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一種地電位金屬殼體輻射天線的制作方法_2

文檔序號(hào):8944836閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
,地電位金屬殼輻射天線還包括第一耦合元件600、第二耦合元件601和第三耦合元件602,在手機(jī)裝配中,可以通過(guò)螺絲固定或者彈腳接觸與金屬中框210的頂邊100連接。第三耦合元件602的位置接近槽縫300 —次諧振的電流最小的部分,利用第三耦合元件602的長(zhǎng)度可以有效控制槽縫300—次諧振的頻率,使其可以在低頻段產(chǎn)生共振。第一耦合元件600的位置接近槽縫300 二次諧振的電流最小的部分,利用第一耦合元件600的長(zhǎng)度可以有效控制槽縫300 二次諧振的頻率,使其可以在高頻段產(chǎn)生共振。第二耦合元件601的位置接近圍繞串聯(lián)共振電路400、金屬中框的頂邊100和金屬中框的右側(cè)邊102形成的第二電流環(huán)的諧振的電流最小的部分,利用第二耦合元件601的長(zhǎng)度控制其諧振的頻率,使其也在高頻段產(chǎn)生共振。所以,適當(dāng)?shù)恼{(diào)節(jié)第一耦合元件600和第二耦合元件601的長(zhǎng)度,可以方便地增強(qiáng)天線輻射體在高頻段的帶寬性能。
[0043]上述第一耦合元件600、第二耦合元件601和第三耦合元件602的位置通過(guò)電磁波仿真軟件仿真獲得。
[0044]實(shí)施例三
[0045]以下所述是本發(fā)明的實(shí)施例三,且所述的實(shí)施例三是與前述實(shí)施例一具有相同部分,將附記相同的組件編號(hào),且只要沒(méi)有特別提到,則當(dāng)作是具有同等的構(gòu)造與功能。
[0046]如圖4所示,本實(shí)施例中,地電位金屬殼輻射天線還包括第一耦合元件600、第二耦合元件601和第三耦合元件602,在手機(jī)裝配中,第一耦合元件600和第二耦合元件601可以通過(guò)螺絲固定或者彈腳接觸分別與金屬中框的左側(cè)邊101和右側(cè)邊102連接,第三耦合元件602可以通過(guò)螺絲固定或者彈腳接觸與金屬中框的頂邊100連接。
[0047]第一耦合元件600和第二耦合元件601的位置更接近電勢(shì)更小的金屬前殼200,相對(duì)較強(qiáng)的槽縫的磁場(chǎng)感應(yīng)效果可以有效地激發(fā)第一耦合元件600和第二耦合元件601產(chǎn)生獨(dú)立的共振模,并在高頻段產(chǎn)生共振,進(jìn)一步的增強(qiáng)天線輻射體在高頻段的帶寬性能,從而滿足手機(jī)4G通信系統(tǒng)對(duì)天線的要求。
[0048]實(shí)施例四
[0049]以下所述是本發(fā)明的實(shí)施例四,且所述的實(shí)施例四是與前述實(shí)施例一至三具有相同部分,將附記相同的組件編號(hào),且只要沒(méi)有特別提到,則當(dāng)作是具有同等的構(gòu)造與功能。
[0050]為了進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)槽縫300的小型化,實(shí)現(xiàn)手機(jī)更高的集成度,上述實(shí)施例一至三中的地電位金屬殼輻射天線,如圖5所示,槽縫300的一端凸起且向金屬前殼200方向延伸,槽縫300另一端長(zhǎng)度B縮短,縫隙由金屬前殼200填充。
[0051]本實(shí)施例的天線結(jié)構(gòu)為手機(jī)設(shè)計(jì)的多樣化提供了有力支持,能夠滿足手機(jī)高集成度的需求。
[0052]圖5中所示天線結(jié)構(gòu),槽縫300的左側(cè)一端凸起且向金屬前殼200方向延伸,槽縫300右側(cè)一端長(zhǎng)度B縮短,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)手機(jī)設(shè)計(jì)的需求,設(shè)計(jì)槽縫300的右側(cè)一端凸起且向金屬前殼200方向延伸,槽縫300左側(cè)一端長(zhǎng)度B縮短。
[0053]實(shí)施例五
[0054]以下所述是本發(fā)明的實(shí)施例五,且所述的實(shí)施例五是與前述實(shí)施例四具有相同部分,將附記相同的組件編號(hào),且只要沒(méi)有特別提到,則當(dāng)作是具有同等的構(gòu)造與功能。
[0055]如圖5所示,本實(shí)施例中,第一耦合元件600和第二耦合元件601可以通過(guò)彈腳接觸與金屬前殼200連接,第三耦合元件602可以通過(guò)螺絲固定或者彈腳接觸與金屬中框的頂邊100連接。本實(shí)施例有助于槽縫300在更低的頻段產(chǎn)生共振的同時(shí),確保天線輻射體在高頻段的帶寬性能。
