本實用新型關(guān)于一種分離設(shè)備,尤指一種用于劈裂工藝的分離設(shè)備。
背景技術(shù):
現(xiàn)有半導(dǎo)體工藝中,晶圓于制造完成后,會進(jìn)行薄化工藝、切單工藝、封裝工藝等,其中,切單工藝的方式繁多,例如、雷射切割、機械切割、劈裂分離等。
如圖1A及圖1B所示,現(xiàn)有劈裂式分離設(shè)備1包括:一機臺本體(圖略)、一設(shè)于該機臺本體下側(cè)的基座10、一設(shè)于該機臺本體下側(cè)的吸引源14與吸引通道141、一設(shè)于該機臺本體上側(cè)的劈裂裝置12、以及一設(shè)于該基座10上的貼膜13。
于進(jìn)行劈裂作業(yè)時,先將一具有多個預(yù)切割道80的晶圓8黏貼于該貼膜13上,并利用吸引源14(例如真空泵)對該吸引通道141抽氣,以使該貼膜13通過該吸引通道141而固定于該基座10上,再將該劈裂裝置12的劈刀120對位于其中一預(yù)切割道80上,并利用該劈裂裝置12的震動件121撞擊該劈刀120,使該劈刀120碰觸該晶圓8對應(yīng)該預(yù)切割道80的背面位置A,以令該晶圓8沿該預(yù)切割道80裂開(如裂痕S)。之后重復(fù)上述該劈裂裝置12的劈裂步驟,以于該晶圓8背面的直向與橫向上劈裂各該預(yù)切割道80,使該晶圓8分離成多個晶粒8a。
然而,現(xiàn)有分離設(shè)備1中,該吸引源14與該吸引通道141的機構(gòu)繁雜,因而需占用該機臺本體許多空間以作布設(shè),致使該機臺本體的體積過于龐大。
此外,該吸引通道141的管線于多次使用后會產(chǎn)生漏氣問題,致使該吸引源14的吸附力下降,因而于進(jìn)行劈裂作業(yè)時,該貼膜13會產(chǎn)生晃動,導(dǎo)致劈裂良率不佳。若更換新的吸引通道141的管線,需大幅拆解該機臺本體,致使更換組件的成本極高。
因此,如何克服現(xiàn)有技術(shù)的種種問題,實為一重要課題。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
為解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問題,本實用新型遂公開一種分離設(shè)備,能減少該分離設(shè)備的體積,借以有效提升使用便利性及降低切單工藝的成本。
本實用新型的分離設(shè)備包括:基座;磁性件,其位于該基座外;承載件,其設(shè)于該基座上方以承載物件;以及作用裝置,其位于該承載件上方,以作用該物件,且于該作用裝置作用承載于該承載件上的該物件前,令該承載件為該磁性件所吸附。
前述的分離設(shè)備中,該磁性件的位置高度低于該基座的位置高度。
前述的分離設(shè)備中,該承載件為黏性片體。
前述的分離設(shè)備中,該承載件具有金屬體,以供該磁性件吸附該金屬體。例如,該金屬體為環(huán)狀,且該金屬體位于該承載件的邊緣。
前述的分離設(shè)備中,該作用裝置為物理供力裝置。
由上可知,本實用新型的分離設(shè)備中,主要通過具有磁場的金屬體,以磁吸設(shè)有磁性物質(zhì)的承載件,使該承載件能通過磁場磁吸于該承載件上,故相較于現(xiàn)有技術(shù),本實用新型的分離設(shè)備無需設(shè)置吸引源或吸引通道,而能減少該分離設(shè)備的體積,借以有效提升使用便利性及降低切單工藝的成本。
附圖說明
圖1A為現(xiàn)有分離設(shè)備的剖面示意圖;
圖1B為圖1A的局部放大示意圖;
圖2A為本實用新型的分離設(shè)備的側(cè)視示意圖;
圖2B為本實用新型的分離設(shè)備于作動時的側(cè)視示意圖;以及
圖2C為本實用新型的分離設(shè)備的上視平面示意圖。
其中,附圖標(biāo)記說明如下:
1、2 分離設(shè)備
10、20 基座
12 劈裂裝置
120 劈刀
121 震動件
13 貼膜
14 吸引源
141 吸引通道
21 金屬體
210 開口
22 作用裝置
23 承載件
23a 邊緣
24 磁性件
8 晶圓
8a 晶粒
80 預(yù)切割道
9 物件
A 背面位置
S 裂痕
D 徑長
W 寬度
t、h 位置高度。
具體實施方式
以下通過特定的具體實施例說明本實用新型的實施方式,本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所公開的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點及功效。
