技術,結(jié)合了發(fā)光二極管照明功能和可調(diào)制的特點,它作為照明光源的同時提供無線網(wǎng)絡覆蓋的功能。可見光作為載波,受到高頻數(shù)字信號的調(diào)制,光探測器將接收到的光信號轉(zhuǎn)換為電信號,實現(xiàn)以可見光作為載體的通訊方式?;谄湔彰魍ㄓ崈捎玫奶攸c,可見光通訊技術在街道路燈、商場等需要同時提供照明和無線網(wǎng)絡覆蓋的場所有很大的應用前景,另外飛機飛行過程中,利用衛(wèi)星信號調(diào)制機艙內(nèi)的可見光通訊光源,可實現(xiàn)無線覆蓋,使得飛行過程中的網(wǎng)絡連接成為可能。
[0003]目前,照明通訊兩用的發(fā)光器件的調(diào)制速率比較低,對于高速信號無法響應;通信級的輸入信號強度普遍較弱,實現(xiàn)通訊的同時,照明強度并不理想。因此,有必要在照明強度方面做一些研究,注重通訊速率的同時也要兼顧照明需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是解決現(xiàn)有技術的缺陷,提供一種多電極可見光通訊發(fā)光器件,采用的技術方案如下:
一種多電極可見光通訊發(fā)光器件,依次包括N型半導體層、絕緣層、多量子阱層和P型半導體層,所述P型半導體層上刻有絕緣槽,以絕緣槽為邊界,P型半導體層分為外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層,所述外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層分別沉積有若干個電極,所述絕緣層上也沉積有若干個電極,外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層上的電極通過金線分別與絕緣層上的電極連接,分別給內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層通入直流驅(qū)動電流源和高頻電流源,或分別通入高頻電流源和直流驅(qū)動電流源。
[0005]分別給內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層通入直流驅(qū)動電流源和高頻電流源,使得器件在發(fā)射高頻信號的同時,照明發(fā)光區(qū)域能夠正常工作,彌補了現(xiàn)有可見光通信器件發(fā)光強度弱而不能滿足照明需求的不足,實現(xiàn)照明通信雙功能。另外,通過多點注入電流,且外層電極分布接近邊緣,改善了傳統(tǒng)發(fā)光器件中電流密度過于集中的現(xiàn)象,增加了有源區(qū)注入電流的均勻性,提高了發(fā)光效率,同時提高了器件的響應速率。
[0006]作為優(yōu)選,外層P型半導體層上安裝有6個電極,內(nèi)層P型半導體層上安裝有5個電極。
[0007]作為優(yōu)選,本發(fā)明的通訊發(fā)光器件呈圓形。
[0008]作為優(yōu)選,所述外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層以同心圓的方式排列。
[0009]本發(fā)明的另一目的是解決現(xiàn)有技術的缺陷,提供一種多電極可見光通訊發(fā)光器件的制備方法,采用的技術方案如下:
一種多電極可見光通訊發(fā)光器件的制備方法,包括以下步驟: a.在藍寶石襯底上依次沉積N型半導體層、絕緣層、多量子阱層和P型半導體層;
b.在步驟a中得到的器件上進行光刻,刻蝕絕緣槽,將P型半導體層分隔為內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層;
c.分別在內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層上蒸渡若干個電極,并使得每層的電極都在各自的P型半導體層面均勻分布;
d.制作金線,將電極都引到沉積在N型半導體層之上的絕緣層上。
[0010]在工作時,分別給內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層通入直流驅(qū)動電流源和高頻電流源,或分別通入高頻電流源和直流驅(qū)動電流源。
[0011]作為優(yōu)選,在內(nèi)層P型半導體層上蒸渡5個電極,在外層P型半導體層上蒸渡6個電極。
[0012]作為優(yōu)選,在刻蝕絕緣槽時,刻蝕深度到達襯底表面,以保證內(nèi)外層電極之間絕緣獨立。
[0013]與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明的有益效果:
本發(fā)明通過刻蝕絕緣槽,將P型半導體層分為內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層分別給內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層通入直流驅(qū)動電流源和高頻電流源,使得器件在發(fā)射高頻信號的同時,照明發(fā)光區(qū)域能夠正常工作,彌補了現(xiàn)有可見光通信器件發(fā)光強度弱而不能滿足照明需求的不足,實現(xiàn)照明通信雙功能。另外,通過多點注入電流,且外層電極分布接近邊緣,改善了傳統(tǒng)發(fā)光器件中電流密度過于集中的現(xiàn)象,增加了有源區(qū)注入電流的均勻性,提高了發(fā)光效率,同時提高了器件的響應速率。
【附圖說明】
[0014]圖1是本發(fā)明的通訊發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明的通訊發(fā)光器件的截面圖。
【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明做進一步詳細描述。
[0016]實施例:
如圖1和圖2所示,
