本實(shí)用新型涉及濕法刻蝕設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種濕法刻蝕機(jī)臺(tái)。

背景技術(shù)：

刻蝕工藝是按照掩模圖形或設(shè)計(jì)要求對(duì)半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性腐蝕或剝離的工藝?？涛g工藝不僅是半導(dǎo)體器件和集成電路的基本制造工藝，而且還應(yīng)用于薄膜電路、印刷電路和其他微細(xì)圖形的加工。刻蝕還可分為濕法刻蝕和干法刻蝕。

傳統(tǒng)的濕法刻蝕工藝通常是將晶圓浸泡在一定的化學(xué)試劑或試劑溶液中，使沒(méi)有被抗蝕劑掩蔽的那一部分薄膜表面與試劑發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而被除去。例如，用一種含有氫氟酸的溶液刻蝕二氧化硅薄膜，用磷酸刻蝕鋁薄膜等。這種在液態(tài)環(huán)境中進(jìn)行刻蝕的工藝稱為“濕法”工藝，其優(yōu)點(diǎn)是操作簡(jiǎn)便、對(duì)設(shè)備要求低、易于實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)，并且刻蝕的選擇性也好。

請(qǐng)參考圖1，現(xiàn)有的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)主要包括：處理槽，及設(shè)置于所述處理槽上方用于搬運(yùn)晶圓的搬運(yùn)機(jī)械臂4’，每個(gè)處理槽上均設(shè)置有一搬運(yùn)機(jī)械臂4’，每個(gè)搬運(yùn)機(jī)械臂4’均包括一立柱41’、與所述立柱41’固定連接的機(jī)頭42’、及設(shè)置于所述機(jī)頭42’上的搬運(yùn)夾子43’，通過(guò)搬運(yùn)夾子43’夾持晶圓，從而實(shí)現(xiàn)搬運(yùn)機(jī)械臂搬運(yùn)晶圓進(jìn)出處理槽，進(jìn)行干燥處理后，完成濕法刻蝕。但是一旦搬運(yùn)機(jī)械臂出現(xiàn)故障，可能導(dǎo)致無(wú)法正常搬運(yùn)晶圓，需要對(duì)搬運(yùn)機(jī)械臂進(jìn)行維修或更換，但是，在搬運(yùn)機(jī)械臂修復(fù)之前，已經(jīng)進(jìn)入處理槽內(nèi)的晶圓將無(wú)法繼續(xù)進(jìn)行傳送及后續(xù)的干燥制程，晶圓在處理槽內(nèi)侵泡時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，繼而超時(shí)，影響制程，嚴(yán)重時(shí)會(huì)導(dǎo)致晶圓報(bào)廢，降低了成品率及工作效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種濕法刻蝕機(jī)臺(tái)，以解決現(xiàn)有技術(shù)中濕法刻蝕機(jī)臺(tái)出現(xiàn)故障后，存在搬運(yùn)機(jī)械臂無(wú)法無(wú)法正常傳送晶圓，使得晶圓在酸槽或水槽內(nèi)侵泡時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，影響制程，導(dǎo)致成品率及工作效率低的問(wèn)題。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種濕法刻蝕機(jī)臺(tái)，所述濕法刻蝕機(jī)臺(tái)，包括：

基座；

設(shè)置在所述基座上的多個(gè)處理槽；

多個(gè)搬運(yùn)機(jī)械臂，每個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂均對(duì)應(yīng)一個(gè)所述處理槽；

第一滑軌，所述第一滑軌跨越所有的搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置；

備用機(jī)械臂，設(shè)置于所述第一滑軌上，并在所述第一滑軌上滑動(dòng)；

多個(gè)第二滑軌，每個(gè)所述第二滑軌均對(duì)應(yīng)一個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂；

