本實(shí)用新型涉及一種太陽能電池片生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種石墨舟放片裝置，應(yīng)用于太陽能電池片生產(chǎn)的PECVD鍍膜工藝中。

背景技術(shù)：

在太陽能電池片生產(chǎn)中，目前廣泛采用的原料是硅片，主要工藝步驟為：制絨-擴(kuò)散-刻蝕-PECVD鍍膜-絲網(wǎng)印刷-燒結(jié)-測試分檔。PECVD鍍膜工作原理為將裝有硅片的石墨舟放置在PECVD真空鍍膜腔體內(nèi)，舟葉間產(chǎn)生電場，采用PECVD工藝放電對硅片鍍膜，鍍膜的均勻性會直接影響電池片質(zhì)量。

石墨舟主要由舟葉、陶瓷桿、石墨舟卡點(diǎn)、陶瓷圈組成。舟葉串聯(lián)在陶瓷桿上，并通過串聯(lián)在陶瓷桿上的陶瓷圈來控制舟葉間的距離，石墨舟舟葉上的卡點(diǎn)與舟葉間形成一個卡槽，可以卡住硅片，使硅片固定在石墨舟內(nèi)。離線式石墨舟插片機(jī)，吸附組通過真空抽氣可以直接吸取石墨舟中已經(jīng)完成PECVD工藝處理的硅片裝載至下料盒中，然后吸附組吸取上料盒里的硅片，將未鍍膜的硅片插入石墨舟中。

機(jī)器人在執(zhí)行石墨舟裝片時，通過吸附組將硅片插入到石墨舟卡點(diǎn)內(nèi)。機(jī)器人在將硅片放置到舟內(nèi)卡槽的過程中，當(dāng)硅片到達(dá)指定位置時，釋放真空，硅片自然脫落至舟內(nèi)卡槽處。硅片雖然可以被卡在卡槽內(nèi)，但卡槽寬度比硅片厚度大，硅片在卡槽內(nèi)容易發(fā)生傾斜，導(dǎo)致不完全與舟葉接觸，導(dǎo)致硅片鍍膜時所受電場不均，膜厚均勻性不好，從而影響整個硅片的質(zhì)量。

因此，鑒于以上問題，有必要提出一種能夠快速穩(wěn)定的在石墨舟中放置硅片的裝置，以此來提高硅片在石墨舟中的穩(wěn)定性及鍍膜均勻性，從而提高硅片的質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實(shí)用新型提出一種石墨舟放片裝置，所述放片裝置包括控制系統(tǒng)，真空發(fā)生器，壓縮空氣系統(tǒng)，吸附組。此裝置通過氣路切換，使吸附組產(chǎn)生正壓，對原本會自然滑落至卡槽內(nèi)的硅片提供一個正向推力，使其能夠更好的貼附在舟葉上，以此來達(dá)到鍍膜均勻性好的目的。

根據(jù)本實(shí)用新型的目的提出的一種石墨舟放片裝置，用于硅片的鍍膜工藝中，包括控制系統(tǒng)，真空發(fā)生器以及吸附組，所述控制系統(tǒng)與所述真空發(fā)生器電連接，所述真空發(fā)生器與所述吸附組管路連接，其特征在于，所述放片裝置還包括壓縮空氣系統(tǒng)，所述壓縮空氣系統(tǒng)與所述控制系統(tǒng)電連接，所述壓縮空氣系統(tǒng)與所述吸附組管路連接，打開控制系統(tǒng)，真空發(fā)生器與壓縮空氣系統(tǒng)交替工作，當(dāng)真空發(fā)生器工作，吸附組吸取硅片，放入石墨舟中相應(yīng)位置，然后釋放真空，打開壓縮空氣系統(tǒng)的同時關(guān)閉真空發(fā)生器，釋放硅片進(jìn)行鍍膜。