須知,本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等,均僅用以配合說明書所公開的內(nèi)容,以供本領(lǐng)域技術(shù)人員的了解與閱讀,并非用以限定本實用新型可實施的限定條件,故不具技術(shù)上的實質(zhì)意義,任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整,在不影響本實用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下,均應(yīng)仍落在本實用新型所公開的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時,本說明書中所引用的如“上”、“下”及“一”等用語,也僅為便于敘述的明了,而非用以限定本實用新型可實施的范圍,其相對關(guān)系的改變或調(diào)整,在無實質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下,當(dāng)也視為本實用新型可實施的范疇。
圖2A至圖2C為本實用新型的分離設(shè)備2的示意圖。如圖2A所示,分離設(shè)備2包括:一機臺本體(圖略)、一設(shè)于機臺本體下側(cè)的基座20、設(shè)于機臺本體下側(cè)并位于基座20外的磁性件24、一設(shè)于基座20上方的承載件23、以及一設(shè)于機臺本體上側(cè)的作用裝置22。
所述的磁性件24的數(shù)量并未有限制,可設(shè)置一個或多個磁性件24,且磁性件24的位置高度t低于基座20的位置高度h,也就是磁性件24的位置低于基座20接觸承載件23的磁性件24平面。
所述的承載件23用以承載一物件9(如圖1B所示的具預(yù)切割道80的晶圓8)。
于本實施例中,承載件23為黏性片體,例如,離形膠片(release tape)、紫外線膠帶(UV tape)或熱分離膠帶(thermal tape)等。
分離設(shè)備2具有設(shè)于承載件23上的金屬體21,其可為環(huán)狀,例如具有開口210的固定件,以令承載件23遮蓋開口210。
于本實施例中,金屬體21位于承載件23的邊緣上,并設(shè)于承載件23與作用裝置22之間。
此外,金屬體21例如為鐵環(huán)或可供磁鐵吸附的構(gòu)件,并無特別限制。又,因應(yīng)金屬體21為環(huán)狀的外形,磁性件24也可為環(huán)形。
又,金屬體21的開口210的徑長D(或承載件23的寬度)大于基座20的寬度W,如圖2C所示,使基座20位于開口210的投影位置內(nèi)。
所述的作用裝置22位于承載件23上方,以作用于物件9上,使物件9分離成多個物體(如圖1B所示的晶粒8a)。
于本實施例中,作用裝置22為物理供力裝置,例如切割件、震動件、風(fēng)力件、如圖1B所示的劈裂裝置12或其它裝置等,以產(chǎn)生劈裂效果。
于進(jìn)行分離作業(yè)時,將承載件23置放于基座20上,使磁性件24吸附承載件23的金屬體21,以令承載件23的邊緣部分相對基座20向下位移,使其邊緣23a呈斜坡狀,如圖2B所示。接著,作用裝置22提供外力至物件9上,以通過劈裂方式將物件9(如圖1B所示的具預(yù)切割道80的晶圓8)分離成多個物體(如圖1B所示的晶粒8a)。
因此,本實用新型的分離設(shè)備2通過磁性件24的設(shè)計,使承載件23固定于基座20上,且磁性件24的結(jié)構(gòu)簡易及體積小,因而僅占用機臺本體極少空間以作布設(shè),故相較于現(xiàn)有技術(shù)的吸引源或吸引通道,本實用新型能縮小機臺本體的體積,使分離設(shè)備2的體積大幅減小。
此外,磁性件24不會產(chǎn)生漏氣問題,且于多次使用后,僅需更換新的磁性件24(如磁鐵)即可具有所需的吸附力,故不僅降低更換組件的成本,且能有效避免承載件23于進(jìn)行劈裂作業(yè)時因產(chǎn)生晃動而使劈裂良率不佳的問題。
又,于進(jìn)行劈裂中,當(dāng)作用裝置22劈裂至物件9的邊緣時(如圖2C所示的作用裝置22,其以虛線表示其位置),由于磁性件24吸附金屬體21而使承載件23的邊緣下降,故作用裝置22不會接觸碰撞承載件23的邊緣或金屬體21,因而能避免作用裝置22及承載件23的邊緣(或金屬體21)因相碰而損壞。應(yīng)當(dāng)理解地,若承載件23的邊緣(或金屬體21)未相對基座20向下移動,當(dāng)作用裝置22劈裂至物件9的邊緣時,作用裝置22與承載件23的邊緣(或金屬體21)會因相碰而損壞。
上述實施例僅用以例示性說明本實用新型的原理及其功效,而非用于限制本實用新型。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員均可在不違背本實用新型的精神及范疇下,對上述實施例進(jìn)行修改。因此本實用新型的權(quán)利保護(hù)范圍,應(yīng)如權(quán)利要求書所列。