當(dāng)某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂存在故障時(shí)，某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂在對(duì)應(yīng)的所述第二滑軌的作用下撤離某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置，所述備用機(jī)械臂在所述第一滑軌的作用下到達(dá)某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置，并替代某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂進(jìn)行工作。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，每個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂均包括機(jī)頭以及與所述機(jī)頭相連接的搬運(yùn)夾子，所述機(jī)頭與對(duì)應(yīng)的所述第二滑軌固定連接。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述濕法刻蝕機(jī)臺(tái)還包括多個(gè)立柱，每個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂均對(duì)應(yīng)一立柱，所述立柱的一端與所述基座連接，所述立柱的另一端與所述第二滑軌滑動(dòng)式連接，所述立柱和機(jī)頭分別位于所述第二滑軌的兩側(cè)，當(dāng)某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂存在故障時(shí)，某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂隨所述第二滑軌撤離該搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述備用機(jī)械臂包括：設(shè)置于所述第一滑軌上并沿所述第一滑軌進(jìn)行滑動(dòng)的第三滑軌、設(shè)置于所述第三滑軌上用于提供驅(qū)動(dòng)力的第一驅(qū)動(dòng)裝置、設(shè)置于所述第一驅(qū)動(dòng)裝置上用于抓放晶圓的備用夾子，所述夾子在所述第一驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)力下沿所述第三滑軌進(jìn)行滑動(dòng)。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述第三滑軌包括短邊滑軌和與所述短邊滑軌相垂直的長(zhǎng)邊滑軌，所述短邊滑軌與所述第一滑軌滑動(dòng)式連接，并且所述短邊滑軌與所述第一滑軌相垂直。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述短邊滑軌和長(zhǎng)邊滑軌連接成L形。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在所述長(zhǎng)邊滑軌上。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述備用機(jī)械臂還包括第二驅(qū)動(dòng)裝置，及設(shè)置于所述第一滑軌上的主動(dòng)輪和從動(dòng)輪，所述第三滑軌在所述第二驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)力下通過(guò)所述主動(dòng)輪和所述從動(dòng)輪沿所述第一滑軌進(jìn)行滑動(dòng)。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述第二驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在所述短邊滑軌上。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，每個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置均為對(duì)應(yīng)的所述處理槽所在的位置。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述第一滑軌為橫截面為倒T形的軌道。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，還包括設(shè)置于所述基座上的干燥槽，用于對(duì)經(jīng)過(guò)所有處理槽處理后的晶圓進(jìn)行干燥處理。

可選的，在所述的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，每個(gè)所述處理槽均包括一酸槽和與所述酸槽相鄰設(shè)置的一水槽。

在本實(shí)用新型所提供的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述濕法刻蝕機(jī)臺(tái)包括基座、設(shè)置于基座上的多個(gè)處理槽、多個(gè)搬運(yùn)機(jī)械臂、第一滑軌、備用機(jī)械臂、多個(gè)第二滑軌；每個(gè)搬運(yùn)機(jī)械臂均對(duì)應(yīng)一個(gè)處理槽；第一滑軌跨越所有的搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置；備用機(jī)械臂設(shè)置于第一滑軌上，并在第一滑軌上滑動(dòng)；每個(gè)第二滑軌均對(duì)應(yīng)一個(gè)搬運(yùn)機(jī)械臂；當(dāng)某一搬運(yùn)機(jī)械臂存在故障時(shí)，某一搬運(yùn)機(jī)械臂在對(duì)應(yīng)的第二滑軌的作用下撤離某一搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置，備用機(jī)械臂在第一滑軌的作用下到達(dá)某一搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置，并替代某一搬運(yùn)機(jī)械臂進(jìn)行工作。避免因搬運(yùn)機(jī)械臂故障，無(wú)法進(jìn)行晶圓的搬運(yùn)，晶圓在處理槽內(nèi)侵泡時(shí)間過(guò)長(zhǎng)對(duì)制程造成的影響，提高了成品率及工作效率。

附圖說(shuō)明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中濕法刻蝕機(jī)臺(tái)的搬運(yùn)機(jī)械臂的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型一實(shí)施例中搬運(yùn)機(jī)械臂的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本實(shí)用新型一實(shí)施例中濕法刻蝕機(jī)臺(tái)的俯視圖；

圖4是本實(shí)用新型一實(shí)施例中備用機(jī)械臂閑置時(shí)濕法刻蝕機(jī)臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是本實(shí)用新型一實(shí)施例中備用機(jī)械臂工作時(shí)濕法刻蝕機(jī)臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖1中：