優(yōu)選的，所述壓縮空氣系統(tǒng)與所述吸附組之間的管路上安裝有控制閥門，所述控制閥門與控制系統(tǒng)電連接。

優(yōu)選的，所述壓縮空氣系統(tǒng)以及真空發(fā)生器與所述吸附組之間的管路上分別安裝有控制閥門，所述控制閥門分別與控制系統(tǒng)電連接。

優(yōu)選的，兩條管路上的控制閥門合二為一為兩進(jìn)一出的三通電磁閥，所述三通電磁閥包括工作口，排氣口和進(jìn)氣口，所述工作口管路連接至所述吸附組，所述排氣口管路連接至所述真空發(fā)生器，所述進(jìn)氣口管路連接至所述壓縮空氣。

優(yōu)選的，所述吸附組上的吸盤為三個，且三個吸盤呈三角形排列。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型公開的一種石墨舟放片裝置的優(yōu)點(diǎn)是：

所述石墨舟放片裝置，用于硅片的鍍膜工藝中，包括控制系統(tǒng)，真空發(fā)生器，壓縮空氣系統(tǒng)以及吸附組，所述壓縮空氣系統(tǒng)以及真空發(fā)生器分別與所述控制系統(tǒng)電連接，與所述吸附組管路連接，打開控制系統(tǒng)，真空發(fā)生器與壓縮空氣系統(tǒng)交替工作，當(dāng)真空發(fā)生器工作時，吸附組吸取硅片，放入石墨舟中相應(yīng)位置，然后釋放真空，打開壓縮空氣系統(tǒng)的同時關(guān)閉真空發(fā)生器，釋放硅片進(jìn)行鍍膜。所述放片裝置通過氣路切換，在吸附組釋放真空的同時進(jìn)行正壓吹氣，硅片在落入卡槽內(nèi)的同時受到氣體正壓作用，可以使發(fā)生傾斜的硅片與舟葉完全貼合，不僅能夠提高硅片在石墨舟中的穩(wěn)定性，而且硅片鍍膜時硅片所受電場均勻，膜厚均勻性好，改善電池片質(zhì)量。

附圖說明

為了更清楚的說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖做簡單的介紹，顯而易見的，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員來說，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可根據(jù)這些附圖獲得其他附圖。

圖1為本實(shí)用新型公開的石墨舟放片裝置實(shí)施例1的原理圖。

圖2為本實(shí)用新型公開的石墨舟放片裝置實(shí)施例2的原理圖。

圖中的數(shù)字或字母所代表的零部件的名稱：

1、吸附組；2、三通電磁閥；3、真空發(fā)生器；4、壓縮空氣系統(tǒng)。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式做簡要說明。顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部實(shí)施例，基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，均屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

圖1和圖2分別示出了本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的原理圖。

實(shí)施例1，如圖1所示的一種石墨舟放片裝置，用于硅片的鍍膜工藝中，包括控制系統(tǒng)，真空發(fā)生器3以及吸附組1，控制系統(tǒng)與真空發(fā)生器3電連接，真空發(fā)生器3與吸附組1管路連接，其中，放片裝置還包括壓縮空氣系統(tǒng)4，壓縮空氣系統(tǒng)4與控制系統(tǒng)電連接，且壓縮空氣系統(tǒng)4與吸附組1管路連接，打開控制系統(tǒng)，真空發(fā)生器3與壓縮空氣系統(tǒng)4交替工作。當(dāng)真空發(fā)生器3工作時，吸附組1吸取硅片，放入石墨舟中相應(yīng)位置后，釋放真空，打開壓縮空氣系統(tǒng)4的同時關(guān)閉真空發(fā)生器3，釋放硅片進(jìn)行鍍膜。