[0056]上述實(shí)施例二、三、四、五中,第一耦合元件600、第二耦合元件601和第三耦合元件602可以在同一平面,也可以在不同平面,如圖5所示,第一耦合元件600、第二耦合元件601和第三耦合元件602不在同一平面,其中,第一耦合元件600和第二耦合元件601在同一平面,第三耦合元件602在另一平面,這樣可以有效地優(yōu)化天線所占用的空間。
[0057]本發(fā)明的地電位金屬殼輻射天線實(shí)現(xiàn)了金屬中框呈連續(xù)性特征的手機(jī)構(gòu)造,減少了傳統(tǒng)手機(jī)制造過(guò)程中的精密切割工藝和納米注塑工藝,美觀性也得到改善;而且,增強(qiáng)了天線的帶寬性能。
[0058]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種地電位金屬殼輻射天線,其特征在于,包括:金屬前殼、金屬中框、槽縫和串聯(lián)共振電路;其中, 所述槽縫由所述金屬中框的頂邊、左側(cè)邊、右側(cè)邊和所述金屬前殼圍繞形成; 所述串聯(lián)共振電路的一端通過(guò)連接線路連接到所述金屬中框的頂邊,另一端通過(guò)連接線路連接到饋電位。2.如權(quán)利要求1所述的地電位金屬殼輻射天線,其特征在于,還包括第一耦合元件、第二耦合元件和第三耦合元件,所述第一耦合元件、第二耦合元件和第三耦合元件與所述金屬中框的頂邊垂直或者平行。3.如權(quán)利要求2所述的地電位金屬殼輻射天線,其特征在于,所述第一耦合元件、第二耦合元件和第三耦合元件與金屬中框的頂邊連接;其中, 第三耦合元件設(shè)置在槽縫一次諧振的電流最小的部分,利用第三耦合元件的長(zhǎng)度控制槽縫一次諧振的頻率,使其在低頻段產(chǎn)生共振; 第一耦合元件設(shè)置在槽縫二次諧振的電流最小的部分,利用第一耦合元件的長(zhǎng)度控制槽縫二次諧振的頻率,使其在高頻段產(chǎn)生共振; 第二耦合元件設(shè)置在圍繞串聯(lián)共振電路、金屬中框的頂邊和金屬中框的右側(cè)邊形成的第二電流環(huán)的諧振電流最小的部分,利用第二耦合元件的長(zhǎng)度控制其諧振的頻率,使其在高頻段產(chǎn)生共振。4.如權(quán)利要求2所述的地電位金屬殼輻射天線,其特征在于,所述第一耦合元件和第二耦合元件分別與金屬中框的左側(cè)邊和右側(cè)邊連接,第三耦合元件與金屬中框的頂邊連接。5.如權(quán)利要求4所述的地電位金屬殼輻射天線,其特征在于,所述第一耦合元件和第二耦合元件的位置更靠近金屬前殼一側(cè)。6.如權(quán)利要求2所述的地電位金屬殼輻射天線,其特征在于,所述槽縫的一端凸起且向金屬前殼方向延伸,槽縫另一端長(zhǎng)度縮短,縫隙由金屬前殼填充。7.如權(quán)利要求6所述的地電位金屬殼輻射天線,其特征在于,所述第一耦合元件和第二耦合元件與金屬前殼連接,第三耦合元件與金屬中框的頂邊連接。8.如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的地電位金屬殼福射天線,其特征在于,所述第一親合元件、第二耦合元件和第三耦合元件在同一平面。9.如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的地電位金屬殼福射天線,其特征在于,所述第一親合元件、第二耦合元件和第三耦合元件在不同平面。10.如權(quán)利要求9所述的地電位金屬殼輻射天線,其特征在于,所述第一耦合元件和第二耦合元件在同一平面,第三耦合元件在另一平面。
【專利摘要】本發(fā)明提出了一種地電位金屬殼輻射天線,包括:金屬前殼、金屬中框、槽縫和串聯(lián)共振電路;其中,所述槽縫由所述金屬中框的頂邊、左側(cè)邊、右側(cè)邊和所述金屬前殼圍繞形成;所述串聯(lián)共振電路的一端通過(guò)連接線路連接到所述金屬中框的頂邊,另一端通過(guò)連接線路連接到饋電位。本發(fā)明的地電位金屬殼輻射天線實(shí)現(xiàn)了金屬中框呈連續(xù)性特征的手機(jī)構(gòu)造,減少了傳統(tǒng)手機(jī)制造過(guò)程中的精密切割工藝和納米注塑工藝,美觀性也得到改善;而且,增強(qiáng)了天線的帶寬性能。
【IPC分類】H01Q1/50, H01Q1/36, H01Q1/44
【公開(kāi)號(hào)】CN105161845
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510610799
【發(fā)明人】張瑞, 曲龍躍, 藍(lán)曉羿, 張順, 吳彥松
【申請(qǐng)人】李文潔
【公開(kāi)日】2015年12月16日
【申請(qǐng)日】2015年9月15日
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