搬運(yùn)機(jī)械臂-4’；

立柱-41’；

機(jī)頭-42’；

夾子-43’；

圖2-圖5中：

基座-1；

處理槽-2；

第一滑軌-3；

搬運(yùn)機(jī)械臂-4；

第二滑軌-40；

立柱-41；

機(jī)頭-42；

備用機(jī)械臂-5；

第三滑軌-50；

短邊滑軌-500；

長(zhǎng)邊滑軌-501；

第一驅(qū)動(dòng)裝置-51；

搬運(yùn)夾子-43；

備用夾子-52；

第二驅(qū)動(dòng)裝置-53；

主動(dòng)輪-54；

從動(dòng)輪-55。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型提出的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。根據(jù)下面說(shuō)明和權(quán)利要求書(shū)，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說(shuō)明的是，附圖均采用非常簡(jiǎn)化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例的目的。

請(qǐng)參考圖2及圖3，圖2為本實(shí)施例中搬運(yùn)機(jī)械臂4的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)施例中濕法刻蝕機(jī)臺(tái)的俯視圖。所述濕法刻蝕機(jī)臺(tái)包括：基座1、多個(gè)處理槽2、多個(gè)搬運(yùn)機(jī)械臂4、第一滑軌3、備用機(jī)械臂5、多個(gè)第二滑軌40；多個(gè)處理槽2均設(shè)置在所述基座1上，每個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂4均對(duì)應(yīng)一個(gè)所述處理槽2；所述第一滑軌3跨越所有的搬運(yùn)機(jī)械臂4的操作位置；所述備用機(jī)械臂5設(shè)置于所述第一滑軌3上，并在所述第一滑軌3上滑動(dòng)；每個(gè)所述第二滑軌40均對(duì)應(yīng)一個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂4；當(dāng)某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂4存在故障時(shí)，某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂4在對(duì)應(yīng)的所述第二滑軌40的作用下撤離某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂4的操作位置，所述備用機(jī)械臂5在所述第一滑軌3的作用下到達(dá)某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂4的操作位置，并替代某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂4進(jìn)行工作。

其中，每個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂4均包括機(jī)頭42以及與所述機(jī)頭相連接的搬運(yùn)夾子43，所述機(jī)頭42與對(duì)應(yīng)的所述第二滑軌40固定連接。

進(jìn)一步地，所述濕法刻蝕機(jī)臺(tái)還包括多個(gè)立柱41，每個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂4均對(duì)應(yīng)一立柱41，所述立柱41的一端與所述基座1連接，所述立柱41的另一端與所述第二滑軌40滑動(dòng)式連接，所述立柱41和機(jī)頭分別位于所述第二滑軌40的兩側(cè)，當(dāng)某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂4存在故障時(shí)，某一所述搬運(yùn)機(jī)械臂4隨所述第二滑軌40撤離該搬運(yùn)機(jī)械臂4的操作位置。其中，每個(gè)所述搬運(yùn)機(jī)械臂4的操作位置均為對(duì)應(yīng)的所述處理槽2所在的位置，基座1上的每個(gè)所述處理槽2均包括一酸槽和與所述酸槽相鄰設(shè)置的一水槽。

請(qǐng)參考圖4，所述備用機(jī)械臂5包括：設(shè)置于所述第一滑軌3上并沿所述第一滑軌3進(jìn)行滑動(dòng)的第三滑軌50、設(shè)置于所述第三滑軌50上用于提供驅(qū)動(dòng)力的第一驅(qū)動(dòng)裝置51、設(shè)置于所述第一驅(qū)動(dòng)裝置51上用于抓放晶圓的備用夾子52、第二驅(qū)動(dòng)裝置53、及設(shè)置于所述第一滑軌3上的主動(dòng)輪54和從動(dòng)輪55，所述第三滑軌50在第二驅(qū)動(dòng)裝置53的驅(qū)動(dòng)力下通過(guò)主動(dòng)輪54和從動(dòng)輪55沿所述第一滑軌3進(jìn)行滑動(dòng)，所述備用夾子52在所述第一驅(qū)動(dòng)裝置51的驅(qū)動(dòng)力下沿所述第三滑軌50進(jìn)行滑動(dòng)。