石墨舟在進(jìn)行裝片時，機(jī)器人驅(qū)動吸附組1從上料盒內(nèi)吸取硅片，通過控制系統(tǒng)打開真空發(fā)生器3使硅片吸附在吸附組1上，機(jī)器人按照其程序設(shè)定的過渡點(diǎn)軌跡運(yùn)行至石墨舟的舟槽內(nèi)放片位置。此時，控制系統(tǒng)釋放真空，使吸附在吸附組1上的硅片因壓力不平衡而自然脫離吸附組1，滑落至卡點(diǎn)凹槽處與舟葉貼合。由于卡點(diǎn)凹槽寬度比硅片厚度稍大，此方式有可能存在硅片未能完全貼合到舟葉的現(xiàn)象。增加一個壓縮空氣系統(tǒng)4，增加石墨舟放片時正壓吹氣功能，硅片在卡槽內(nèi)受到氣體的正壓作用，可以使硅片與舟葉完全貼合。硅片與舟葉完全貼合后，由于凹槽由舟葉向外向上有一定的傾角，在撤去氣體正壓作用時，硅片位置也不容易發(fā)生變動，可以提高硅片在石墨舟中的穩(wěn)定性，并完全與舟葉貼合。

進(jìn)一步的，所述壓縮空氣系統(tǒng)4與所述吸附組1之間的管路上安裝有控制閥門(未示出)，所述控制閥門(未示出)與控制系統(tǒng)電連接。

進(jìn)一步的，所述吸附組1上的吸盤為三個，且三個吸盤呈三角形排列。

實(shí)施例2

如圖2所示，其余與實(shí)施例1相同，不同之處在于，壓縮空氣系統(tǒng)4以及真空發(fā)生器3與吸附組1之間的管路上分別安裝有控制閥門(未示出)，且控制閥門(未示出)分別與控制系統(tǒng)電連接。

進(jìn)一步的，兩條管路上的控制閥門合二為一為兩進(jìn)一出的三通電磁閥2，三通電磁閥2包括工作口，排氣口和進(jìn)氣口，工作口管路連接至吸附組1，排氣口管路連接至真空發(fā)生器3，進(jìn)氣口管路連接至壓縮空氣系統(tǒng)4。

當(dāng)石墨舟在進(jìn)行裝片時，機(jī)器人驅(qū)動吸附組1將硅片從上料盒中取出，并運(yùn)行至石墨舟卡槽內(nèi)放片位置。此時，控制系統(tǒng)執(zhí)行釋放真空命令，并同時觸發(fā)三通電磁閥2動作，關(guān)閉真空發(fā)生器3至吸附組1通道的同時打開壓縮空氣系統(tǒng)4與吸附組1通道。通過氣路切換，使吸附組1產(chǎn)生正壓，將原本會自然滑落至卡槽內(nèi)的硅片提供一個正向推力，使其能夠更好的貼附在舟葉上，達(dá)到更穩(wěn)定的效果。系統(tǒng)控制切換正壓時間設(shè)置為1S后自動關(guān)閉，然后真空發(fā)生器3開始工作，重復(fù)進(jìn)行吸片放片的工作。

綜上所述，石墨舟放片裝置，用于硅片的鍍膜工藝中，包括控制系統(tǒng)，真空發(fā)生器3，壓縮空氣系統(tǒng)4以及吸附組1，壓縮空氣系統(tǒng)4以及真空發(fā)生器3分別與控制系統(tǒng)電連接，與吸附組1管路連接，打開控制系統(tǒng)，真空發(fā)生器3與壓縮空氣系統(tǒng)4交替工作，當(dāng)真空發(fā)生器3工作時，吸附組1吸取硅片，放入石墨舟中相應(yīng)位置，然后釋放真空，打開壓縮空氣系統(tǒng)4的同時關(guān)閉真空發(fā)生器3，釋放硅片進(jìn)行鍍膜。石墨舟放片裝置通過氣路切換，在吸附組1釋放真空的同時進(jìn)行正壓吹氣，硅片在落入卡槽內(nèi)的同時受到氣體正壓作用，可以使發(fā)生傾斜的硅片與舟葉完全貼合，不僅能夠提高硅片在石墨舟中的穩(wěn)定性，而且硅片鍍膜時硅片所受電場均勻，膜厚均勻性好，改善電池片質(zhì)量。

對所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)和使用本實(shí)用新型。對這些實(shí)施例的多種修改方式對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下，在其他實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。