一種多電極可見光通訊發(fā)光器件,依次包括N型半導體層39、絕緣層32、多量子阱層33和P型半導體層,所述P型半導體層上刻有絕緣槽31,以絕緣槽31為邊界,P型半導體層分為外層P型半導體層34和內(nèi)層P型半導體層30,所述外層P型半導體層34和內(nèi)層P型半導體層30分別沉積有若干個電極37和36,所述絕緣層32上也沉積有若干個電極38,外層P型半導體層34和內(nèi)層P型半導體層30上的電極37和36通過金線分別與絕緣層上的電極連接,圖中標號為35的是金線,分別給內(nèi)層P型半導體層30和外層P型半導體層34通入直流驅(qū)動電流源和高頻電流源,或分別通入高頻電流源和直流驅(qū)動電流源。
[0017]外層P型半導體層34上安裝有6個電極37,內(nèi)層P型半導體層上安裝有5個電極36。
[0018]分別給內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層通入直流驅(qū)動電流源和高頻電流源,使得器件在發(fā)射高頻信號的同時,照明發(fā)光區(qū)域能夠正常工作,彌補了現(xiàn)有可見光通信器件發(fā)光強度弱而不能滿足照明需求的不足,實現(xiàn)照明通信雙功能。另外,通過多點注入電流,且外層電極分布接近邊緣,改善了傳統(tǒng)發(fā)光器件中電流密度過于集中的現(xiàn)象,增加了有源區(qū)注入電流的均勻性,提高了發(fā)光效率,同時提高了器件的響應速率。
[0019]本實施例的通訊發(fā)光器件呈圓形。
[0020]所述外層P型半導體層34和內(nèi)層P型半導體層30以同心圓的方式排列。
[0021]上述多電極可見光通訊發(fā)光器件的制備方法,采用的技術方案如下:
一種多電極可見光通訊發(fā)光器件的制備方法,包括以下步驟:
a.在藍寶石襯底上依次沉積N型半導體層、絕緣層、多量子阱層和P型半導體層;
b.在步驟a中得到的器件上進行光刻,刻蝕絕緣槽,將P型半導體層分隔為內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層;
c.分別在內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層上蒸渡若干個電極,并使得每層的電極都在各自的P型半導體層面均勻分布;
d.制作金線,將電極都引到沉積在N型半導體層之上的絕緣層上。
[0022]在工作時,分別給內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層通入直流驅(qū)動電流源和高頻電流源,或分別通入高頻電流源和直流驅(qū)動電流源。
[0023]本實施例中,在內(nèi)層P型半導體層上蒸渡5個電極,在外層P型半導體層上蒸渡6個電極。
[0024]本實施例中,在刻蝕絕緣槽時,刻蝕深度到達襯底表面,以保證內(nèi)外層電極之間絕緣獨立。
【主權(quán)項】
1.一種多電極可見光通訊發(fā)光器件,依次包括N型半導體層、絕緣層、多量子阱層和P型半導體層,其特征在于,所述P型半導體層上刻有絕緣槽,以絕緣槽為邊界,P型半導體層分為外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層,所述外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層分別沉積有若干個電極,所述絕緣層上也沉積有若干個電極,外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層上的電極通過金線分別與絕緣層上的電極連接,分別給內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層通入直流驅(qū)動電流源和高頻電流源,或分別通入高頻電流源和直流驅(qū)動電流源。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多電極可見光通訊發(fā)光器件,其特征在于,外層P型半導體層上安裝有6個電極,內(nèi)層P型半導體層上安裝有5個電極。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多電極可見光通訊發(fā)光器件,其特征在于,所述通訊發(fā)光器件呈圓形。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多電極可見光通訊發(fā)光器件,其特征在于,所述外層P型半導體層和內(nèi)層P型半導體層以同心圓的方式排列。5.—種多電極可見光通訊發(fā)光器件的制備方法,包括以下步驟: a.在藍寶石襯底上依次沉積N型半導體層、絕緣層、多量子阱層和P型半導體層; b.在步驟a中得到的器件上進行光刻,刻蝕絕緣槽,將P型半導體層分隔為內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層; c.分別在內(nèi)層P型半導體層和外層P型半導體層上蒸渡若干個電極,并使得每層的電極都在各自的P型半導體層面均勻分布; d.制作金線,將電極都引到沉積在N型半導體層之上的絕緣層上。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多電極可見光通訊發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,在內(nèi)層P型半導體層上蒸渡5個電極,在外層P型半導體層上蒸渡6個電極。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多電極可見光通訊發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,在刻蝕絕緣槽時,刻蝕深度到達襯底表面,以保證內(nèi)外層電極之間絕緣獨立。
【文檔編號】H01L33/00GK105895756SQ201610320741
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年5月16日
【發(fā)明人】郭志友, 劉洋, 黃涌, 黃鴻勇, 黃晶, 孫杰, 楊晛, 衣新燕, 孫慧卿
【申請人】華南師范大學
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