為了提高第一滑軌3的穩(wěn)定性，第一滑軌3固定于濕法刻蝕機(jī)臺(tái)的內(nèi)頂上，第一滑軌3優(yōu)選為橫截面為倒T形的軌道。

較佳的，所述第三滑軌50包括短邊滑軌500和與所述短邊滑軌500相垂直的長(zhǎng)邊滑軌501，所述短邊滑軌500與所述第一滑軌3滑動(dòng)式連接，并且短邊滑軌500與所述第一滑軌3相垂直，短邊滑軌500與水平面平行，長(zhǎng)邊滑軌501垂直于水平面。優(yōu)選的，所述短邊滑軌500和長(zhǎng)邊滑軌501連接成L形，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置51設(shè)置在所述長(zhǎng)邊滑軌501上，所述第二驅(qū)動(dòng)裝置53設(shè)置在所述短邊滑軌500上。備用機(jī)械臂5沿第三滑軌50進(jìn)行滑動(dòng)，實(shí)現(xiàn)備用機(jī)械臂5位置的調(diào)整。

其中，為了實(shí)現(xiàn)備用機(jī)械臂5在縱向和橫向方向位置的調(diào)整，優(yōu)選的，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置51為縱向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)；所述第二驅(qū)動(dòng)裝置53為橫向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，從而提供不同方向的驅(qū)動(dòng)力，為后續(xù)啟用備用機(jī)械臂5工作奠定基礎(chǔ)。

濕法刻蝕機(jī)臺(tái)還包括設(shè)置于基座1上的干燥槽，實(shí)現(xiàn)對(duì)經(jīng)過(guò)所有處理槽2處理后的晶圓進(jìn)行干燥處理。從而獲得干燥清潔的晶圓

具體的，如圖4所示，在濕法刻蝕機(jī)臺(tái)正常工作時(shí)，備用機(jī)械臂5懸空設(shè)置；如圖5所示，在一搬運(yùn)機(jī)械臂4存在故障時(shí)，首先，利用故障搬運(yùn)機(jī)械臂4的第二滑軌40，故障搬運(yùn)機(jī)械臂4的立柱41位置保持不變，故障搬運(yùn)機(jī)械臂4的機(jī)頭42以及與機(jī)頭42連接的搬運(yùn)夾子43撤離其操作位置，從而騰出故障搬運(yùn)機(jī)械臂4所占用的操作空間；接著，啟用備用機(jī)械臂5，在第二驅(qū)動(dòng)裝置53的驅(qū)動(dòng)力下，備用機(jī)械臂5的第三滑軌50中的短邊滑軌500沿第一滑軌3滑動(dòng)到故障搬運(yùn)機(jī)械臂4的操作位置，接著，在備用機(jī)械臂5的備用夾子52在第一驅(qū)動(dòng)裝置51的驅(qū)動(dòng)力作用下沿第三滑軌50中的長(zhǎng)邊滑軌501滑動(dòng)，以使備用夾子52升降到合適的操作位置，代替故障機(jī)械臂繼續(xù)工作，從而避免因機(jī)臺(tái)故障，搬運(yùn)機(jī)械臂4無(wú)法正常工作，晶圓在處理槽2內(nèi)侵泡時(shí)間過(guò)長(zhǎng)對(duì)制程造成的影響，提高了成品率及工作效率。

綜上，在本實(shí)用新型所提供的濕法刻蝕機(jī)臺(tái)中，所述濕法刻蝕機(jī)臺(tái)包括基座、設(shè)置于基座上的多個(gè)處理槽、多個(gè)搬運(yùn)機(jī)械臂、第一滑軌、備用機(jī)械臂、多個(gè)第二滑軌；每個(gè)搬運(yùn)機(jī)械臂均對(duì)應(yīng)一個(gè)處理槽；第一滑軌跨越所有的搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置；備用機(jī)械臂設(shè)置于第一滑軌上，并在第一滑軌上滑動(dòng)；每個(gè)第二滑軌均對(duì)應(yīng)一個(gè)搬運(yùn)機(jī)械臂；當(dāng)某一搬運(yùn)機(jī)械臂存在故障時(shí)，某一搬運(yùn)機(jī)械臂在對(duì)應(yīng)的第二滑軌的作用下撤離某一搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置，備用機(jī)械臂在第一滑軌的作用下到達(dá)某一搬運(yùn)機(jī)械臂的操作位置，并替代某一搬運(yùn)機(jī)械臂進(jìn)行工作。避免因搬運(yùn)機(jī)械臂故障，無(wú)法進(jìn)行晶圓的搬運(yùn)，晶圓在處理槽內(nèi)侵泡時(shí)間過(guò)長(zhǎng)對(duì)制程造成的影響，提高了成品率及工作效率。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包括這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。